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Gebiet der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft elektroluminiszierende Vorrichtungen
und insbesondere die Herstellung organischer lichtemittierender
Dioden zur Verwendung in Matrix-adressierten Anzeigen.
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Hintergrund
der Erfindung
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Auf
organischen Polymeren basierende elektroluminiszierende Vorrichtungen
(OLEDs) bilden potentielle kostengünstige Alternativen für alphanumerische
Anzeigen und x-y-adressierbare
Anzeigen. Typischerweise besteht eine OLED aus einem mit einem transparenten
leitfähigen
Material beschichteten Substrat, wie beispielsweise Indium-Zinn-Oxid
(ITO), hat ein bis fünf
organische Schichten und eine durch Verdampfen oder Sputtern eines
Metalls mit Eigenschaften einer geringen Austrittsarbeit, wie beispielsweise
Ca oder Mg, hergestellte Kathode. Die organischen Schichten sind
so gewählt,
daß sie
eine Injektion von Ladungsträgern und
einen Transport von Ladungsträgern
von beiden Elektroden zur elektroluminiszierenden organischen Schicht
(EL) gewährleisten,
wo die Ladungen unter Aussendung von Licht rekombinieren. Gewöhnlich sind
eine oder zwei organische Lochtransportschichten (HTL) zwischen
der ITO und EL sowie eine oder zwei Elektroneninjektions- und Transportschichten (ETL)
zwischen der Kathode und der EL vorgesehen.
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OLEDs
werden gewöhnlich
entweder durch Abscheiden der organischen Schichten unter Vakuum
(typischerweise Farbstoffe mit niedrigem Molekulargewicht) auf das
Substrat oder durch Schleuderguß aus
Lösungen
im flüssigen
Zustand hergestellt. In der folgenden Erläuterung wird eine unter Vakuum abgeschiedene
Farbstoffvorrichtung als „D-OLED" und eine auf Polymeren
basierende Vorrichtung als „P-OLED" bezeichnet. Bei
einigen Vorrichtungen wird eine Mischung aus beiden Techniken angewandt.
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Zur
Definition von Pixeln und anderen Mustern (wie beispielsweise von
Piktogrammen) auf einer Anzeige müssen das ITO, die organischen Schichten
und die Kathode strukturiert werden. Die Strukturierung der ITO-Schicht
kann mit Hilfe herkömmlicher
photolithographischer Techniken durchgeführt werden.
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Jedoch
beinhaltet das Strukturieren der organischen Schichten und der Kathode
Schwierigkeiten, die eine kommerzielle Entwicklung von OLEDs behindern.
Insbesondere ist es schwierig hochaufgelöste Muster mittels Gasphasenabscheidung
von Materialien durch Schattenmasken zu erzielen. Um dieses Problem
zu umgehen, wird bei typischen D-OLEDs ein „Selbststrukturierungs"-Ansatz verwendet,
bei dem zwei Schichten aus Photolack auf ein ITO unter Verwendung
von Mikrolithographie geformt werden, um eine Topologie zu erzeugen,
die die Kontinuität
der Farbstoff- und Kathodenfilme in diskrete Reihen (oder Spalten)
unterbricht, wenn die Kathode abgeschieden wird. Während diese
Methodik hochaufgelöste
Muster garantiert, ist die Konstruktion von Mehrfarbenanzeigen mittels
dieser Technik problematisch. Insbesondere sind Konstruktionen, bei
welchen unterschiedliche Farbpixel durch Abscheiden unterschiedlicher
lichtaussendender Farbstoffe aufgebaut werden, schwierig zu realisieren.
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Durch
Schleudern gegossene Polymere erlauben die Erzeugung von Mehrfarbenanzeigen,
bei. welchen unterschiedliche Pixel aus unterschiedlichen Polymeren
aufgebaut werden. Es wurden Systeme zur photolithographischen Strukturierung
der verschiedenen Polymerschichten für einige dieser Polymere entwickelt.
Beispielsweise wird die Strukturierung organischer Polymere zur
Verwendung zur Herstellung von Mehrfarbenanzeigen in der PCT-Anmeldung
PCT/GB97/00995 offenbart. Jedoch wird die Abscheidung der Kathode
bei P-OLEDs typischerweise durch Abscheiden der Kathode durch eine
Schattenmaske ausgeführt.
Dieser Schattenmaskierungsprozeß weist
eine geringere Auflösung auf
als die bei D-OLEDs verwendeten auf Photolithographie basierenden
Verfahren.
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Ein
zweites Problem bei P-OLED-Vorrichtungen ist die Neigung der Anode
und Kathode zu Kurzschlüssen
durch die dünnen
Polymerschichten. Die Polymerschichten umfassen typischerweise 0,1 μm. Die ITO-Schicht,
auf der das Polymer geformt wird, umfaßt ebenfalls ungefähr diese
Dicke. Eine P-OLED-Vorrichtung wird typischerweise durch Ätzen von
Spaltenelektroden aus ITO, Beschichten der ITO-Spalten mit den entsprechenden
Farbpolymeren mittels einem oder mehreren Schleudergußschritten und
darauffolgendes Abscheiden von Reihenelektroden für die Kathode
aufgebaut. Die Qualität
der Polymerschichten an den Punkten, an welchen die Schichten einen
Schritt aufwärts
zu den ITO-Anoden und einen Schritt abwärts davon zu den Räumen zwischen
den ITO-Anoden bilden, ist häufig
sehr unvollkommen. Insbesondere bestehen an diesen Punkten Löcher oder
andere Brüche
in den Polymerschichten. Wenn die Kathodenschicht in Reihen über der
Polymerschicht abgeschieden wird, entstehen Kurzschlüsse zwischen
der Kathode und der darunterliegenden ITO-Anode. Diese Kurzschlüsse führen zu
einer geringen Vorrichtungsausbeute.
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Die
Verwendung einer Isolationsschicht zur Verhinderung von Kurzschlüssen zwischen
der Kathode und Anode wird in der EP-A-0732868 beschrieben.
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Im
allgemeinen ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein verbessertes
Verfahren zur Herstellung von P-OLED-Anzeigen bereitzustellen.
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Es
ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Konstruktion von P-OLED-Anzeigen bereitzustellen, das es ermöglicht,
die bei auf Photolithographie basierenden Methoden erreichte Auflösung auch
bei Kathodenelektroden zu erzielen.
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Es
ist noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Konstruktion von P-OLED-Anzeigen bereitzustellen, bei dem das Kurzschlußproblem
zwischen den Anoden- und Kathodenelektroden vermieden wird.
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Diese
und weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden für den Fachmann
aus der folgenden detaillierten Beschreibung der Erfindung und den
begleitenden Zeichnungen erkennbar.
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Abriß der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Anzeige gemäß Anspruch 1 und ein Herstellungsverfahren für eine derartige
Anzeige gemäß Anspruch
6.
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Die
vorliegende Erfindung ist eine Anzeige mit mehreren adressierbaren
Pixeln und ein Verfahren zum Aufbau derselben. Die Anzeige umfaßt ein Substrat
mit einer darauf vorgesehenen ersten leitenden Schicht. Die leitende
Schicht weist mehrere parallele Reihenelektroden auf, deren Ränder durch
isolierendes Material getrennt sind. Eine erste EL-Polymerschicht
ist den parallelen Reihenelektroden überlagert. Eine Isolationsschicht überlagert
die EL-Polymerschicht,
wobei die Isolationsschicht darin Fenster aufweist, die Pixel für die Anzeige
definieren. Die Isolationsschicht überlagert die Ränder der
Reihenelektroden, während
sie einen Zugang zur ersten EL-Polymerschicht im Bereich der Pixel
bietet. Eine zweite leitende Schicht ist der Isolationsschicht überlagert und
umfaßt
mehrere getrennte Spaltenelektroden. Jede Spaltenelektrode kreuzt
mehrere Reihenelektroden und ist über den Fenstern in der Isolationsschicht
an Punkten angeordnet, die die Pixel definieren. Die zweite leitende
Schicht ist vorzugsweise durch Abscheiden einer Schicht aus Photolack über der
Isolationsschicht und Strukturieren der Photolackschicht zur Bereitstellung
von sich durch diese erstreckenden Öffnungen aufgebaut. Die Öffnungen sind
im Abschnitt der zur Isolationsschicht nächstgelegenen Schicht breiter.
Diese Schicht dient als Schattenmaske für die Abscheidung einer Schicht aus
einem leitfähigen
Material. Bei einer Ausführungsform
der Erfindung befindet sich neben der Isolationsschicht und der
zweiten leitfähigen
Schicht eine zweite Polymerschicht. Die Isolationsschicht ist vorzugsweise
aus einer Schicht aus Photolack aufgebaut, die zur Vernetzung des
Photolacks ausgehärtet
wird. Die Polymerschichten umfassen ein elektroluminiszierendes
Material, das vorzugsweise auf einem Polyfluoren und Polyphenylenvinylen
(PPV) basiert.
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Kurzbeschreibung
der Zeichnungen
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1 ist
eine Draufsicht auf einen Teil einer Anzeige gemäß der vorliegenden Erfindung
nach der Abscheidung einer mit Fenstern versehenen Isolationsschicht.
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2 ist
ein Querschnitt der in 1 gezeigten Anzeige entlang
der Linie 20-21.
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3 ist
ein Querschnitt der in 1 gezeigten Anzeige entlang
der Linie 22-23.
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4 ist
eine Draufsicht auf die in 1 gezeigte
Anzeige, nachdem die abgeschrägte
Photolackschicht abgeschieden wurde.
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5 ist
eine Querschnittsansicht der in 4 gezeigten
Anzeige.
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6 ist
eine Querschnittsansicht eines Teils einer Anzeige gemäß der vorliegenden
Erfindung, bei der die Polymerschicht in zwei Schichten aufgeteilt
ist.
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Detaillierte Beschreibung
der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht ihre Vorteile aus der Verwendung einer
Isolationsschicht mit Fenstern, die die aktiven Pixelbereiche definieren. Die
Isolationsschicht trennt die Kathode in den die Ränder der
Anode überlagernden
Bereichen von der Anode. Somit verhindert diese Schicht einen Kurzschluß durch
Unvollkommenheiten im EL-Polymerfilm in der Umgebung der Ränder der
Anodenelektroden. Zusätzlich
zeigt die Isolationsschicht eine Tendenz, die aktiven emittierenden
Bereiche zu planarisieren, wodurch Stufenabdeckungsprobleme beim Abscheiden
der Kathode reduziert werden. Schließlich bietet die Isolationsschicht
eine Basis für
den Aufbau einer Maskenstruktur, welche die Kathode definiert.
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Die
Weise, in der der eine Anzeige gemäß der vorliegenden Erfindung
aufgebaut ist, wird unter Bezugnahme auf die 1–3 besser
verständlich. 1 ist
eine Draufsicht eines Teils einer Anzeige 10 nach einem
Abscheiden und Strukturieren der oben erläuterten Isolationsschicht. 2 ist
ein Querschnitt der Anzeige 10 längs der Linie 20-21. 3 ist
ein Querschnitt einer Anzeige 10 längs der Linie 22-23. Die Anzeige 10 ist
auf einem transparenten Substrat 12 aufgebaut. Eine Schicht
eines transparenten Anodenmaterials, wie beispielsweise Indium-Zinn-Oxid,
wird auf dem Substrat 12 abgeschieden und zur Ausbildung
der Anodenelektroden 13, die alle Pixel in einer Reihe
verbinden, geätzt.
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Diese
Polymerschichten, die den Temperaturen und Prozeßschritten, die zur Abscheidung
der Isolationsschicht 14 verwendet werden, widerstehen können, werden
auf den Anodenelektroden mittels einer oder mehrerer Schleudergußschritte
zur Ausbildung einer Schicht 16 abgeschieden. Es ist zu
beachten, daß die
Schicht 16 im Fall einer Farbanzeige Bereiche mit unterschiedlichen
Polymeren umfassen kann. Das bedeutet, daß die Bereiche der Polymerschicht 16,
die unterschiedliche Farben aussenden, unter Verwendung photolithographischer
Techniken getrennt strukturiert werden können. Typischerweise wird auf
der Anode eine Lochtransportschicht, welche für alle Pixel dieselbe darstellt,
abgeschieden. Eine EL-Schicht wird dann auf der HTL strukturiert. Falls
mehr als ein Farbpixel vorhanden ist, wird die EL-Schicht für jede Farbe
getrennt abgeschieden und so strukturiert, daß die unterschiedlichen Farbpixel
unterschiedliche EL-Materialien umfassen. Schließlich wird eine ETL-Schicht
auf der EL-Schicht abgeschieden.
Da die Abscheidung und Strukturierung der individuellen Polymerschichten
für mit
Pixeln versehene Anzeigen im Stand der Technik bekannt sind und
für die vorliegende
Erfindung keine Relevanz haben, wird hier keine detaillierte Beschreibung
dieser Verarbeitungsschritte angegeben.
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Es
wurde eine Anzahl unterschiedlicher Systeme zur Erzeugung von Polymerschichten
mit unterschiedlichen Farbe aussendenden Bereichen offenbart. Der
Leser wird auf die oben erwähnte
PCT-Anmeldung PCT/GB97/00995 und „Integrated organic light
emitting diode structures using doped polymers" von Strum und Wu, Society for Information
display Conference Proceedings, September 15–19, 1997, Toronto, Kanada,
für Beispiele
derartiger Strukturierungssysteme hingewiesen. Für die Zwecke der vorliegenden
Erfindung werden verschiedene Polymerschichten als eine einzelne
Schicht oder Doppelschicht mit verschiedenen Komponenten behandelt.
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Nachdem
die Polymerschicht abgeschieden wurde, wird eine Isolierschicht 14 auf
der Vorrichtung abgeschieden und zur Ausbildung von Fenstern 15 darin
strukturiert. Die Fenster sind den Anodenelektroden zur Definition
des lichtaussendenden Bereichs jedes Pixels überlagert. Es ist zu beachten,
daß die Fenster
nicht die Ränder 17 der
Anoden 13 überlagern.
Somit werden jegliche Unvollkommenheiten im Polymerfilm, die vom
Schleuderguß der
Polymerschichten stammen, mittels der Isolationsschicht von der
Anode getrennt.
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Bei
der bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung handelt es sich bei der Isolationschicht 14 um
eine Schicht aus Photolack, die durch Aushärten nach einem Strukturieren
vernetzt wird. Beispielsweise kann die Schicht 14 aus herkömmlichen
positiven Photolacken, wie beispielsweise AZ-240 (Hoeschst Corp.,
AZ-Photolackprodukte, Sumerville, NJ) aufgebaut sein. Der Photolack
wird photolithographisch durch Belichten mit UV durch eine Photomaske
und Entwickeln mit AZ 400 K strukturiert. Nachdem das Material im
Fensterbereich entfernt wurde, wird die Vorrichtung bei 140°C über 30 min.
ausgehärtet.
Für den
Fachmann ist aus der vorhergehenden Erläuterung verständlich,
daß die
Polymerschicht 16 den zur Abscheidung, Entwicklung und
Aushärtung
der Isolationsschicht 14 notwendigen Bearbeitungsschritten standhalten
muß.
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Falls
eine der Komponentenschichten, aus welchen die Schicht 16 aufgebaut
ist, diesen Bedingungen nicht standhalten kann, werden diese Schichten
auf der Isolationsschicht 14 abgeschieden, nachdem die
Schicht 14 abgeschieden und ausgehärtet wurde. In diesem Fall
ist die Schicht 16 in zwei Schichten getrennt. Die erste
Schicht umfaßt
die HTL und alle Komponen tenpolymerschichten, die dem Abscheiden
der Isolationsschicht 14 standhalten können, bis zur ersten Schicht,
die diesen Bedingungen nicht standhalten kann. Die verbleibenden Schichten
werden dann auf der Isolationsschicht 14 abgeschieden.
Die Reihenfolge der Komponentenschichten, welche die Schicht 16 bilden,
muß selbstverständlich beibehalten
werden, falls die Schicht geteilt werden soll.
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Die
Abscheidung so vieler Schichten wie möglich unter der Isolationsschicht
gewährleistet eine
verbesserte Filmqualität.
Die Dicke der ITO-Schicht umfaßt
typischerweise 0,5 μm
oder weniger. Daher sind die Stufen in der Anode, die überdeckt
werden müssen,
wenn die Polymerschichten auf die Anode aufgeschleudert wurden,
verglichen mit der Stufe in der Isolationsschicht, die typischerweise
1 μm umfaßt, relativ
gemäßigt. Die
zusätzliche Stufenhöhe kann
zu Unvollkommenheiten in den Polymerschichten führen, die oben auf die Isolationsschicht
aufgeschleudert werden.
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Zusätzlich zur
Widerstandsfähigkeit
gegen das Aushärten
der Isolationsschicht 14 muß der Teil der Schicht 16,
der unter der Schicht 14 liegt, auch den der Abscheidung
der Schicht 14 inhärenten
chemischen Verarbeitungsschritten standhalten. Insbesondere muß das HTL-Material eine gute
Haftung auf ITO aufweisen.
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Die
Unterschichten der Schicht 16, die unter der Schicht 14 abgeschieden
sind, müssen
auch mit der Ablagerung des Photolacks kompatibel sein. Insbesondere
müssen
diese Schichten den beim Photolack verwendeten Lösungsmitteln standhalten und müssen eine
gute Haftung am Photolack aufweisen. Bei der bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung werden für den Photolack auf Wasser basierende
Lösungsmittel
zur Entwicklung desselben verwendet. Zusätzlich ist eine Widerstandsfähigkeit gegen
Aceton, Isopropylalkohol und gesättigten
Ammoniakdampf erforderlich. Schließlich müssen die Materialien dieser
Schichten einer Belichtung sowohl mit sichtbarem als auch UV-Licht
standhalten. Hier bedeutet „standhalten", daß die Schicht
ihre mechanische Integrität,
Widerstandsfähigkeit
gegen Ablösen
und elektronischen Eigenschaften (Ladungstransport und Leuchtdichte) über den
Prozeß beibehält.
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Die
HTL-Schicht kann aus einer oder mehreren Polymerschichten aufgebaut
sein, die in den Photolacklösungsmitteln
nicht löslich
sind. Es werden Polymere bevorzugt, die in Xylol, Wasser, Isopropylalkohol
oder Aceton nicht löslich
sind. Beispielsweise kann die HTL- Schicht aus Poly(2,4-ethylendioxythiophen)(PEDOT)
aufgebaut sein. Eine aus einer Polymermischung basierend auf Polyfluoren
und PPV-Derivaten aufgebaute EL-Schicht wird bevorzugt. Dieses Polymer
ist löslich
in Xylol und nicht löslich
in Wasser, Aceton oder Isopropylalkohol. Die kombinierte Dicke der
beiden Polymere beträgt
typischerweise 150 nm.
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Wie
oben erwähnt,
können,
falls dies notwendig ist, andere Schichten aus Polymermaterialien auf
der Isolationsschicht 14 abgeschieden werden. Die Isolationsschicht 14 beträgt typischerweise
1 μm. Während diese
Dicke zur teilweisen Planarisierung der Vorrichtung ausreichend
ist, ist sie nicht so dick, daß sie
den Schleuderguß anderer
Polymerschichten wesentlich beeinträchtigt. Für die Zwecke der vorliegenden
Erläuterung
wird angenommen, daß keine derartigen
zusätzlichen
Schichten notwendig sind, da die oben erläuterten auf Polyfluoren basierenden
Polymere ausreichend widerstandsfähig für den Photolackabscheideprozeß sind,
so daß sie
dem Aufbau der Schicht 14 darauf widerstehen.
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Wie
oben erläutert,
besteht ein Problem bei P-OLED-Anzeigen des Stands der Technik im
zur Abscheidung der Kathodenelektroden verwendeten Schattenmaskierungssystem.
Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird dieses Problem durch Verwenden einer abgeschrägten Photolackmaske
vermieden, durch die effektiv eine sehr nahe an der Oberfläche der
Vorrichtung angeordnete Schattenmaske bereitgestellt wird. Das Metall
für die
Kathodenelektroden wird dann durch diese Maske abgeschieden. Die
Auflösung
der erhaltenen Kathodenelektroden wird durch die Auflösung des
bei der Abscheidung und Entwicklung des abgeschrägten Photolacks verwendeten
photolithographischen Prozesses festgelegt.
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Im
folgenden wird auf 4–5 Bezug genommen. 4 ist
eine Draufsicht auf einen Teil einer Anzeige 10, nachdem
die abgeschrägte
Photolackschicht 30 abgeschieden wurde. 5 ist
eine Ansicht im Querschnitt einer zur in 2 gezeigten Anzeige 10 ähnlichen
Anzeige, nachdem die abgeschrägte
Photolackschicht und das Kathodenmaterial abgeschieden wurden. Das
Kathodenmaterial 31 wird mittels Verdampfen auf der abgeschrägten Photolackschicht 30 abgeschieden.
Die abgeschrägte Photolackschicht
ermöglicht
die Abscheidung der Kathodenschicht 31 in der Weise, daß eine Kathode 32 bereitgestellt
wird, die keinen Kontakt mit dem abgeschrägten Photolack aufweist. Dementsprechend kann
der Photolack entfernt werden, ohne daß die Kathodenleitungen Belastungen
unterworfen werden, die die Kathodenleitungen unterbrechen könnten.
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Der
Aufbau der abgeschrägten
Photolackschicht ist im Stand der Technik bekannt und wird daher
hier nicht in Einzelheiten erläutert.
Der Aufbau derartiger abgeschrägter
oder überhängender Schichten
wird in Einzelheiten in „Single-Step
Optical Lift-Off Process" von
Hatzakis et al., IBM J. Res. Develop., 34, S. 452–458, 1980
erläutert.
Bei der bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung wird dasselbe Photolackmaterial wie für die Isolationsschicht 14 verwendet.
Jedoch wird das Material mit einer Dicke von ungefähr 7 μm abgeschieden.
Die Schicht wird durch Belichten mit einer Breitband-UV-Quelle strukturiert.
Der belichtete Photolack wird zuerst in einem Ofen bei 90°C in einem
Vakuum ausgehärtet
und dann in NH3 getempert. Der Photolack
wird dann vom NH3 entfernt, mit UV belichtet
und dann in einer alkalischen Lösung
entwickelt. Der Grad der erzeugten Abschrägung ist primär durch
die Anfangsbelichtungsenergie und die Konzentration des Entwicklers
bestimmt. Bei der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird eine Abschrägung
von 75° verwendet.
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Wie
oben erwähnt,
werden vor der Abscheidung einer Isolationsschicht 14 vorzugsweise
Polymerschichten abgeschieden, die dem Aushärten der Isolationsschicht 14 widerstehen.
Falls jedoch eine oder mehrere Polymerschichten den hohen Aushärtetemperaturen
nicht widerstehen können,
kann die Schicht 16 in zwei Schichten aufgespaltet werden, wie
in 6 gezeigt ist. 6 ist eine
Ansicht im Querschnitt eines Teils einer Anzeige 40, bei
der die Polymerschicht in zwei Schichten aufgeteilt ist, die bei 160 und 161 gezeigt
sind. Zur Vereinfachung der Zeichnung wurden jene Elemente, die
derselben Funktion dienen, wie die oben mit Bezug zur Anzeige 10 erläuterten
Elemente, mit denselben Bezugszeichen versehen. Die Polymerschicht 160 umfaßt den Teil
des Polymerschichtstapels der den bei der Abscheidung der Isolationsschicht 14 verwendeten Aushärtetemperaturen
widerstehen kann. Nachdem die Isolationsschicht vervollständigt ist,
werden die verbleibenden Polymerschichten, wie bei 161 gezeigt ist,
abgeschieden. Die abgeschrägte
Photolackschicht 30 wird dann auf der Polymerschicht 161 abgeschieden.
Das Kathodenmaterial 31 wird dann durch die abgeschrägte Photolackschicht
abgeschieden, um die bei 32 gezeigten Kathodenelektroden herzustellen.
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Das
oben erläuterte
Isolationsfenster hat in Systemen, in welchen die darunter liegenden
Polymerschichten als dünne „Streifen" abgeschieden sind,
zusätzliche
Vorteile. Ein Verfahren zur Herstellung von Mehrfarbenanzeigen besteht
darin, die EL-Polymerschichten als dünne Streifen unter Verwendung
einer herkömmlichen
Drucktechnik zu „drucken". Jede Farbe entspricht
einem Streifen eines anderen EL-Polymers. Mit diesen Prozeduren
kann im Gegensatz zu den wiederholten Strukturierungs- und Abscheideschritten,
die erforderlich sind, um die EL-Polymerbereiche mittels photolithographischer Verfahren
aufzubringen, ein Mittel zur Erzeugung von Bereichen mit unterschiedlichen
Farbpolymeren in einem Schritt bereitgestellt werden. Nachteiligerweise
sind die durch Drucken erhaltenen Polymerstreifen sehr dünn und neigen
dazu, die darunter liegenden Schichten abzuheben. Die bei der vorliegenden Erfindung
verwendeten Isolationsfenster bilden ein Mittel zur Verhinderung
eines derartigen Abhebens, da das Isolationsmaterial die Ränder überdeckt
und somit die Ränder
nach unten fixiert.
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Verschiedene
Abwandlungen der vorliegenden Erfindung ergeben sich dem Fachmann
aus der vorhergehenden Beschreibung und den begleitenden Zeichnungen.
Dementsprechend ist die vorliegende Erfindung lediglich durch den
Umfang der vorliegenden Ansprüche
beschränkt
anzusehen.