DE19802347B4 - Stapelbares Halbleitersubstrat und stapelbare Halbleiterbaugruppe sowie Herstellungsverfahren derselben und Herstellungsverfahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls - Google Patents
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Abstract
Stapelbares
Halbleitersubstrat, umfassend:
– einen nicht-leitenden Substrathauptkörper (21) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, leitenden Drähten (22);
– eine in einem oberen mittigen Abschnitt des Substrathauptkörpers ausgeformte Ausnehmung (24);
– eine Vielzahl von Verbindungslöchern (25), die senkrecht durch die Kantenabschnitte des Substrathauptkörpers treten; wobei ein gestufter Abschnitt (23) in einer Seitenwand der Ausnehmung ausgeformt ist und ein Ende jedes der leitenden Drähte (22) durch eine Oberseite des gestuften Abschnitts (23) austritt und sich das andere Ende eines jeden der leitenden Drähte in das Verbindungsloch erstreckt.
– einen nicht-leitenden Substrathauptkörper (21) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, leitenden Drähten (22);
– eine in einem oberen mittigen Abschnitt des Substrathauptkörpers ausgeformte Ausnehmung (24);
– eine Vielzahl von Verbindungslöchern (25), die senkrecht durch die Kantenabschnitte des Substrathauptkörpers treten; wobei ein gestufter Abschnitt (23) in einer Seitenwand der Ausnehmung ausgeformt ist und ein Ende jedes der leitenden Drähte (22) durch eine Oberseite des gestuften Abschnitts (23) austritt und sich das andere Ende eines jeden der leitenden Drähte in das Verbindungsloch erstreckt.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Halbleitersubstrat und eine stapelbare Halbleiterbaugruppe sowie ein Herstellungsverfahren derselben, insbesondere eine verbesserte Halbleiterbaugruppe mit Kugel/Gitter-Anordnung (BGA – ball grid array) und ein Herstellungsverfahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls.
-
1 stellt die Bauweise einer herkömmlichen BGA-Halbleiterbaugruppe dar. Wie dort gezeigt, ist ein Substrathauptkörper11 bereitgestellt. Eine Vielzahl von strukturierten, leitenden Drähten (nicht gezeigt) ist innerhalb des Substrathauptkörpers11 ausgeformt. Ein Halbleiterplättchen13 mit einer Vielzahl von Halbleiterkontaktierungsflecken (nicht gezeigt) ist an der Oberseite des Substrathauptkörpers11 unter Verwendung eines Haftmittels15 befestigt. Die Halbleiterkontaktierungsflecken sind elektrisch mit den leitenden Drähten durch eine Vielzahl von Metalldrähten17 verbunden. Ein Formteilabschnitt18 ist derart ausgeformt, daß ein vorgegebener Abschnitt des Substrathauptkörpers11 in einer Epoxyformmasse liegt, um das Halbleiterplättchen13 und den Metalldraht17 einzuschließen. Darüber hinaus ist eine Vielzahl von Lötkugeln19 an der Unterseite des Substrats11 zur Verbindung mit den leitenden, im Substrat11 ausgeformten Drähten befestigt. Bei einer herkömmlichen BGA-Halbleiterbaugruppe jedoch ist es aufgrund der strukturellen Eigenschaften unmöglich, die Halbleiterplättchen übereinander zu stapeln, und somit unmöglich ein in hohem Maße integriertes Speichermodul auf einer begrenzten Fläche zu formen. - Die JP 4-30561 A in Patent Abstracts of Japan, E-1201, May 13, 1992, vol. 16/No. 200 beschreibt übereinander gestapelte Halbleiterbaugruppen, wobei die Verbindungsdrähte zum Chip in jeder Baugruppe mit einem horizontalen Leiterabschnitt verbunden sind, der sich zu einer Öffnung erstreckt, die senkrecht durch den Substrathauptkörper verläuft und in der ein leitender Stift angeordnet ist.
-
DE 43 03 734 C2 beschreibt einen Chipträger für Bauelemente mit Kontaktstiften an der Unterseite des Chipträgers und Kontaktbuchsen auf dessen Oberseite, wobei mehrere Chipträger aufeinandersteckbar sind. -
JP 08186192 A -
US 5,043,794 offenbart ein stapelbares Halbleitersubstrat, bei dem sich leitende Verbindungen durch Kantenabschnitte eines Substratkörpers senkrecht und waagrecht erstrecken. -
US 5,611,876 offenbart ein stapelbares mehrschichtiges Halbleitersubstrat, bei dem sich leitende Kontaktzungen von einer Oberseite eines gestuften Abschnitts, der in einer Seitenwand einer mittig ausgebildeten Ausnehmung ausgeformt ist, in Richtung zu der Ausnehmung erstrecken. - Es ist Ziel der Erfindung, ein stapelbares Halbleitersubstrat und eine stapelbare Halbleiterbaugruppe sowie ein Herstellungsverfahren derselben und ein Herstellungsverfahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls bereitzustellen, die es ermöglichen, ein auf eine noch einfachere Weise in hohem Maße integriertes Halbleitermodul auf einer begrenzten Fläche zu formen.
- Ein dieses Ziel erreichendes stapelbares Halbleitersubstrat ist im Anspruch 1, eine entsprechende stapelbare Halbleitergruppe im Anspruch 5 und ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Halbleiterbaugruppe ist im Anspruch 6 definiert. Ein Herstellungsverfahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls ist im Anspruch 11 definiert. Vorteilhafte Ausgestaltungen davon ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
- Nachfolgend werden die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung mit Blick auf die Zeichnung näher erläutert. Es zeigt bzw. zeigen:
-
1 eine Querschnittansicht, die eine herkömmliche Halbleiterbaugruppe mit Kugel/Gitter-Anordnung zeigt; -
2 eine Querschnittansicht, die ein erfindungsgemäßes Halbleitersubstrat zeigt; -
3 eine Querschnittansicht, die eine erfindungsgemäße stapelbare Halbleiterbaugruppe zeigt; -
4A bis4D Querschnittansichten, die ein Herstellungsverfahren einer erfindungsgemäßen, stapelbaren Halbleiterbaugruppe zeigen; und -
5A bis5C Querschnittansichten, die ein Herstellungsverfahren eines erfindungsgemäßen, gestapelten Halbleiterbaugruppenmoduls zeigen. - Ein Halbleitersubstrat und eine stapelbare Halbleiterbaugruppe, die unter Verwendung desselben Herstellungsverfahrens hergestellt werden, sowie ein Halbleiterbaugruppenmodul und ein Herstellungsverfahren desselben werden nun erläutert.
-
2 ist eine Querschnittansicht, die ein erfindungsgemäßes Halbleitersubstrat zeigt. Wie dort gezeigt, ist ein nichtleitender Substrathauptkörper21 bereitgestellt, in dem eine Vielzahl von strukturierten, leitenden Drähten22 eingeschlossen ist. Ein Hohlraum24 mit einem gestuften Abschnitt23 ist in einem mittigen Abschnitt der Oberseite des Substrathauptkörpers21 ausgeformt. Eine Vielzahl von Verbindungslöchern25 , die senkrecht durch den Substrathauptkörper21 treten, sind an beiden Seiten des Hohlraums24 ausgeformt. Ein Ende eines jeden der leitenden Drähte22 liegt auf der Oberseite des gestuften Abschnitts frei, wobei das andere Ende desselben sich in ein entsprechendes Verbindungsloch25 erstreckt. - Darüber hinaus ist ein leitender Metallstab
26 , wie etwa ein Lötstab, in die Verbindungslöcher25 eingefüllt, wobei äußere Anschlüsse27 an der Ober- und der Unterseite des Substrathauptkörpers21 zur elektrischen Verbindung mit beiden Enden eines jeden der Metallstäbe26 befestigt sind. Hierbei können die Metallstäbe26 und die äußeren Anschlüsse27 wahlweise gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung ausgeformt sein. -
3 ist eine Querschnittansicht, die eine erfindungsgemäße stapelbare Halbleiterbaugruppe zeigt. Wie dort gezeigt, ist das Halbleiterplättchen unter Verwendung des Halbleitersubstrats aus2 eingefügt. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß3 sind die Elemente, die mit dem Ausführungsbeispiel gemäß2 identisch sind, mit identischen Bezugsziffern versehen. Die Beschreibung derselben wird daher weggelassen. - Wie in
3 gezeigt, ist ein Halbleiterplättchen33 an einer tiefliegenden Fläche des Hohlraums24 unter Verwendung eines Haftmittels31 befestigt. Eine Vielzahl von leitenden Drähten35 wird dazu verwendet, das Halbleiterplättchen33 und die leitenden Drähte22 elektrisch zu verbinden, wobei eine Formmasse37 in den Hohlraum24 gefüllt ist, wodurch das Halbleiterplättchen33 und die Drähte35 eingekapselt werden. - Das Herstellungsverfahren einer erfindungsgemäßen stapelbaren Halbleiterbaugruppe wird nun unter Bezugnahme auf die
4A bis4D erläutert. - Zunächst wird, wie in
4A gezeigt, ein nicht-leitender Substrathauptkörper21 mit einer Vielzahl von strukturierten, leitenden Drähten22 bereitgestellt, wobei ein Hohlraum24 auf dem mittigen oberen Abschnitt des Substrathauptkörpers21 ausgeformt ist und einen gestuften Abschnitt23 aufweist. Die Verbindungslöcher25 sind so ausgeformt, daß sie senkrecht durch den Substrathauptkörper21 nahe dem Hohlraum24 treten. Die leitenden Drähte22 sind so strukturiert, daß ein Ende eines jeden der leitenden Drähte22 auf der Oberseite des gestuften Abschnitts23 freiliegt, wobei das andere Ende desselben in dem Verbindungsloch25 freiliegt. - Wie in
4B gezeigt wird ein Drahtverbindungsverfahren auf solche Weise durchgeführt, daß ein Halbleiterplättchen33 am Boden des Hohlraums24 unter Verwendung eines Haftmittels31 befestigt wird, wobei das Halbleiterplättchen33 und die leitenden Drähte22 durch die leitenden Drähte35 verbunden sind. - Als nächstes wird, wie in
4C gezeigt, ein Formgießverfahren auf solche Weise durchgeführt, daß eine Formmasse in den Hohlraum24 gefüllt wird und anschließend das Halbleiterplättchen33 und die Drähte35 vergossen werden. - Darüber hinaus kann, wie in
4D gezeigt, ein Verfahren eingesetzt werden, bei dem ein leitendes metallisches Material26 , wie etwa ein Lötstab, in jedes Verbindungsloch25 eingefüllt wird, und leitende äußere Anschlüsse27 , wie etwa Lötkugeln, an der Ober- und der Unterseite des Substrathauptkörpers21 befestigt werden, so daß beide Enden jedes leitenden metallischen Materials26 elektrisch verbunden sind. Das Einfüllverfahren des metallischen Materials wird in ein Verfahren zum Einfügens eines Lötstabes in die Verbindungslöcher25 und ein Verfahren zum Schmelzen und Härten der Lötstange eingeteilt. - Die
5A bis5C sind Querschnittansichten, die ein Herstellungsverfahren eines erfindungsgemäßen stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls zeigen. - Wie in
5A gezeigt, sind die stapelbaren Halbleiterbaugruppen100 ,110 und120 , die in4C gezeigt sind, in Form von Mehrfachreihen übereinander gestapelt. Beim Stapeln derselben werden die stapelbaren Halbleiterbaugruppen100 ,110 und120 genau ausgerichtet und übereinander gestapelt, wobei die in den stapelbaren Halbleiterbaugruppen100 ,110 und120 ausgeformten Verbindungslöcher25 ausgerichtet werden. - Wie in
5B gezeigt, wird bei einem Einfüllverfahren eines metallischen Materials ein leitendes metallisches Material26 in die derart ausgerichteten Verbindungslöcher25 gefüllt. Hierbei wird das Einfüllverfahren eines metallischen Materials in ein Verfahren, bei dem ein Lötstab in die ausgerichteten Verbindungslöcher25 gefügt wird, und ein Verfahren eingeteilt, bei dem der Lötstab geschmolzen und gehärtet wird. - Wie in
5C gezeigt, sind die leitenden äußeren Anschlüsse27 an der Oberseite der obersten Schicht der Halbleiterbaugruppe120 und an der Unterseite der untersten Schicht der Halbleiterbaugruppe100 befestigt, so daß beide Enden jedes leitenden metallischen Materials26 elektrisch verbunden sind, wodurch ein erfindungsgemäßes stapelbares Halbleiterbaugruppenmodul hergestellt wird. - Wie vorstehend beschrieben, ermöglicht die Erfindung die Herstellung einer stapelbaren Halbleiterbaugruppe mit einem Halbleiterplättchen auf einem stapelbaren Halbleitersubstrat. Darüber hinaus ist es möglich, ein in hohem Maße integriertes Halbleiterbaugruppenmodul auf einer begrenzten Fläche unter Verwendung von erfindungsgemäßen stapelbaren Halbleiterbaugruppen herzustellen. So ist es möglich, jede Baugruppe genau auszurichten und übereinander zu stapeln, und zwar unter Verwendung der in den stapelbaren, Baugruppen ausgeformten Verbindungslöcher, wobei die Halbleiterplättchen jeder Baugruppe elektrisch durch ein leitendes metallisches Material (Lötstab), das in die Verbindungslöcher gefüllt ist, verbunden sind.
Claims (12)
- Stapelbares Halbleitersubstrat, umfassend: – einen nicht-leitenden Substrathauptkörper (
21 ) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, leitenden Drähten (22 ); – eine in einem oberen mittigen Abschnitt des Substrathauptkörpers ausgeformte Ausnehmung (24 ); – eine Vielzahl von Verbindungslöchern (25 ), die senkrecht durch die Kantenabschnitte des Substrathauptkörpers treten; wobei ein gestufter Abschnitt (23 ) in einer Seitenwand der Ausnehmung ausgeformt ist und ein Ende jedes der leitenden Drähte (22 ) durch eine Oberseite des gestuften Abschnitts (23 ) austritt und sich das andere Ende eines jeden der leitenden Drähte in das Verbindungsloch erstreckt. - Halbleitersubstrat nach Anspruch 1, das ferner einen leitenden metallischen Stab (
26 ) umfaßt, der in jedes Verbindungsloch (25 ) eingefügt ist, wobei ein leitender Anschluß (27 ) auf einer Ober- und einer Unterseite des Substrathauptkörpers zur elektrischen Verbindung beider Enden jedes metallischen Stabes ausgeformt ist. - Halbleitersubstrat nach Anspruch 2, wobei der metallische Stab (
26 ) ein Lötstab ist. - Halbleitersubstrat nach Anspruch 2, wobei der leitende Anschluß (
27 ) aus einem Lötmittel geformt ist. - Stapelbare Halbleiterbaugruppe, umfassend: – einen nicht-leitenden Substrathauptkörper (
21 ) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, strukturierten, leitenden Drähten (22 ); – eine in einem oberen mittigen Abschnitt des Substrathauptkörpers ausgeformte Ausnehmung (24 ); – ein gestufter Abschnitt (23 ), der in einer Seitenwand der Ausnehmung (24 ) ausgeformt ist, – eine Vielzahl von Verbindungslöchern (25 ), die senkrecht durch die Kantenabschnitte des Substrathauptkörpers treten; – ein Halbleiterplättchen (33 ), das an einer tiefliegenden Fläche der Ausnehmung (24 ) befestigt ist; – eine Vielzahl von leitenden Drähten (35 ,37 ) zur elektrischen Verbindung des Halbleiterplättchens und der leitenden Drähte im Substrathauptkörper (21 ), wobei ein Ende eines jeden der leitenden Drähte (22 ) durch eine Oberseite des gestuften Abschnitts (23 ) austritt und sich das andere Ende eines jeden der leitenden Drähte (22 ) in das Verbindungsloch (25 ) erstreckt; – eine Vielzahl von leitenden metallischen Stäben (26 ), die in jedes Verbindungsloch eingefügt sind; – eine Vielzahl von leitenden Anschlüssen (27 ), die an einer Ober- und einer Unterseite des Substrathauptkörpers zur elektrischen Verbindung mit den metallischen Stäben befestigt sind; und – eine Formmasse (37 ), die in die Ausnehmung gefüllt ist, um das Halbleiterplättchen und die Drähte zu verkapseln. - Herstellungsverfahren für eine stapelbare Halbleiterbaugruppe, umfassend die folgenden Schritte: – das Herstellen eines nicht-leitenden Substrathauptkörpers (
21 ) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, strukturierten, leitenden Drähten (22 ); – das Formen einer Ausnehmung (24 ) auf einem oberen mittigen Abschnitt des Substrathauptkörpers und das Formen eines gestuften Abschnitts (28 ) in einer Seitenwand der Ausnehmung, wobei ein Ende eines jeden der leitenden Drähte (22 ) durch eine Oberseite des gestuften Abschnitts (23 ) austritt und sich das andere Ende eines jeden der leitenden Drähte (22 ) in das Verbindungsloch (25 ) erstreckt; – das Formen einer Vielzahl von Verbindungslöchern (25 ), die senkrecht durch einen Kantenabschnitt des Substrathauptkörpers treten; – das Befestigen eines Halbleiterplättchens (33 ) auf einer tiefliegenden Fläche der Ausnehmung (24 ) im Substrathauptkörper; – das elektrische Verbinden des Halbleiterplättchens (33 ) und der leitenden Drähte (22 ) im Substrathauptkörper unter Verwendung von leitenden Drähten (35 ,37 ); und – das Einfüllen einer Formmasse (37 ) in die Ausnehmung (24 ) und das Vergießen des Halbleiterplättchens und der Drähte (35 ,37 ). - Herstellungsverfahren einer stapelbaren Halbleiterbaugruppe nach Anspruch 6, wobei ein leitendes metallisches Material in jedes Verbindungsloch gebracht wird.
- Herstellungsverfahren einer stapelbaren Halbleiterbaugruppe nach Anspruch 7, das ferner den Schritt des Befestigen eines Anschlusses zum Befestigen leitender externer Anschlüsse an einer Ober- und einer Unterseite des Substrathauptkörpers und das elektrische Verbinden mit dem leitenden metallischen Material (
26 ) umfaßt. - Herstellungsverfahren einer stapelbaren Halbleiterbaugruppe nach Anspruch 8, wobei der externe Anschluß aus einem Lötmittel geformt wird.
- Herstellungsverfahren einer stapelbaren Halbleiterbaugruppe nach Anspruch 7, wobei der Schritt des Einfüllens des metallischen Materials in einen Schritt zum Einfügen eines Lötstabes in die Verbindungslöcher und einen Schritt zum Schmelzen und Härten des Lötstabes eingeteilt ist.
- Herstellungsverfahren für ein stapelbares Halbleiterbaugruppenmodul bestehend aus gestapelten Halbleiterbaugruppen (
100 ,110 ,120 ), umfassend die folgenden Schritte: – das Herstellen mindestens eines nicht-leitenden Substrathauptkörpers (21 ) mit einer Vielzahl von darin ausgeformten, strukturierten, leitenden Drähten (22 ); – das Formen einer Ausnehmung (24 ) mit einem gestuften Abschnitt (23 ) in einer Seitenwand der Ausnehmung in einem oberen muttigen Abschnitt des Substrathauptkörpers; – das Formen einer Vielzahl von Verbindungslöchern (25 ), die senkrecht durch die Kantenabschnitte des Substrathauptkörpers nahe der Ausnehmung treten; – das Befestigen eines Halbleiterplättchens (33 ) auf einer tiefliegenden Fläche der Ausnehmung (24 ); – das elektrische Verbinden des Halbleiterplättchens und der leitenden Drähte (22 ) unter Verwendung von leitenden Drähten (35 ,37 ) und das Vergießen des Halbleiterplättchens und der Drähte (35 ,37 ) durch Einfüllen einer Formmasse (37 ) in die Ausnehmung; – das Ausrichten der in den stapelbaren Halbleiterbaugruppen (100 ,110 ,120 ) ausgeformten Verbindungslöcher (25 ) und das Stapeln der stapelbaren Halbleiterbaugruppen übereinander; – das Einfügen eines leitenden metallischen Materials (26 ) in die derart ausgerichteten Verbindungslöcher (25 ); und – das Befestigen von leitenden externen Anschlüssen (27 ) an einer Oberseite einer obersten Schicht der Halbleiterbaugruppe sowie an einer Unterseite einer untersten Schicht der Halbleiterbaugruppe zur elektrischen Verbindung mit dem leitenden metallischen Material. - Herstellungsvertahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls nach Anspruch 11, wobei der Schritt des Einfügens des metallischen Materials einen Schritt zum Einfügen einer Lötstange in die ausgerichteten Verbindungslöcher und einen Schritt zum Schmelzen und Härten der Lötstange umfaßt. 7232
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970047075A KR100280398B1 (ko) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 적층형 반도체 패키지 모듈의 제조 방법 |
KR47075/1997 | 1997-09-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE19802347A1 DE19802347A1 (de) | 1999-04-08 |
DE19802347B4 true DE19802347B4 (de) | 2005-10-06 |
Family
ID=19521226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1998102347 Expired - Fee Related DE19802347B4 (de) | 1997-09-12 | 1998-01-22 | Stapelbares Halbleitersubstrat und stapelbare Halbleiterbaugruppe sowie Herstellungsverfahren derselben und Herstellungsverfahren eines stapelbaren Halbleiterbaugruppenmoduls |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6137163A (de) |
JP (1) | JP2967344B2 (de) |
KR (1) | KR100280398B1 (de) |
CN (1) | CN1150617C (de) |
DE (1) | DE19802347B4 (de) |
HK (1) | HK1018983A1 (de) |
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