DE19801770A1 - Probenanalysegerät - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Probenanalysegerät, und speziel­ ler betrifft sie ein Probenanalysegerät wie ein Rasterelek­ tronenmikroskop (nachfolgend als REM bezeichnet), das mit einem Röntgenstrahlungsanalysator vom Energiedispersionstyp (nachfolgend als EDX bezeichnet) und einem Laser-Massenspek­ trometer versehen ist.

Ein typisches Anwendungsgebiet der Erfindung ist die Halb­ leiter-Herstellung. Bei der Halbleiter-Herstellung bilden Teilchen auf einem Wafer einen der wichtigsten Gründe, die die Produktausbeute bestimmen. Um Gegenmaßnahmen hinsicht­ lich einer Verringerung des Anhaftens von Teilchen zu erden­ ken und auszuführen, ist es erforderlich, die Erzeugungs­ quelle von Teilchen herauszufinden. Dazu ist es eine effek­ tive Maßnahme, Information zur Teilchenzusammensetzung zu erhalten. Zur Analyse der Teilchenzusammensetzung werden in großem Umfang REMs mit der Fähigkeit, Röntgenspektralanalyse vom Energiedispersionstyp auszuführen, verwendet. Wenn die Zusammensetzungsanalyse für ein Teilchen auf einem Wafer durch REMs mit dieser Fähigkeit ausgeführt wird, werden z. B. die folgenden Prozesse ausgeführt.

Ein einer Waferkassette entnommener, zu messender Wafer wird unter Bezugnahme auf eine ebene Ausrichtungsfläche oder eine Kerbe am Wafer vorausgerichtet. Die Vorausrichtung ist ein Vorgang, bei dem die Kristallrichtung des Wafers mit der Verstellrichtung eines XY-Tischs ausgerichtet wird. Nachdem die Vorausrichtung ausgeführt wurde, wird der Wafer in einer unter Vakuum gehaltenen Probenkammer zum XY-Tisch transpor­ tiert und auf diesem montiert. Der auf dem XY-Tisch montier­ te Wafer wird durch ein optisches Mikroskop ausgerichtet, das an der Oberseite der Probenkammer montiert ist. Diese Ausrichtung ist ein Vorgang zum Vornehmen einer Korrektur zwischen dem Koordinatensystem eines auf dem Wafer ausgebil­ deten Musters und demjenigen des Tischs. Genauer gesagt, wird ein vom optischen Mikroskop aufgenommenes, mehrhundert­ fach vergrößertes Bild des auf dem Wafer ausgebildeten Aus­ richtungsmusters mit einem zuvor abgespeicherten Referenz­ bild für das Ausrichtungsmuster verglichen, und die Positi­ onskoordinaten des Tischs werden so eingestellt, daß das vergrößerte, vom optischen Mikroskop aufgenommene Bild mit dem Referenzbild überlappt. Nach der Ausrichtung wird der Wafer zu einem zu analysierenden Teilchen verstellt. Danach wird ein Elektronenstrahl auf ihn aufgestrahlt, und es wird ein Röntgenspektrum erzeugt und angezeigt. Durch Betrachten dieses Röntgenspektrums bestimmt der Betrachter die Zusam­ mensetzung des Teilchens unter Bezugnahme auf sein Wissen und die ihm zugänglich gemachte Information.

Wenn jedoch bei diesem Verfahren die Bedienperson kein Ex­ perte ist, ist der Standard bei der Bestimmung der Zusammen­ setzung fraglich, so daß das Identifizierungsergebnis nicht zuverlässig ist; außerdem benötigt eine derartige Analyse viel Zeit.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Probenanalyse­ gerät zu schaffen, das zum genauen, sicheren und schnellen Identifizieren eines Teilchens unabhängig vom Wissen und der Geschicklichkeit einer Bedienperson geeignet ist.

Diese Aufgabe ist durch die Geräte gemäß den beigefügten un­ abhängigen Ansprüchen 1 und 6 gelöst.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von durch Figuren ver­ anschaulichten Ausführungsbeispielen näher beschrieben.

Fig. 1 ist ein schematisches Diagramm des Grundaufbaus eines REM mit der Fähigkeit zu Röntgenspektralanalyse vom Energie­ dispersionstyp als Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemä­ ßen Probenanalysegeräts;

Fig. 2 ist ein Diagramm, das ein Beispiel zum Ablauf des Analysevorgangs bei der Erfindung zeigt; und

Fig. 3 ist eine erläuternde Ansicht zur Spektrumsauswahl ge­ mäß der Erfindung.

Beim REM gemäß Fig. 1 wird ein von einer Elektronenkanone 1 emittierter Elektronenstrahl 2 durch eine Kondensorlinse 3 und eine Objektivlinse 4 so fokussiert, daß auf einer Ebene eines Wafers 5, der eine Probe darstellt, ein Brennpunkt ausgebildet wird. Der Elektronenstrahl 2 wird durch einen Ablenker 6 so abgelenkt, daß ein zweidimensionales oder eindimensionales Abrastern der Waferoberfläche erfolgt.

Andererseits emittiert der durch den Elektronenstrahl 2 be­ strahlte Wafer Sekundärelektronen 7 und charakteristische Röntgenstrahlung 14. Die Sekundärelektronen 7 werden durch einen Sekundärelektronendetektor 8 erfaßt, in elektrische Signale umgesetzt und einer Verstärkung oder dergleichen un­ terzogen. Nach dieser Verarbeitung werden die elektrischen Signale zur Helligkeits- oder Amplitudenmodulation verwen­ det. Eine Anzeigevorrichtung 9 wird synchron mit dem Abtas­ ten der Waferoberfläche durch den Elektronenstrahl 2 abge­ rastert. Wenn ein zweidimensionaler Abtastvorgang vorgenom­ men wird, um Helligkeitsmodulation auszuführen, wird auf der Anzeigevorrichtung ein Probenbild (REM-Bild) erzeugt. Wenn eindimensionales Abtasten vorgenommen wird, um Amplituden­ modulation auszuführen, wird darauf ein Linienprofil er­ zeugt.

Die charakteristische Röntgenstrahlung 14 wird durch einen Halbleiter-Röntgendetektor 15 erfaßt und einer Energieana­ lyse unterzogen. Dann wird auf der Anzeigevorrichtung 9 ein Röntgenspektrum erzeugt. Dieses Verfahren wird als Röntgen­ spektralanalyse vom Energiediffusionstyp (als EDX abgekürzt) bezeichnet.

Fig. 2 zeigt ein Beispiel für den Ablauf von mit 1 bis 12 bezeichneten Analysevorgängen, wie sie von einem Ausfüh­ rungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Geräts ausgeführt wer­ den. Ein zu messender Wafer 5 wird einer Waferkassette 10 entnommen (Schritt 1). Der Wafer 5 wird vorausgerichtet, und gleichzeitig wird eine auf ihm erzeugte Wafer-Identifizie­ rungsnummer durch einen Wafernummernleser (nicht darge­ stellt) gelesen (Schritt 2). Die Wafernummer ist für jeden Wafer eindeutig. Auf Grundlage der gelesenen Wafernummer wird eine zugehörig zu diesem Wafer vorab gespeicherte An­ leitung ausgelesen (Schritt 3). Diese Anleitung bestimmt den Analyseablauf und die Analysebedingungen für diesen Wafer. Ein anschließender Vorgang wird entsprechend dieser Anlei­ tung automatisch oder halbautomatisch ausgeführt. Die fol­ gende Beschreibung betrifft den Fall eines halbautomatischen Vorgangs.

Nachdem die Anleitung gelesen wurde, wird der Wafer 5 auf einen XY-Tisch 12 transportiert, der sich in der unter Va­ kuum befindlichen Probenkammer 11 befindet (Schritt 4). Der auf den XY-Tisch 12 gesetzte Wafer 5 wird unter Verwendung eines optischen Mikroskops 13 ausgerichtet, das an der Ober­ seite der Probenkammer 11 montiert ist (Schritt 5). Bei die­ ser Ausrichtung wird ein vom optischen Mikroskop erzeugtes, mehrhundertfach vergrößertes Bild eines auf dem Wafer 5 aus­ gerichteten Ausrichtungsmusters mit einem vorab abgespei­ cherten Referenzbild für das Ausrichtungsmuster verglichen, und die Positionskoordinaten des Tischs werden so korri­ giert, daß das vom optischen Mikroskop erzeugte, vergrößer­ te Bild mit dem Referenzbild überlappt.

Nachdem die Ausrichtung ausgeführt wurde, wird eine vorab für diesen Wafer gespeicherte Waferkarte ausgelesen und auf der Anzeigevorrichtung angezeigt (Schritt 6). Die Waferkarte kennzeichnet die Position und Größe eines auf diesem Wafer vorhandenen Teilchens. Nachdem die Waferkarte angezeigt wur­ de, spezifiziert eine Bedienperson ein zu analysierendes Teilchen unter den in der Waferkarte angezeigten Teilchen (Schritt 7). Wenn das zu analysierende Teilchen spezifiziert ist, wird der zu messende Wafer 5 durch den Tisch so trans­ portiert, daß das spezifizierte Teilchen genau unter dem Elektronenstrahl liegt (Schritt 8). Danach wird der abras­ ternde Elektronenstrahl auf das spezifizierte Teilchen ge­ strahlt, um ein REM-Bild zu erzeugen. Das erzeugte REM-Bild wird mit einem vorab abgespeicherten REM-Referenz-Bild ver­ glichen, das dem spezifizierten Analysepunkt entspricht, ähnlich wie dies beim Ausrichtungsvorgang erfolgte, und dann wird eine präzise Positionierung des spezifizierten Teil­ chens so ausgeführt, daß das REM-Bild mit dem REM-Referenz­ bild überlappt (Schritt 9). Diese Positionierung erfolgt durch eine Feineinstellung des Abtastbereichs des Elektro­ nenstrahls.

Wenn die Positionierung des Wafers abgeschlossen ist, liegt das spezifizierte Teilchen beinahe im Zentrum des Bild­ schirms. Bei dienen Bedingungen wird der Elektronenstrahl auf einmal über das spezifizierte Teilchen gestrahlt, und es wird die emittierte charakteristische Röntgenstrahlung erfaßt. Das Spektrum der erfaßten Röntgenstrahlung wird auf der Anzeigevorrichtung angezeigt (Schritt 10). Das erfaßte Röntgenspektrum wird mit einem Referenzspektrum verglichen, dessen Peakpositionen und Reihenfolgen von Peakhöhen vorab in einer Bibliothek abgespeichert wurden, und es wird dasje­ nige Referenzspektrum angegeben, zu dem abgeschätzt wird, daß es mit dem erfaßten übereinstimmt (Schritt 11).

Für den Vergleich und die Angabe des Referenzspektrums wird z. B. ein Hardwareaufbau verwendet, wie er im Abschnitt A in Fig. 1 dargestellt ist. Dabei wird das erfaßte Röntgenspek­ trum unter Verwendung eines Prozessors 21 zum Vergleich mit dem Referenzspektrum überlappt (Schritt 12). Genauer gesagt, erfolgt der Vergleich dadurch, daß das Referenzspektrum aus einem Speicher 22 ausgelesen wird und die Spektrumshöhe ge­ ändert wird, wie dies in Fig. 3 veranschaulicht ist.

Auf der Anzeigevorrichtung werden aufgelistete Referenzspek­ tren zusammen mit Zusatzinformation angezeigt. Diese Zusatz­ information entspricht Probenbedingungen wie dem Materialna­ men für dieses Spektrum sowie Namen von Prozessen/Ausrüs­ tung, bei denen dieses Material verwendet wird. Die Zusatz­ information ist im Speicher 22 zusammen mit Tabellen für das Referenzspektrum, Peakpositionen und die Reihenfolge von Peakhöhen abgespeichert.

Es existiert der Fall, daß mehrere Spektren aufgelistet werden, die als übereinstimmend abgeschätzt werden. Wenn Zu­ satzinformation zum gerade betrachteten Wafer eingegeben wird, wie der Name des aktuellen Prozesses, die Prozeßaus­ rüstung, der Werdegang und dergleichen, jeweils für den be­ trachteten Wafer, kann die Anzahl von Spektren, die als übereinstimmend betrachtet werden, weiter eingeengt werden.

Wenn mehrere Spektren aufgelistet werden, die als überein­ stimmend abgeschätzt werden, wird das betrachtete Spektrum visuell mit jedem Referenzspektrum verglichen, das als über­ einstimmend abgeschätzt wurde. Durch diesen Vergleich kann die Bedienperson die Anzahl übereinstimmender Spektren leicht einengen. Um einen Anzeigevorgang für den Vergleich vorzunehmen, wird z. B. eine Farbanzeige benutzt, bei der z. B. abweichende Abschnitte zwischen den zwei Spektren mit Rot angezeigt werden, um den Vergleich und die Ermittlung von Unterschieden zwischen den zwei Spektren zu erleichtern.

Um eine Einengung der Anzahl von als übereinstimmend abge­ schätzten Spektren zu erleichtern, wird Zusatzinformation zur Anleitung, zu Bildern vom optischen Mikroskop, Bildern, die durch einen fokussierten Ionenstrahl aufgenommen wurden, und verschiedene, dem Teilchen entsprechende Analysedaten als Datei abgelegt. Bei der Analyse können diese Bilder und Analysedaten ausgelesen und als Referenzinformation ange­ zeigt werden.

Nachdem die Analyse des spezifizierten Teilchens abgeschlos­ sen ist, wird die Waferkarte erneut auf der Anzeigevorrich­ tung angezeigt. Die Bedienperson trägt das Analyseende, das Analyseergebnis und das Auswählergebnis zum spezifizierten Teilchen in die Waferkarte ein, woraufhin diese Werte ange­ zeigt werden und Einzelheiten zum Analyseergebnis in eine Analysen-Datenbank eingespeichert werden.

Die Analyse an einer Position wird auf die obenbeschriebene Weise abgeschlossen. Wenn noch ein zu analysierendes Teil­ chen vorhanden ist, wird dieses Teilchen als neues Teilchen auf der Waferkarte spezifiziert, und nachdem auf die Positi­ on dieses spezifizierten Teilchens gewechselt wurde, wird der in Fig. 2 dargestellte Vorgang wiederholt.

Nun ist der Analysevorgang für einen einzelnen Wafer abge­ schlossen. Wenn mehrere noch zu analysierende Wafer in der Waferkassette verblieben sind, wird dieser der nächste Wafer entnommen, und die Analyse wird entsprechend den in Fig. 2 dargestellten Schritten wiederholt.

Bei dieser Analyse spezifiziert die Bedienperson jedesmal während des Ablaufs ein Teilchen, d. h. einen auf der Wafer­ karte angegebenen Analysepunkt. Es ist jedoch möglich, eine automatische Analyse zu verwenden, bei der automatisch zu einem vorab spezifizierten Analysepunkt übergegangen wird, um die Analyse allmählich ablaufen zu lassen.

Bei diesem Prozeß wird ebenfalls ein Referenzspektrum aus­ gewählt, das als übereinstimmend abgeschätzt wird, und es wird zusammen mit dem beobachteten Spektrum zum Identifizie­ ren eines Teilchens angegeben, wobei es möglich ist, die Übereinstimmungsprüfung durch gleichzeitiges Anzeigen wegzu­ lassen und automatisch zur folgenden Verarbeitung weiterzu­ gehen.

Das Referenzspektrum kann selbst während eines Analysevor­ gangs zusätzlich oder erneut abgespeichert werden.

Hierbei wird als Referenzspektrum ein Spektrum verwendet, das vorab vor dem Ablauf abgespeichert wurde. Wenn jedoch ein beobachtetes Spektrum mit keinem Referenzspektrum über­ einstimmt, so daß es als zu einer neuen Substanz gehörig angesehen werden kann, oder wenn das beobachtete Spektrum als Referenzspektrum geeigneter ist als ein bisher abgespei­ chertes Referenzspektrum, wird das beobachtete Spektrum zu­ sätzlich zu den Referenzspektren hinzugefügt oder abgespei­ chert. Das neu abgespeicherte Spektrum kann dazu verwendet werden, anschließende Analyseergebnisse zu klassifizieren, selbst wenn der Substanzname noch nicht erkannt wurde.

Obwohl hier der Fall angegeben ist, daß für ein einzelnes Teilchen ein einzelnes Spektrum erfaßt wird, ist es mög­ lich, mehrere Spektren für ein einzelnes Teilchen zu erfas­ sen. Dies entspricht dem Fall, daß verschiedene Einstrah­ lungsbedingungen für den Elektronenstrahl oder verschiedene Meßpositionsdaten erforderlich sind.

Bei einer Probe, die viel Zeit benötigt, bis beim Einstrah­ len eines geladenen Teilchenstrahls die Aufladung in Sätti­ gung geht, wie dann, wenn ein Elektronenstrahl oder ein Ionenstrahl verwendet wird, sollte das beobachtete Bild erst dann erfaßt werden, nachdem eine Einstrahlung des Strahls geladener Teilchen für eine vorbestimmte Zeitspanne erfolg­ te.

Hinsichtlich der gleichzeitigen Anzeige des beobachteten Spektrums und des Referenzspektrums ist es zulässig, sie in verschiedenen Bereichen derselben Anzeigevorrichtung oder sie auf gesonderten Anzeigevorrichtungen anzuzeigen.

Es wurde ein Verfahren angegeben, bei dem nach dem Ausrich­ ten eines Wafers durch ein Lichtbild bei geringer Vergröße­ rung die Position desselben auf Grundlage eines REM-Bilds mit starker Vergrößerung bestimmt wird. Jedoch ist es auch möglich, eine Funktion bereitzustellen, bei der ein spezifi­ ziertes Teilchen unmittelbar auf Grundlage des REM-Bilds starker Vergrößerung erfaßt wird, wobei, wenn kein spezifi­ ziertes Teilchen aufgefunden wird, eine Suche nach einem an­ deren Teilchen in der Nachbarschaft ausgeführt wird.

Beim beschriebenen Ausführungsbeispiel wird ein XY-Tisch verwendet, jedoch läßt sich die Analyse von an einer Mus­ terwand anhaftenden Teilchen erleichtern, wenn ein XYT(T be­ deutet Kippung)-Tisch verwendet wird.

Obwohl hier ein strukturierter Wafer als Betrachtungsobjekt verwendet ist, ist es auch möglich, ein Teilchen zu analy­ sieren, das an einem blanken Wafer anhaftet. In diesem Fall wird zum Positionieren eines zu analysierenden Teilchens das Verfahren der Suche in der Umgebung verwendet. Für das Ana­ lyseobjekt besteht keine Beschränkung auf irgendein Teil­ chen, sondern es kann sich auch um einen Fehler wie einen Musterdefekt handeln.

Ferner ist das Analyseobjekt nicht auf Halbleiterwafer be­ schränkt. Vielmehr ist die Probe auf keinerlei speziellen Typ beschränkte sondern es können z. B. Wafer für Aufnahme-Bau­ teile oder Anzeigevorrichtungen sein. Andere Konfigura­ tionen als die eines Wafers sind ebenfalls möglich.

Obwohl hier durch einen Elektronenstrahl erfaßte Spektral­ information verwendet wird, ist es möglich, physikalische Analysewerte durch einen Ionenstrahl oder einen optischen Strahl zu erfassen, und es ist auch möglich, chemische Ana­ lysemaßnahmen wie Atomabsorptionsspektroskopie oder Massen­ spektroskopieanalyse zu verwenden.

Obwohl hier ein Rasterbild zur Ausrichtung verwendet wird, ist es möglich, ein Bild zu verwenden, das durch ein fokus­ siertes optisches System erfaßt wurde.

Beim obigen Ausführungsbeispiel der Erfindung kann, wie es aus der Beschreibung ersichtlich ist, ein Teilchen genau, sicher und schnell unabhängig vom Wissen und der Geschick­ lichkeit einer Bedienperson identifiziert werden.

Ferner ist es unter Verwendung von Zusatzinformation wie solcher zu den Probenbedingungen möglich, nicht nur eine Substanz zu identifizieren, sondern auch den Ort, die Zeit und dergleichen zum Auftreten leicht und schnell zu erfas­ sen.

Die Erfindung schafft ein Probenanalysegerät, das zum genau­ en, sicheren und schnellen Identifizieren von Substanzen un­ abhängig vom Wissen und der Geschicklichkeit einer Bedien­ person geeignet ist.

Claims (9)

1. Probenanalysegerät zum Erzeugen eines Spektrums durch Analysieren einer Probe, gekennzeichnet durch die folgenden Funktionen:

• - Registrieren von Referenzspektren als Bibliothek;
• - Lesen eines registrierten Referenzspektrums;
• - Vergleichen des gelesenen Referenzspektrums mit dem er­ zeugten Spektrum und
• - Auswählen mindestens eines Referenzspektrums, das als mit dem erzeugten Spektrum übereinstimmend abgeschätzt wurde.

2. Gerät nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Funk­ tion des gleichzeitigen Anzeigens des erzeugten Spektrums und des ausgewählten Spektrums.

3. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekenn­ zeichnet durch die Funktion des Anzeigens des erzeugten Spektrums und des ausgewählten Spektrums in solcher Weise, daß sie einander überlappen.

4. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekenn­ zeichnet durch die folgenden Funktionen:

• - Vergleichen von Peakpositionen und der Reihenfolge von Peakhöhen im erzeugten Spektrum mit solchen im Referenzspek­ trum; und
• - Auswählen eines Referenzspektrums als übereinstimmendes Spektrum, wenn die Peakpositionen eines Spektrums alle Peak­ positionen des anderen Spektrums enthalten und die Peakrei­ henfolgen in beiden Spektren miteinander übereinstimmen.

5. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß dann, wenn aus den Referenzspektren eines als übereinstimmendes Spek­ trum ausgewählt wird, hierzu als Faktor zur Auswahl Zusatz­ information verwendet wird, die Probenbedingungen umfaßt.

6. Probenanalysegerät zum Erzeugen eines Spektrums durch Analysieren einer Probe, dadurch gekennzeichnet, daß es von den untenangegebenen Funktionen (1) - (18) die Funktionen (13) - (15) und mindestens eine der anderen Funktionen auf­ weist:

• (1) Vorausrichten der Probe;
• (2) Registrieren einer Anleitung zum Ausführen einer Analyse der Probe;
• (3) Lesen einer auf der Probe ausgebildeten Probennummer;
• (4) Lesen der Anleitung entsprechend der gelesenen Proben­ nummer;
• (5) Ausführen einer Analyse auf Grundlage der gelesenen An­ leitung;
• (6) Registrieren eines Referenzbilds zur Ausrichtung;
• (7) Erzeugen des Referenzbilds zur Ausrichtung und Ausführen eines Ausrichtungsvorgangs für die Probe durch Vergleichen des Referenzbilds mit dem Bild eines Ausrichtungsmusters auf der Probe;
• (8) vorläufiges Registrieren einer Analysepunktkarte für die Probe;
• (9) Lesen und Anzeigen der registrierten Analysepunktkarte;
• (10) Verstellen der Probe entsprechend einer Spezifikation auf der Analysepunktkarte oder einer Anweisung in der Anlei­ tung, um den spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt auf eine gewünschte Position zu stellen;
• (11) Registrieren eines Referenzbilds für den spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt;
• (12) Erzeugen eines Positionsbilds zum spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt, und Positionieren des Analyse­ punkts durch Verifizieren des Positionierungsbilds des spe­ zifizierten oder angewiesenen Analysepunkts mit einem Posi­ tionierungs-Referenzbild für den Analysepunkt;
• (13) Erzeugen eines Spektrums durch Analysieren des positio­ nierten Analysepunkts;
• (14) Registrieren eines Referenzspektrums als Bibliothek;
• (15) Auswählen eines Referenzspektrums, das als mit dem er­ zeugten Spektrum übereinstimmend abgeschätzt wird;
• (16) gleichzeitiges Anzeigen des als übereinstimmend einge­ schätzten Referenzspektrums und des erzeugten Spektrums;
• (17) Anzeigen des als übereinstimmend abgeschätzten Refe­ renzspektrums und des erzeugten Spektrums in solcher Weise, daß sie einander überlappen;
• (18) Anzeigen und/oder Abspeichern des Analyseergebnisses des Analysepunkts und des Auswählergebnisses als Datei.

7. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß es ein Refe­ renzspektrum während eines Analysevorgangs registrieren kann.

8. Gerät nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß dann, wenn aus den Referenzspektren eines als übereinstimmendes Spektrum ausgewählt wird, hierzu als Faktor zur Auswahl Zusatzinfor­ mation verwendet wird, die Probenbedingungen umfaßt.

9. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß von ihm eine Sonde innerhalb eines spe­ zifizierten Zeitintervalls über die Probe (5) gestrahlt wird, um ein Bild zu erzeugen, wobei als Sonde z. B. ein Strahl geladener Teilchen verwendet wird.