DE102014107102A1

DE102014107102A1 - Organic light-emitting device and method for producing an organic light-emitting device

Info

Publication number: DE102014107102A1
Application number: DE102014107102.6A
Authority: DE
Inventors: Arne Fleissner; Daniel Riedel; Nina Riegel; Silke Scharner; Johannes Rosenberger; Thomas Wehlus
Original assignee: Osram Opto Semiconductors GmbH
Current assignee: Ams Osram International GmbH
Priority date: 2014-05-20
Filing date: 2014-05-20
Publication date: 2015-11-26

Abstract

In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein organisches lichtemittierendes Bauelement (1) bereitgestellt. Das organische lichtemittierende Bauelement (1) weist eine erste Elektrode (20), eine organische funktionelle Schichtenstruktur (22) über der ersten Elektrode (20) und eine zweite Elektrode (23) über der organischen funktionellen Schichtenstruktur (22) auf. Mindestens eine der beiden Elektroden (20, 23) weist ein Trägermaterial (40) mit einem ersten Brechungsindex und in das Trägermaterial (40) eingebettete Streuelemente (42) mit einem zweiten Brechungsindex auf. Der zweite Brechungsindex ist kleiner als der erste Brechungsindex.In various embodiments, an organic light emitting device (1) is provided. The organic light-emitting component (1) has a first electrode (20), an organic functional layer structure (22) over the first electrode (20) and a second electrode (23) over the organic functional layer structure (22). At least one of the two electrodes (20, 23) has a carrier material (40) with a first refractive index and scattering elements (42) with a second refractive index embedded in the carrier material (40). The second refractive index is smaller than the first refractive index.

Description

Die Erfindung betrifft ein organisches lichtemittierendes Bauelement und ein Verfahren zum Herstellen eines organischen lichtemittierenden Bauelements.The invention relates to an organic light-emitting component and to a method for producing an organic light-emitting component.

Optoelektronische Bauelemente auf organischer Basis, beispielsweise organische Leuchtdioden (organic light emitting diode – OLED), finden zunehmend verbreitete Anwendung in der Allgemeinbeleuchtung, beispielsweise als Flächenlichtquelle, und in Anzeigeelementen (Displays). Ein organisches lichtemittierendes Bauelement, beispielsweise eine OLED, kann eine Anode und eine Kathode mit einem organischen funktionellen Schichtensystem dazwischen aufweisen. Das organische funktionelle Schichtensystem kann aufweisen eine oder mehrere Emitterschichten, in denen elektromagnetische Strahlung erzeugt wird, eine Ladungsträgerpaar-Erzeugungs-Schichtenstruktur aus jeweils zwei oder mehr Ladungsträgerpaar-Erzeugungs-Schichten („charge generating layer”, CGL) zur Ladungsträgerpaarerzeugung, eine oder mehrerer Elektronenblockadeschichten, auch bezeichnet als Lochtransportschicht(en) („hole transport layer”-HTL), und eine oder mehrere Lochblockadeschichten, auch bezeichnet als Elektronentransportschichten („electron transport layer”-ETL), um den Stromfluss zu richten.Organic-based optoelectronic components, for example organic light-emitting diodes (OLEDs), are finding widespread application in general lighting, for example as area light source, and in display elements (displays). An organic light-emitting device, such as an OLED, may include an anode and a cathode having an organic functional layer system therebetween. The organic functional layer system may comprise one or more emitter layers in which electromagnetic radiation is generated, a charge carrier pair generation layer structure each of two or more charge generating layer (CGL) for charge carrier pair generation, one or more electron block layers , also referred to as hole transport layer (HT), and one or more hole block layers, also referred to as electron transport layer (ETL), to direct the flow of current.

In einer OLED ohne Auskoppelschichten, die beispielsweise von Streuschichten gebildet sein können, würde der überwiegende Teil des im organischen Schichtstapels erzeugten Lichts auf Grund von Totalreflexion zwischen Schichten mit relativ hohem Brechungsindex (Organik, transparente ITO-Anode) und Schichten mit niedrigerem Brechungsindex (Glas, Luft) im optoelektronischen Bauteil verbleiben. Um diese durch Wave-Guiding auftretenden Verluste zu vermeiden und so eine bessere Bauteileffizienz zu erreichen, werden interne Auskopplungsschichten eingesetzt. Bei den internen Auskoppelschichten handelt es sich zum Beispiel um streuende Schichten mit hohem Brechungsindex, die zusätzlich beispielsweise zwischen der Anode und dem Substrat bereitgestellt werden müssen.In an OLED without outcoupling layers, which may be formed, for example, by scattering layers, the majority of the light generated in the organic layer stack would be due to total reflection between relatively high refractive index layers (organic, transparent ITO anode) and lower refractive index layers (glass, Air) remain in the optoelectronic component. In order to avoid these losses caused by wave guiding and thus to achieve better component efficiency, internal decoupling layers are used. The internal coupling-out layers are, for example, scattering layers with a high refractive index, which additionally have to be provided, for example, between the anode and the substrate.

US 2012 080 668 A1 und US 798 23 96 B2 beschreiben verschiedene Arten einer lichtstreuenden, leitfähigen Schicht, die in einer top-emitting OLED auf die transparente Top-Elektrode aufgebracht wird ( US 2012 080 668 A1 ) bzw. sich allgemein auf einer Seite einer Elektrode befindet, die gegenüber der organischen Schichten liegt ( US 798 23 96 B2 ). D. h. die darin beschriebenen Schichten müssen zusätzlich zum elementaren Schichtaufbau der klassischen OLED (Anodeorg.Schichtstapel-Kathode) prozessiert werden und befinden sich außerhalb desselben. US 2012 080 668 A1 and US 798 23 96 B2 describe various types of a light-scattering, conductive layer which is applied to the transparent top electrode in a top-emitting OLED ( US 2012 080 668 A1 ) or is generally located on one side of an electrode, which is opposite to the organic layers ( US 798 23 96 B2 ). Ie. the layers described therein have to be processed in addition to the elementary layer structure of the classical OLED (anode-organic layer-stack cathode) and are located outside of it.

Die Herstellung einer zusätzlichen Schicht, die kompatibel mit dem übrigen Aufbau der OLED ist, erhöht jedoch die Komplexität, die Fehleranfälligkeit und die Kosten des Herstellungsprozesses und der fertigen OLED.However, producing an additional layer that is compatible with the remainder of OLED construction increases the complexity, the susceptibility to error, and the cost of the manufacturing process and finished OLED.

EP 2 287 938 A1 beschreibt eine streuende Ladungsträger-Transportschicht, d. h. die Integration von interner Auskopplung in eine Schicht innerhalb des organischen Schichtstapels. EP 2 287 938 A1 describes a scattering charge carrier transport layer, ie the integration of internal outcoupling into a layer within the organic layer stack.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein organisches lichtemittierendes Bauelement bereitgestellt, das einfach und/oder kostengünstig herstellbar ist und/oder das eine hohe Effizienz hat.In various embodiments, an organic light emitting device is provided which is simple and / or inexpensive to produce and / or which has a high efficiency.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Herstellen eines organischen lichtemittierenden Bauelements bereitgestellt, das einfach und/oder kostengünstig durchführbar ist und/oder das dazu beiträgt, dass das organische lichtemittierende Bauelement eine hohe Effizienz hat.In various embodiments, a method for producing an organic light-emitting component is provided, which is simple and / or inexpensive to carry out and / or which contributes to the fact that the organic light-emitting component has a high efficiency.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein organisches lichtemittierendes Bauelement bereitgestellt. Das organische lichtemittierende Bauelement weist eine erste Elektrode, eine organische funktionelle Schichtenstruktur über der ersten Elektrode und eine zweite Elektrode über der organischen funktionellen Schichtenstruktur auf. Mindestens eine der beiden Elektroden weist ein Trägermaterial mit einem ersten Brechungsindex und in das Trägermaterial eingebettete Streuelemente mit einem zweiten Brechungsindex auf. Der zweite Brechungsindex ist kleiner als der erste Brechungsindex.In various embodiments, an organic light emitting device is provided. The organic light emitting device has a first electrode, an organic functional layer structure over the first electrode, and a second electrode over the organic functional layer structure. At least one of the two electrodes has a carrier material with a first refractive index and scattering elements embedded in the carrier material with a second refractive index. The second refractive index is smaller than the first refractive index.

Die Streuelemente dienen dazu, das in der organischen funktionellen Schichtenstruktur erzeugte Licht zu Streuen. Dies trägt dazu bei, dass die Lichtauskopplung aus dem organischen lichtemittierenden Bauelement besonders gut ist. Dies trägt dazu bei, dass die Effizienz des organischen lichtemittierenden Bauelements besonders hoch ist.The scattering elements serve to scatter the light generated in the organic functional layer structure. This contributes to the fact that the light extraction from the organic light-emitting component is particularly good. This contributes to the fact that the efficiency of the organic light-emitting component is particularly high.

Das Trägermaterial und/oder die Streuelemente sind so ausgebildet, dass die entsprechende Elektrode leitfähig für elektrischen Strom ist und die entsprechende Elektrode die Elektrodenfunktion in dem organischen lichtemittierenden Bauelement erfüllt. Die Streuwirkung der Streuelemente und die Elektrodenfunktion der entsprechenden Elektrode sind somit in einer einzigen Schicht kombiniert. Die Elektrode mit den Streuelementen wirkt als interne Auskopplungsschicht und ist so im elementaren Aufbau des organischen lichtemittierenden Bauelements integriert. Dies kann dazu beitragen, dass das organische lichtemittierende Bauelement besonders einfach und/oder kostengünstig ausgebildet ist.The carrier material and / or the scattering elements are formed such that the corresponding electrode is conductive for electrical current and the corresponding electrode fulfills the electrode function in the organic light-emitting component. The scattering effect of the scattering elements and the electrode function of the corresponding electrode are thus combined in a single layer. The electrode with the scattering elements acts as an internal outcoupling layer and is thus integrated in the elementary structure of the organic light-emitting component. This can contribute to making the organic light-emitting component particularly simple and / or cost-effective.

Die Elektrode mit den Streuelementen kann auch als streuende Elektrode bezeichnet werden. Die erste Elektrode, die zweite Elektrode oder beide Elektroden können das Trägermaterial und die Streuelemente aufweisen. Die Streuelemente können beispielsweise niedrigbrechende Elemente sein. Das Trägermaterial kann beispielsweise transparent oder transluzent sein. Das Trägermaterial kann auch als Trägermatrix oder Matrix bezeichnet werden. Der erste Brechungsindex des Trägermaterials kann beispielsweise größer oder gleich dem Brechungsindex der organischen funktionellen Schichtenstruktur sein, so dass an der Grenzfläche Organik-Elektrode keine Totalreflektion auftritt. The electrode with the scattering elements can also be referred to as a scattering electrode. The first electrode, the second electrode or both electrodes may comprise the carrier material and the scattering elements. The scattering elements may be low-refractive elements, for example. The carrier material may be, for example, transparent or translucent. The carrier material can also be referred to as a carrier matrix or matrix. The first refractive index of the carrier material may be, for example, greater than or equal to the refractive index of the organic functional layer structure, so that no total reflection occurs at the interface organic electrode.

Die Streuelemente können beispielsweise Partikel, beispielsweise Mikro-Partikel, Nano-Partikel oder Hohlräume, beispielsweise Poren, sein. Das Trägermaterial kann beispielsweise Kunststoff oder ein Oxid aufweisen. Die Streuelemente können in mindestens einer Dimension Außenmaße aufweisen, die in einem Bereich liegen beispielsweise von 1 nm bis 10 μm, beispielsweise von 10 nm bis 1 μm, beispielsweise von 100 nm bis 500 nm.The scattering elements can be, for example, particles, for example micro-particles, nano-particles or cavities, for example pores. The carrier material may for example comprise plastic or an oxide. The scattering elements can have outer dimensions in at least one dimension which lie in a range, for example, of 1 nm to 10 μm, for example 10 nm to 1 μm, for example 100 nm to 500 nm.

Bei verschiedenen Ausführungsformen ist das Trägermaterial elektrisch leitfähig ausgebildet. In anderen Worten wird die Elektrodenfunktion der entsprechenden Elektrode von dem Trägermaterial erfüllt. In diesem Zusammenhang können die Streuelemente elektrisch leitfähig oder elektrisch isolierend ausgebildet sein. Das elektrisch leitfähige Trägermaterial kann beispielsweise ein transparentes leitfähiges Oxid, beispielsweise ITO, aufweisen oder davon gebildet sein. Die Streuelemente können beispielsweise von Hohlräumen, beispielsweise Poren, im Trägermaterial und/oder von SiO₂-Partikeln gebildet sein.In various embodiments, the carrier material is designed to be electrically conductive. In other words, the electrode function of the corresponding electrode is fulfilled by the carrier material. In this context, the scattering elements may be formed electrically conductive or electrically insulating. The electrically conductive carrier material may, for example, comprise or be formed from a transparent conductive oxide, for example ITO. The scattering elements can be formed, for example, by cavities, for example pores, in the carrier material and / or by SiO ₂ particles.

Bei verschiedenen Ausführungsformen ist das Trägermaterial elektrisch isolierend ausgebildet. In diesem Zusammenhang kann die Elektrodenfunktion der entsprechenden Elektrode von elektrisch leitfähigen Streuelementen oder von elektrisch leitfähigen Leitelementen erfüllt werden. Das elektrisch isolierende Trägermaterial kann beispielsweise ein Polymer aufweisen oder davon gebildet sein, beispielsweise ein hochbrechendes Polymer, beispielsweise ein Hoch-Index-Polymer.In various embodiments, the carrier material is designed to be electrically insulating. In this connection, the electrode function of the corresponding electrode can be met by electrically conductive scattering elements or by electrically conductive guide elements. The electrically insulating carrier material may, for example, comprise or be formed from a polymer, for example a high-index polymer, for example a high-index polymer.

Bei verschiedenen Ausführungsformen sind die Streuelemente elektrisch leitfähig ausgebildet. Die elektrisch leitfähigen Streuelemente können beispielsweise ITO aufweisen oder davon gebildet sein.In various embodiments, the scattering elements are designed to be electrically conductive. The electrically conductive scattering elements may comprise or be formed by ITO, for example.

Bei verschiedenen Ausführungsformen sind die Streuelemente derart in dem Trägermaterial eingebettet, dass sie aufgrund von Perkolation zumindest teilweise für die elektrische Funktion der entsprechenden Elektrode verantwortlich sind. Insbesondere können die Streuelemente zusätzlich oder alternativ zu dem Trägermaterial für die die elektrische Funktion der entsprechenden Elektrode verantwortlich sein.In various embodiments, the scattering elements are embedded in the carrier material such that they are at least partially responsible for the electrical function of the corresponding electrode due to percolation. In particular, the scattering elements may be additionally or alternatively responsible for the carrier material for which the electrical function of the corresponding electrode.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weist die Elektrode, die das Trägermaterial und die Streuelemente aufweist, elektrisch leitfähige Leitelemente zum Leiten elektrischen Stroms auf. Die leitfähigen Leitelemente können beispielsweise Metall aufweisen oder davon gebildet sein.In various embodiments, the electrode comprising the substrate and the diffusers has electrically conductive conductive elements for conducting electrical current. The conductive guide elements may for example comprise metal or be formed thereof.

Bei verschiedenen Ausführungsformen sind die Leitelemente derart in dem Trägermaterial eingebettet, dass sie aufgrund von Perkolation zumindest teilweise für die elektrische Funktion der entsprechenden Elektrode verantwortlich sind. Die Leitelemente können zusätzlich oder alternativ zu dem Trägermaterial und/oder den Streuelementen für die elektrische Funktion der entsprechenden Elektrode verantwortlich sein.In various embodiments, the guide elements are embedded in the carrier material such that they are at least partially responsible for the electrical function of the corresponding electrode due to percolation. The guide elements may additionally or alternatively be responsible for the carrier material and / or the scattering elements for the electrical function of the corresponding electrode.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weisen die Streuelemente und/oder die Leitelemente Nanostrukturen auf oder sind von Nanostrukturen gebildet. Nanostrukturen sind beispielsweise Körper, die in mindesten einer Dimension ein Außenmaß haben, das in der Größenordnung von 1 nm bis kleiner 1 μm liegt. In einer anderen Dimension kann das entsprechende Außenmaß auch in einer größeren Größenordnung liegen. Beispielsweise können Nanopartikel oder Nanodots in jeder Raumrichtung nur wenige Nanometer groß sein, wohingegen Nanodrähte oder Nanoröhren Durchmesser von wenigen Nanometern jedoch Längen von mehreren Mikrometern haben können.In various embodiments, the scattering elements and / or the guide elements have nanostructures or are formed by nanostructures. Nanostructures are, for example, bodies which have an outer dimension in at least one dimension, which is of the order of magnitude of 1 nm to less than 1 μm. In another dimension, the corresponding external dimension can also be on a larger scale. For example, nanoparticles or nanodots in each spatial direction can be only a few nanometers in size, whereas nanowires or nanotubes can have diameters of a few nanometers but lengths of several micrometers.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weisen die Nanostrukturen Nanopartikel, Nanoröhren, Nanodrähte, Nanoporen und/oder Nanodots auf.In various embodiments, the nanostructures include nanoparticles, nanotubes, nanowires, nanopores and / or nanodots.

Bei verschiedenen Ausführungsformen beträgt der erste Brechungsindex mindestens 1,7. Beispielsweise liegt der erste Brechungsindex in einem Bereich von 1,7 bis 2,7, beispielsweise in einem Bereich von 1,7 bis 2,1.In various embodiments, the first refractive index is at least 1.7. For example, the first refractive index is in a range of 1.7 to 2.7, for example, in a range of 1.7 to 2.1.

Bei verschiedenen Ausführungsformen liegt der zweite Brechungsindex in einem Bereich von 1 bis 1,7.In various embodiments, the second refractive index is in a range of 1 to 1.7.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weisen die Streuelemente Luft, Gas, ein Oxid, SiO2 und/oder ITO auf oder sind davon gebildet.In various embodiments, the scattering elements comprise or are formed from air, gas, an oxide, SiO 2, and / or ITO.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weist das Trägermaterial ein transparentes leitfähiges Oxid, ITO, einen Kunststoff, ein Polymer und/oder ein Hoch-Index-Polymer auf oder ist davon gebildet.In various embodiments, the substrate comprises or is formed from a transparent conductive oxide, ITO, a plastic, a polymer, and / or a high index polymer.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weisen die Leitelemente Metall, beispielsweise Silber, Gold und/oder Kupfer, und/oder ein organisches Material, beispielsweise ein Polymer auf. Dass das Material organisch ist, kann beispielsweise bedeuten, dass es Kohlenstoff aufweist. Beispielsweise können die Leitelemente Carbon-Nanotubes aufweisen. In various embodiments, the guiding elements comprise metal, for example silver, gold and / or copper, and / or an organic material, for example a polymer. For example, the fact that the material is organic may mean that it has carbon. For example, the guide elements may have carbon nanotubes.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Herstellen eines organischen lichtemittierenden Bauelements bereitgestellt. Bei dem Verfahren wird eine erste Elektrode ausgebildet. Eine organische funktionelle Schichtenstruktur wird über der ersten Elektrode ausgebildet. Eine zweite Elektrode wird über der organischen funktionellen Schichtenstruktur ausgebildet. Mindestens eine der beiden Elektroden weist ein Trägermaterial mit einem ersten Brechungsindex und in das Trägermaterial eingebettete Streuelemente mit einem zweiten Brechungsindex auf. Der zweite Brechungsindex ist kleiner als der erste Brechungsindex.In various embodiments, a method for producing an organic light-emitting device is provided. In the method, a first electrode is formed. An organic functional layer structure is formed over the first electrode. A second electrode is formed over the organic functional layer structure. At least one of the two electrodes has a carrier material with a first refractive index and scattering elements embedded in the carrier material with a second refractive index. The second refractive index is smaller than the first refractive index.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigen:Show it:

1 eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines organischen lichtemittierenden Bauelements; 1 a side sectional view of an embodiment of an organic light-emitting device;

2 eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Schichtenstruktur eines organischen lichtemittierenden Bauelements; 2 a side sectional view of an embodiment of a layer structure of an organic light emitting device;

3 eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Elektrode eines organischen lichtemittierenden Bauelements; 3 a side sectional view of an embodiment of an electrode of an organic light-emitting device;

4 eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer Elektrode eines organischen lichtemittierenden Bauelements; 4 a side sectional view of an embodiment of an electrode of an organic light-emitting device;

6 ein Ablaufdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Herstellen eines organischen lichtemittierenden Bauelements. 6 a flowchart of an embodiment of a method for producing an organic light-emitting device.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser Beschreibung bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsbeispiele gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben”, „unten”, „vorne”, „hinten”, „vorderes”, „hinteres”, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsbeispielen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsbeispiele benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part of this specification, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments may be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe ”verbunden”, ”angeschlossen” sowie ”gekoppelt” verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Ein organisches lichtemittierendes Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen als eine organische lichtemittierende Diode (organic light emitting diode, OLED) oder als ein organischer lichtemittierender Transistor ausgebildet sein. Das organische lichtemittierende Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen Teil einer integrierten Schaltung sein. Weiterhin kann eine Mehrzahl von organischen lichtemittierenden Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem gemeinsamen Gehäuse.An organic light emitting device may be formed in various embodiments as an organic light emitting diode (OLED) or as an organic light emitting transistor. The organic light emitting device may be part of an integrated circuit in various embodiments. Furthermore, a plurality of organic light-emitting components may be provided, for example housed in a common housing.

Unter dem Begriff „transluzent” bzw. „transluzente Schicht” kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist, beispielsweise für das von dem Lichtemittierenden Bauelement erzeugte Licht, beispielsweise einer oder mehrerer Wellenlängenbereiche, beispielsweise für Licht in einem Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts (beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm). Beispielsweise ist unter dem Begriff „transluzente Schicht in verschiedenen Ausführungsbeispielen zu verstehen, dass im Wesentlichen die gesamte in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppelte Lichtmenge auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird, wobei ein Teil des Licht hierbei gestreut werden kannThe term "translucent" or "translucent layer" can be understood in various embodiments that a layer is permeable to light, for example for the light generated by the light emitting device, for example, one or more wavelength ranges, for example, for light in a wavelength range of visible light (for example, at least in a partial region of the wavelength range of 380 nm to 780 nm). By way of example, the term "translucent layer in various exemplary embodiments is to be understood as meaning that substantially all of the amount of light coupled into a structure (for example a layer) is coupled out of the structure (for example layer), whereby part of the light can be scattered in this case

Unter dem Begriff „transparent” oder „transparente Schicht” kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist (beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm), wobei in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppeltes Licht im Wesentlichen ohne Streuung oder Lichtkonversion auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird.The term "transparent" or "transparent layer" can be understood in various embodiments that a Layer is transparent to light (for example, at least in a subregion of the wavelength range of 380 nm to 780 nm), wherein in a structure (for example, a layer) coupled light substantially without scattering or light conversion from the structure (for example, layer) is coupled.

1 zeigt ein organisches lichtemittierendes Bauelement 1. Das organische lichtemittierende Bauelement 1 weist optional einen Träger 12, beispielsweise ein Substrat, auf. Auf dem Träger 12 ist eine lichtemittierende Schichtenstruktur ausgebildet. 1 shows an organic light emitting device 1 , The organic light emitting device 1 optionally has a carrier 12 , For example, a substrate on. On the carrier 12 a light-emitting layer structure is formed.

Die lichtemittierende Schichtenstruktur weist eine erste Elektrodenschicht 14 auf, die einen ersten Kontaktabschnitt 16, einen zweiten Kontaktabschnitt 18 und eine erste Elektrode 20 aufweist. Der zweite Kontaktabschnitt 18 ist mit der ersten Elektrode 20 der lichtemittierenden Schichtenstruktur elektrisch gekoppelt. Die erste Elektrode 20 ist von dem ersten Kontaktabschnitt 16 mittels einer elektrischen Isolierungsbarriere 21 elektrisch isoliert. Über der ersten Elektrode 20 ist eine organische funktionelle Schichtenstruktur 22 der lichtemittierenden Schichtenstruktur ausgebildet. Die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 kann beispielsweise eine, zwei oder mehr Teilschichten aufweisen, wie weiter unten mit Bezug zu 2 näher erläutert. Über der organischen funktionellen Schichtenstruktur 22 ist eine zweite Elektrode 23 der lichtemittierenden Schichtenstruktur ausgebildet, die elektrisch mit dem ersten Kontaktabschnitt 16 gekoppelt ist. Die erste Elektrode 20 dient beispielsweise als Anode oder Kathode der lichtemittierenden Schichtenstruktur. Die zweite Elektrode 23 dient korrespondierend zu der ersten Elektrode als Kathode bzw. Anode der lichtemittierenden Schichtenstruktur.The light-emitting layer structure has a first electrode layer 14 on that a first contact section 16 , a second contact section 18 and a first electrode 20 having. The second contact section 18 is with the first electrode 20 the light-emitting layer structure electrically coupled. The first electrode 20 is from the first contact section 16 by means of an electrical insulation barrier 21 electrically isolated. Above the first electrode 20 is an organic functional layered structure 22 the light-emitting layer structure is formed. The organic functional layer structure 22 For example, it may have one, two or more sublayers, as discussed below with reference to FIG 2 explained in more detail. Over the organic functional layer structure 22 is a second electrode 23 the light-emitting layer structure formed electrically with the first contact portion 16 is coupled. The first electrode 20 serves, for example, as the anode or cathode of the light-emitting layer structure. The second electrode 23 serves as a cathode or anode of the light-emitting layer structure corresponding to the first electrode.

Über der zweiten Elektrode 23 und teilweise über dem ersten Kontaktabschnitt 16 und teilweise über dem zweiten Kontaktabschnitt 18 ist eine Verkapselungsschicht 24 der lichtemittierende Schichtenstruktur ausgebildet, die die lichtemittierende Schichtenstruktur verkapselt. In der Verkapselungsschicht 24 sind über dem ersten Kontaktabschnitt 16 eine erste Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 und über dem zweiten Kontaktabschnitt 18 eine zweite Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. In der ersten Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ist ein erster Kontaktbereich 32 freigelegt und in der zweiten Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ist ein zweiter Kontaktbereich 34 freigelegt. Der erste Kontaktbereich 32 dient zum elektrischen Kontaktieren des ersten Kontaktabschnitts 16 und der zweite Kontaktbereich 34 dient zum elektrischen Kontaktieren des zweiten Kontaktabschnitts 18.Above the second electrode 23 and partially over the first contact portion 16 and partially over the second contact portion 18 is an encapsulation layer 24 the light-emitting layer structure is formed, which encapsulates the light-emitting layer structure. In the encapsulation layer 24 are above the first contact section 16 a first recess of the encapsulation layer 24 and over the second contact portion 18 a second recess of the encapsulation layer 24 educated. In the first recess of the encapsulation layer 24 is a first contact area 32 exposed and in the second recess of the encapsulation layer 24 is a second contact area 34 exposed. The first contact area 32 serves for electrically contacting the first contact section 16 and the second contact area 34 serves for electrically contacting the second contact section 18 ,

Über der Verkapselungsschicht 24 ist eine Haftmittelschicht 36 ausgebildet. Die Haftmittelschicht 36 weist beispielsweise ein Haftmittel, beispielsweise einen Klebstoff, beispielsweise einen Laminierklebstoff, einen Lack und/oder ein Harz auf. Über der Haftmittelschicht 36 ist ein Abdeckkörper 38 ausgebildet. Die Haftmittelschicht 36 dient zum Befestigen des Abdeckkörpers 38 an der Verkapselungsschicht 24. Der Abdeckkörper 38 weist beispielsweise Glas und/oder Metall auf. Beispielsweise kann der Abdeckkörper 38 im Wesentlichen aus Glas gebildet sein und eine dünne Metallschicht, beispielsweise eine Metallfolie, und/oder eine Graphitschicht, beispielsweise ein Graphitlaminat, auf dem Glaskörper aufweisen. Der Abdeckkörper 38 dient zum Schützen des organischen lichtemittierenden Bauelements 1, beispielsweise vor mechanischen Krafteinwirkungen von außen. Ferner kann der Abdeckkörper 38 zum Verteilen und/oder Abführen von Hitze dienen, die in dem organischen lichtemittierenden Bauelement 1 erzeugt wird. Beispielsweise kann das Glas des Abdeckkörpers 38 als Schutz vor äußeren Einwirkungen dienen und die Metallschicht des Abdeckkörpers 38 kann zum Verteilen und/oder Abführen der beim Betrieb des organischen lichtemittierenden Bauelements 1 entstehenden Wärme dienen.Above the encapsulation layer 24 is an adhesive layer 36 educated. The adhesive layer 36 has, for example, an adhesive, for example an adhesive, for example a laminating adhesive, a lacquer and / or a resin. Over the adhesive layer 36 is a cover body 38 educated. The adhesive layer 36 serves to fasten the cover body 38 at the encapsulation layer 24 , The cover body 38 has, for example, glass and / or metal. For example, the cover body 38 may be formed essentially of glass and a thin metal layer, such as a metal foil, and / or a graphite layer, such as a graphite laminate, on the glass body. The cover body 38 serves to protect the organic light emitting device 1 , for example, from mechanical forces from the outside. Furthermore, the cover body 38 serve for distributing and / or dissipating heat in the organic light-emitting device 1 is produced. For example, the glass of the cover body 38 serve as protection against external influences and the metal layer of the cover body 38 can be used to distribute and / or dissipate during operation of the organic light-emitting device 1 serve arising heat.

2 zeigt eine detaillierte Schnittdarstellung einer Schichtstruktur eines Ausführungsbeispiels eines organischen lichtemittierenden Bauelementes, beispielsweise des im Vorhergehenden erläuterten organischen lichtemittierenden Bauelements 1. Das organische lichtemittierende Bauelement 1 kann als Top-Emitter und/oder Bottom-Emitter ausgebildet sein. Falls das organische lichtemittierende Bauelement 1 als Top-Emitter und Bottom-Emitter ausgebildet ist, kann das organische lichtemittierende Bauelement 1 als optisch transparentes Bauelement, beispielsweise eine transparente organische Leuchtdiode, bezeichnet werden. 2 shows a detailed sectional view of a layer structure of an embodiment of an organic light-emitting device, for example, the above-explained organic light-emitting device 1 , The organic light emitting device 1 can be designed as a top emitter and / or bottom emitter. If the organic light emitting device 1 is designed as a top emitter and bottom emitter, the organic light emitting device 1 be referred to as optically transparent component, such as a transparent organic light-emitting diode.

Das organische lichtemittierende Bauelement 1 weist den Träger 12 und einen aktiven Bereich über dem Träger 12 auf. Zwischen dem Träger 12 und dem aktiven Bereich kann eine erste nicht dargestellte Barriereschicht, beispielsweise eine erste Barrieredünnschicht, ausgebildet sein. Der aktive Bereich weist die erste Elektrode 20, die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 und die zweite Elektrode 23 auf. Über dem aktiven Bereich ist die Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 24 kann als zweite Barriereschicht, beispielsweise als zweite Barrieredünnschicht, ausgebildet sein. Über dem aktiven Bereich und gegebenenfalls über der Verkapselungsschicht 24, ist der Abdeckkörper 38 angeordnet. Der Abdeckkörper 38 kann beispielsweise mittels einer Haftmittelschicht 36 auf der Verkapselungsschicht 24 angeordnet sein.The organic light emitting device 1 indicates the carrier 12 and an active area over the carrier 12 on. Between the carrier 12 and the active region, a first barrier layer, not shown, for example, a first barrier layer, be formed. The active area has the first electrode 20 , the organic functional layer structure 22 and the second electrode 23 on. Above the active area is the encapsulation layer 24 educated. The encapsulation layer 24 may be formed as a second barrier layer, for example as a second barrier thin layer. Above the active area and optionally above the encapsulation layer 24 , is the cover body 38 arranged. The cover body 38 For example, by means of an adhesive layer 36 on the encapsulation layer 24 be arranged.

Die erste Elektrode 20 weist ein Trägermaterial 40 und Streuelemente 42 auf. Beispielsweise kann die erste Elektrode 20 von dem Trägermaterial 40 und den Streuelementen 42 gebildet sein. Die Streuelemente 42 sind in dem Trägermaterial 40 eingebettet. Die Streuelemente 42 dienen zum Streuen von Licht, das in der organischen funktionellen Schichtenstruktur 22 erzeugt wird. Alternativ oder zusätzlich zu der ersten Elektrode 20 kann die zweite Elektrode 23 das Trägermaterial 40 und/oder die Streuelemente 42 aufweisen. Beispielsweise kann die zweite Elektrode 23 von dem Trägermaterial 40 und den Streuelementen 42 gebildet sein. Das Trägermaterial 40, die Streuelemente 42 und die Elektrode 20, 23, die das Trägermaterial 40 und die Streuelemente 42 aufweist, werden weiter unten mit Bezug zu den 3, 4 und 5 näher erläutert. The first electrode 20 has a carrier material 40 and scattering elements 42 on. For example, the first electrode 20 from the substrate 40 and the scattering elements 42 be formed. The scattering elements 42 are in the carrier material 40 embedded. The scattering elements 42 serve to scatter light that is in the organic functional layer structure 22 is produced. Alternatively or in addition to the first electrode 20 can the second electrode 23 the carrier material 40 and / or the scattering elements 42 exhibit. For example, the second electrode 23 from the substrate 40 and the scattering elements 42 be formed. The carrier material 40 , the scattering elements 42 and the electrode 20 . 23 containing the carrier material 40 and the scattering elements 42 will be discussed below with reference to the 3 . 4 and 5 explained in more detail.

Der aktive Bereich ist ein elektrisch und/oder optisch aktiver Bereich. Der aktive Bereich ist beispielsweise der Bereich des organischen lichtemittierenden Bauelements 1, in dem elektrischer Strom zum Betrieb des organischen lichtemittierenden Bauelements 1 fließt und/oder in dem elektromagnetische Strahlung erzeugt wird.The active region is an electrically and / or optically active region. The active region is, for example, the region of the organic light-emitting component 1 , in the electric current for operation of the organic light-emitting device 1 flows and / or in which electromagnetic radiation is generated.

Die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 kann ein, zwei oder mehr funktionelle Schichtenstruktur-Einheiten und eine, zwei oder mehr Zwischenschichten zwischen den Schichtenstruktur-Einheiten aufweisen.The organic functional layer structure 22 may comprise one, two or more functional layered structure units and one, two or more intermediate layers between the layered structure units.

Der Träger 12 kann transluzent oder transparent ausgebildet sein. Der Träger 12 dient als Trägerelement für elektronische Elemente oder Schichten, beispielsweise lichtemittierende Elemente. Der Träger 12 kann beispielsweise Glas, Quarz, und/oder ein Halbleitermaterial oder irgendein anderes geeignetes Material aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann der Träger 12 eine Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Kunststoff kann ein oder mehrere Polyolefine aufweisen. Ferner kann der Kunststoff Polyvinylchlorid (PVC), Polystyrol (PS), Polyester und/oder Polycarbonat (PC), Polyethylenterephthalat (PET), Polyethersulfon (PES) und/oder Polyethylennaphthalat (PEN) aufweisen. Der Träger 12 kann ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein, beispielsweise Kupfer, Silber, Gold, Platin, Eisen, beispielsweise eine Metallverbindung, beispielsweise Stahl. Der Träger 12 kann als Metallfolie oder metallbeschichtete Folie ausgebildet sein. Der Träger 12 kann ein Teil einer Spiegelstruktur sein oder diese bilden. Der Träger 12 kann einen mechanisch rigiden Bereich und/oder einen mechanisch flexiblen Bereich aufweisen oder derart ausgebildet sein.The carrier 12 can be translucent or transparent. The carrier 12 serves as a carrier element for electronic elements or layers, for example light-emitting elements. The carrier 12 For example, it may include or be formed from glass, quartz, and / or a semiconductor material, or any other suitable material. Furthermore, the carrier can 12 comprise or be formed from a plastic film or a laminate with one or more plastic films. The plastic may have one or more polyolefins. Further, the plastic may include polyvinyl chloride (PVC), polystyrene (PS), polyester and / or polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES) and / or polyethylene naphthalate (PEN). The carrier 12 may comprise or be formed from a metal, for example copper, silver, gold, platinum, iron, for example a metal compound, for example steel. The carrier 12 may be formed as a metal foil or metal-coated foil. The carrier 12 may be part of or form part of a mirror structure. The carrier 12 may have a mechanically rigid region and / or a mechanically flexible region or be formed.

Die erste Elektrode 20 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 kann transluzent oder transparent ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 kann ein elektrisch leitfähiges Material aufweisen, beispielsweise Metall und/oder ein leitfähiges transparentes Oxid (transparent conductive oxide, TCO) oder einen Schichtenstapel mehrerer Schichten, die Metalle oder TCOs aufweisen. Die erste Elektrode 20 kann beispielsweise einen Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs aufweisen, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine Silberschicht, die auf einer Indium-Zinn-Oxid-Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag-ITO Multischichten. Als Metall können beispielsweise Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm oder Li, sowie Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen dieser Materialien verwendet werden.The first electrode 20 may be formed as an anode or as a cathode. The first electrode 20 can be translucent or transparent. The first electrode 20 may comprise an electrically conductive material, for example metal and / or a conductive conductive oxide (TCO) or a layer stack of several layers comprising metals or TCOs. The first electrode 20 For example, a layer stack may comprise a combination of a layer of a metal on a layer of a TCO, or vice versa. An example is a silver layer deposited on an indium tin oxide (ITO) layer (Ag on ITO) or ITO-Ag-ITO multilayers. As the metal, for example, Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ca, Sm or Li, as well as compounds, combinations or alloys of these materials can be used.

Transparente leitfähige Oxide sind transparente, leitfähige Materialien, beispielsweise Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid, oder Indium-Zinn-Oxid (ITO). Neben binären Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise ZnO, SnO2, oder In2O3 gehören auch ternäre Metallsauerstoffverbindungen, wie beispielsweise AlZnO, Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 oder In4Sn3O12 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitfähiger Oxide zu der Gruppe der TCOs.Transparent conductive oxides are transparent, conductive materials, for example metal oxides, such as, for example, zinc oxide, tin oxide, cadmium oxide, titanium oxide, indium oxide, or indium tin oxide (ITO). In addition to binary metal oxygen compounds such as ZnO, SnO2 or In2O3, ternary metal oxygen compounds such as AlZnO, Zn2SnO4, CdSnO3, ZnSnO3, MgIn2O4, GaInO3, Zn2In2O5 or In4Sn3O12 or mixtures of different transparent conductive oxides also belong to the group of TCOs.

Die erste Elektrode 20 kann alternativ oder zusätzlich zu den genannten Materialien aufweisen: Netzwerke aus metallischen Nanodrähten und -teilchen, beispielsweise aus Ag, Netzwerke aus Kohlenstoff-Nanoröhren, Graphen-Teilchen und -Schichten und/oder Netzwerke aus halbleitenden Nanodrähten. Beispielsweise kann die erste Elektrode 20 eine der folgenden Strukturen aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Netzwerk aus metallischen Nanodrähten, beispielsweise aus Ag, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sind, ein Netzwerk aus Kohlenstoff-Nanoröhren, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sind und/oder Graphen-Schichten und Komposite. Ferner kann die erste Elektrode 20 elektrisch leitfähige Polymere oder Übergangsmetalloxide aufweisen.The first electrode 20 may alternatively or in addition to the materials mentioned include: networks of metallic nanowires and particles, for example of Ag, networks of carbon nanotubes, graphene particles and layers and / or networks of semiconducting nanowires. For example, the first electrode 20 have or consist of one of the following structures: a network of metallic nanowires, such as Ag, combined with conductive polymers, a network of carbon nanotubes combined with conductive polymers, and / or graphene layers and composites. Furthermore, the first electrode 20 having electrically conductive polymers or transition metal oxides.

Das Trägermaterial 40 der ersten Elektrode 20 kann optional von einem elektrisch isolierenden Material gebildet sein, wie nachfolgend mit Bezug zu den 4 und 5 näher erläutert.The carrier material 40 the first electrode 20 may optionally be formed by an electrically insulating material as described below with reference to FIGS 4 and 5 explained in more detail.

Die erste Elektrode 20 kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von 10 nm bis 500 nm, beispielsweise von 25 nm bis 250 nm, beispielsweise von 50 nm bis 100 nm.The first electrode 20 may for example have a layer thickness in a range of 10 nm to 500 nm, for example from 25 nm to 250 nm, for example from 50 nm to 100 nm.

Die erste Elektrode 20 kann einen ersten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein erstes elektrisches Potential anlegbar ist. Das erste elektrische Potential kann von einer Energiequelle (nicht dargestellt) bereitgestellt werden, beispielsweise von einer Stromquelle oder einer Spannungsquelle. Alternativ kann das erste elektrische Potential an den Träger 12 angelegt sein und der ersten Elektrode 20 über den Träger 12 mittelbar zugeführt werden. Das erste elektrische Potential kann beispielsweise das Massepotential oder ein anderes vorgegebenes Bezugspotential sein.The first electrode 20 may have a first electrical connection to which a first electrical potential can be applied. The first electrical potential may be provided by a power source (not shown), for example a power source or a voltage source. Alternatively, the first electrical potential to the carrier 12 be created and the first electrode 20 over the carrier 12 be supplied indirectly. The first electrical potential may be, for example, the ground potential or another predetermined reference potential.

Die organische funktionelle Schichtenstruktur 22 kann eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Emitterschicht, eine Elektronentransportschicht und/oder eine Elektroneninjektionsschicht aufweisen.The organic functional layer structure 22 may comprise a hole injection layer, a hole transport layer, an emitter layer, an electron transport layer and / or an electron injection layer.

Die Lochinjektionsschicht kann auf oder über der ersten Elektrode 20 ausgebildet sein. Die Lochinjektionsschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: HAT-CN, Cu(I)pFBz, MoOx, WOx, VOx, ReOx, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Bi(III)pFBz, F16CuPc; NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro-NPB(N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro); DMFL-TPD N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); DPFL-NPB(N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(n,n-diphenylamino)-9,9-spirobifluoren); 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N'-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor; N,N' bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin; 2,7 Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren; Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan; 2,2',7,7'tetra(N,N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren; und/oder N,N,N',N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidin.The hole injection layer may be on or over the first electrode 20 be educated. The hole injection layer may comprise or be formed from one or more of the following materials: HAT-CN, Cu (I) pFBz, MoOx, WOx, VOx, ReOx, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-9, Bi (III) pFBz , F16CuPc; NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine); beta-NPB N, N'-bis (naphthalen-2-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine); TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine); Spiro TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine); Spiro-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -spiro); DMFL-TPD N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene); DMFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene); DPFL-TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene); DPFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene); Spiro-TAD (2,2 ', 7,7'-tetrakis (n, n-diphenylamino) -9,9-spirobifluorene); 9,9-bis [4- (N, N-bis-biphenyl-4-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene; 9,9-bis [4- (N, N-bis-naphthalen-2-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene; 9,9-bis [4- (N, N'-bis-naphthalen-2-yl-N, N'-bis-phenyl-amino) -phenyl] -9-fluoro; N, N 'bis (phenanthrene-9-yl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine; 2.7 bis [N, N-bis (9,9-spiro-bifluoren-2-yl) -amino] -9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-bis [N, N-bis (biphenyl-4-yl) amino] 9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-bis (N, N-di-phenyl-amino) 9,9-spiro-bifluorene; Di- [4- (N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexane; 2,2 ', amino-spiro-bifluorene 7,7'tetra (N, N-di-tolyl); and / or N, N, N ', N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidine.

Die Lochinjektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 1000 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 30 nm bis ungefähr 300 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 50 nm bis ungefähr 200 nm.The hole injection layer may have a layer thickness in a range of about 10 nm to about 1000 nm, for example in a range of about 30 nm to about 300 nm, for example in a range of about 50 nm to about 200 nm.

Auf oder über der Lochinjektionsschicht kann die Lochtransportschicht ausgebildet sein. Die Lochtransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); beta-NPB N,N'-Bis(naphthalen-2-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin); Spiro-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-spiro); DMFL-TPD N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DMFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-dimethyl-fluoren); DPFL-TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); DPFL-NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-9,9-diphenyl-fluoren); Spiro-TAD (2,2',7,7'-Tetrakis(n,n-diphenylamino)-9,9'-spirobifluoren); 9,9-Bis[4-(N,N-bis-biphenyl-4-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N-bis-naphthalen-2-yl-amino)phenyl]-9H-fluoren; 9,9-Bis[4-(N,N'-bis-naphthalen-2-yl-N,N'-bis-phenyl-amino)-phenyl]-9H-fluor; N,N' bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidin; 2,7-Bis[N,N-bis(9,9-spiro-bifluorene-2-yl)-amino]-9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis[N,N-bis(biphenyl-4-yl)amino]9,9-spiro-bifluoren; 2,2'-Bis(N,N-di-phenyl-amino)9,9-spiro-bifluoren; Di-[4-(N,N-ditolyl-amino)-phenyl]cyclohexan; 2,2',7,7'-tetra(N,N-di-tolyl)amino-spiro-bifluoren; und N,N,N',N' tetra-naphthalen-2-yl-benzidin.On or above the hole injection layer, the hole transport layer may be formed. The hole transport layer may comprise or be formed from one or more of the following materials: NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine); beta-NPB N, N'-bis (naphthalen-2-yl) -N, N'-bis (phenyl) -benzidine); TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine); Spiro TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine); Spiro-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -spiro); DMFL-TPD N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene); DMFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene); DPFL-TPD (N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene); DPFL-NPB (N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene); Spiro-TAD (2,2 ', 7,7'-tetrakis (n, n-diphenylamino) -9,9'-spirobifluorene); 9,9-bis [4- (N, N-bis-biphenyl-4-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene; 9,9-bis [4- (N, N-bis-naphthalen-2-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene; 9,9-bis [4- (N, N'-bis-naphthalen-2-yl-N, N'-bis-phenyl-amino) -phenyl] -9-fluoro; N, N 'bis (phenanthrene-9-yl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine; 2,7-bis [N, N-bis (9,9-spiro-bifluorenes-2-yl) amino] -9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-bis [N, N-bis (biphenyl-4-yl) amino] 9,9-spiro-bifluorene; 2,2'-bis (N, N-di-phenyl-amino) 9,9-spiro-bifluorene; Di- [4- (N, N-ditolyl-amino) -phenyl] cyclohexane; 2,2 ', 7,7'-tetra (N, N-di-tolyl) amino-spiro-bifluorene; and N, N, N ', N'-tetra-naphthalen-2-yl-benzidine.

Die Lochtransportschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The hole transport layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.

Auf oder über der Lochtransportschicht kann die eine oder mehrere Emitterschichten ausgebildet sein, beispielsweise mit fluoreszierenden und/oder phosphoreszierenden Emittern. Die Emitterschicht kann organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nichtpolymere Moleküle („small molecules”) oder eine Kombination dieser Materialien aufweisen. Die Emitterschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: organische oder organmetallische Verbindungen, wie Derivate von Polyfluoren, Polythiophen und Polyphenylen (z. B. 2- oder 2,5-substituiertes Poly-p-phenylenvinylen) sowie Metallkomplexe, beispielsweise Iridium-Komplexe wie blau phosphoreszierendes FIrPic (Bis(3,5-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl)iridium III), grün phosphoreszierendes Ir(ppy)3 (Tris(2-phenylpyridin)iridium III), rot phosphoreszierendes Ru (dtb-bpy)3·2(PF6) (Tris[4,4'-di-tert-butyl-(2,2')-bipyridin]ruthenium(III)komplex) sowie blau fluoreszierendes DPAVBi (4,4-Bis[4-(di-p-tolylamino)styryl]biphenyl), grün fluoreszierendes TTPA (9,10-Bis[N,N-di-(p-tolyl)-amino]anthracen) und rot fluoreszierendes DCM2 (4-Dicyanomethylen)-2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran) als nichtpolymere Emitter. Solche nichtpolymeren Emitter sind beispielsweise mittels thermischen Verdampfens abscheidbar. Ferner können Polymeremitter eingesetzt werden, welche beispielsweise mittels eines nasschemischen Verfahrens abscheidbar sind, wie beispielsweise einem Aufschleuderverfahren (auch bezeichnet als Spin Coating). Die Emittermaterialien können in geeigneter Weise in einem Matrixmaterial eingebettet sein, beispielsweise einer technischen Keramik oder einem Polymer, beispielsweise einem Epoxid, oder einem Silikon.On or above the hole transport layer, the one or more emitter layers may be formed, for example with fluorescent and / or phosphorescent emitters. The emitter layer may comprise organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small, non-polymeric molecules ("small molecules") or a combination of these materials. The emitter layer may comprise or be formed from one or more of the following materials: organic or organometallic compounds such as derivatives of polyfluorene, polythiophene and polyphenylene (eg 2- or 2,5-substituted poly-p-phenylenevinylene) as well as metal complexes, For example, iridium complexes such as blue phosphorescent FIrPic (bis (3,5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) iridium III), green phosphorescing Ir (ppy) 3 (tris (2-phenylpyridine) iridium III), red phosphorescent Ru (dtb-bpy) 3x2 (PF6) (tris [4,4'-di-tert-butyl- (2,2 ') -bipyridine] ruthenium (III) complex) and blue fluorescent DPAVBi (4,4-bis [4- (di-p-tolylamino) styryl] biphenyl), green fluorescent TTPA (9,10-bis [N, N-di- (p-tolyl) -amino] anthracene) and red fluorescent DCM2 (4-dicyanomethylene) -2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran) as a non-polymeric emitter. Such non-polymeric emitters can be deposited by means of thermal evaporation, for example. In addition, it is possible to use polymer emitters which are obtained, for example, by means of a wet-chemical process can be deposited, such as a spin-on (also referred to as spin coating). The emitter materials may be suitably embedded in a matrix material, for example a technical ceramic or a polymer, for example an epoxy, or a silicone.

Die erste Emitterschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The first emitter layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.

Die Emitterschicht kann einfarbig oder verschiedenfarbig (zum Beispiel blau und gelb oder blau, grün und rot) emittierende Emittermaterialien aufweisen. Alternativ kann die Emitterschicht mehrere Teilschichten aufweisen, die Licht unterschiedlicher Farbe emittieren. Mittels eines Mischens der verschiedenen Farben kann die Emission von Licht mit einem weißen Farbeindruck resultieren. Alternativ oder zusätzlich kann vorgesehen sein, im Strahlengang der durch diese Schichten erzeugten Primäremission ein Konvertermaterial anzuordnen, das die Primärstrahlung zumindest teilweise absorbiert und eine Sekundärstrahlung anderer Wellenlänge emittiert, so dass sich aus einer (noch nicht weißen) Primärstrahlung durch die Kombination von primärer Strahlung und sekundärer Strahlung ein weißer Farbeindruck ergibt.The emitter layer may have single-color or different-colored (for example blue and yellow or blue, green and red) emitting emitter materials. Alternatively, the emitter layer may comprise a plurality of sub-layers which emit light of different colors. By mixing the different colors, the emission of light can result in a white color impression. Alternatively or additionally, it may be provided to arrange a converter material in the beam path of the primary emission generated by these layers, which at least partially absorbs the primary radiation and emits secondary radiation of a different wavelength, resulting in a (not yet white) primary radiation by the combination of primary radiation and secondary radiation gives a white color impression.

Auf oder über der Emitterschicht kann die Elektronentransportschicht ausgebildet sein, beispielsweise abgeschieden sein. Die Elektronentransportschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NET-18; 2,2',2''-(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole,2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(Naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole; 1,3-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium; 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene; 2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene; 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Iris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane; 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthrolin; Phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid oder dessen Imide; Perylentetracarbonsäuredianhydrid oder dessen Imide; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer Silacyclopentadieneinheit.On or above the emitter layer, the electron transport layer may be formed, for example deposited. The electron transport layer may include or be formed from one or more of the following materials: NET-18; 2,2 ', 2' '- (1,3,5-Benzinetriyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazoles, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolines (BCP); 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4- (naphthalen-1-yl) -3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazoles; 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene; 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminum; 6,6'-bis [5- (biphenyl-4-yl) -1,3,4-oxadiazo-2-yl] -2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di (naphthalen-2-yl) anthracenes; 2,7-bis -9,9-dimethylfluorene [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl]; 1,3-bis [2- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene; 2- (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Iris (2,4,6-trimethyl-3- (pyridin-3-yl) phenyl) borane; 1-methyl-2- (4- (naphthalen-2-yl) phenyl) -1H-imidazo [4,5-f] [1,10] phenanthroline; Phenyl-dipyrenylphosphine oxides; Naphthalenetetracarboxylic dianhydride or its imides; Perylenetetracarboxylic dianhydride or its imides; and silanol-based materials containing a silacyclopentadiene moiety.

Die Elektronentransportschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 30 nm, beispielsweise ungefähr 20 nm.The electron transport layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 50 nm, for example in a range of about 10 nm to about 30 nm, for example about 20 nm.

Auf oder über der Elektronentransportschicht kann die Elektroneninjektionsschicht ausgebildet sein. Die Elektroneninjektionsschicht kann eines oder mehrere der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: NDN-26, MgAg, Cs2CO3, Cs3PO4, Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF; 2,2',2''-(1,3,5-Benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole,2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP); 8-Hydroxyquinolinolato-lithium, 4-(Naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole; 1,3-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 4,7-Diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium; 6,6'-Bis[5-(biphenyl-4-yl)-1,3,4-oxadiazo-2-yl]-2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di(naphthalen-2-yl)-anthracene; 2,7-Bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]-9,9-dimethylfluorene; 1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene; 2-(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-Bis(naphthalen-2-yl)-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Tris(2,4,6-trimethyl-3-(pyridin-3-yl)phenyl)borane; 1-methyl-2-(4-(naphthalen-2-yl)phenyl)-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthroline; Phenyl-dipyrenylphosphine oxide; Naphtahlintetracarbonsäuredianhydrid oder dessen Imide; Perylentetracarbonsäuredianhydrid oder dessen Imide; und Stoffen basierend auf Silolen mit einer Silacyclopentadieneinheit.On or above the electron transport layer, the electron injection layer may be formed. The electron injection layer may include or be formed from one or more of the following materials: NDN-26, MgAg, Cs 2 CO 3, Cs 3 PO 4, Na, Ca, K, Mg, Cs, Li, LiF; 2,2 ', 2' '- (1,3,5-Benzinetriyl) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole); 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazoles, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolines (BCP); 8-hydroxyquinolinolato-lithium, 4- (naphthalen-1-yl) -3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazoles; 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene; 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BPhen); 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole; Bis (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminum; 6,6'-bis [5- (biphenyl-4-yl) -1,3,4-oxadiazo-2-yl] -2,2'-bipyridyl; 2-phenyl-9,10-di (naphthalen-2-yl) anthracenes; 2,7-bis -9,9-dimethylfluorene [2- (2,2'-bipyridine-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl]; 1,3-bis [2- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene; 2- (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline; Tris (2,4,6-trimethyl-3- (pyridin-3-yl) phenyl) borane; 1-methyl-2- (4- (naphthalen-2-yl) phenyl) -1H-imidazo [4,5-f] [1,10] phenanthroline; Phenyl-dipyrenylphosphine oxides; Naphthalenetetracarboxylic dianhydride or its imides; Perylenetetracarboxylic dianhydride or its imides; and silanol-based materials containing a silacyclopentadiene moiety.

Die Elektroneninjektionsschicht kann eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 5 nm bis ungefähr 200 nm, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 20 nm bis ungefähr 50 nm, beispielsweise ungefähr 30 nm.The electron injection layer may have a layer thickness in a range of about 5 nm to about 200 nm, for example in a range of about 20 nm to about 50 nm, for example about 30 nm.

Bei einer organischen funktionellen Schichtenstruktur 22 mit zwei oder mehr organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten können entsprechende Zwischenschichten zwischen den organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten ausgebildet sein. Die organischen funktionellen Schichtenstruktur-Einheiten können jeweils einzeln für sich gemäß einer Ausgestaltung der im vorhergehenden erläuterten organischen funktionellen Schichtenstruktur 22 ausgebildet sein. Die Zwischenschicht kann als eine Zwischenelektrode ausgebildet sein. Die Zwischenelektrode kann mit einer externen Spannungsquelle elektrisch verbunden sein. Die externe Spannungsquelle kann an der Zwischenelektrode beispielsweise ein drittes elektrisches Potential bereitstellen. Die Zwischenelektrode kann jedoch auch keinen externen elektrischen Anschluss aufweisen, beispielsweise indem die Zwischenelektrode ein schwebendes elektrisches Potential aufweist.For an organic functional layer structure 22 With two or more organic functional layer structure units, corresponding intermediate layers may be formed between the organic functional layer structure units. The organic functional layer-structure units may each individually for themselves according to an embodiment of the above-explained organic functional layer structure 22 be educated. The intermediate layer may be formed as an intermediate electrode. The intermediate electrode may be electrically connected to an external voltage source. The external voltage source can be connected to the Provide intermediate electrode, for example, a third electrical potential. However, the intermediate electrode can also have no external electrical connection, for example by the intermediate electrode having a floating electrical potential.

Die organische funktionelle Schichtenstruktur-Einheit kann beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von maximal ungefähr 3 μm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 μm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 300 nm.The organic functional layer structure unit may, for example, have a layer thickness of at most approximately 3 μm, for example a layer thickness of at most approximately 1 μm, for example a layer thickness of approximately approximately 300 nm.

Das organische lichtemittierende Bauelement 1 kann optional weitere funktionale Schichten aufweisen, beispielsweise angeordnet auf oder über der einen oder mehreren Emitterschichten oder auf oder über der Elektronentransportschicht. Die weiteren funktionalen Schichten können beispielsweise interne oder extern Ein-/Auskoppelstrukturen sein, die die Funktionalität und damit die Effizienz des organischen lichtemittierenden Bauelements 1 weiter verbessern können.The organic light emitting device 1 Optionally, it may further comprise functional layers, for example, disposed on or over the one or more emitter layers or on or above the electron transport layer. The further functional layers can be, for example, internal or external input / output coupling structures that control the functionality and thus the efficiency of the organic light-emitting component 1 can continue to improve.

Die zweite Elektrode 23 kann gemäß einer der Ausgestaltungen der ersten Elektrode 20 ausgebildet sein, wobei die erste Elektrode 20 und die zweite Elektrode 23 gleich oder unterschiedlich ausgebildet sein können. Die zweite Elektrode 23 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die zweite Elektrode 23 kann einen zweiten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein zweites elektrisches Potential anlegbar ist. Das zweite elektrische Potential kann von der gleichen oder einer anderen Energiequelle bereitgestellt werden wie das erste elektrische Potential. Das zweite elektrische Potential kann unterschiedlich zu dem ersten elektrischen Potential sein. Das zweite elektrische Potential kann beispielsweise einen Wert aufweisen derart, dass die Differenz zu dem ersten elektrischen Potential einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1,5 V bis ungefähr 20 V aufweist, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 2,5 V bis ungefähr 15 V, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 3 V bis ungefähr 12 V.The second electrode 23 may according to one of the embodiments of the first electrode 20 be formed, wherein the first electrode 20 and the second electrode 23 may be the same or different. The second electrode 23 may be formed as an anode or as a cathode. The second electrode 23 may have a second electrical connection to which a second electrical potential can be applied. The second electrical potential may be provided by the same or a different energy source as the first electrical potential. The second electrical potential may be different than the first electrical potential. For example, the second electrical potential may have a value such that the difference from the first electrical potential has a value in a range of about 1.5V to about 20V, for example, a value in a range of about 2.5V to about 15V, for example, a value in a range of about 3V to about 12V.

Die Verkapselungsschicht 24 kann auch als Dünnschichtverkapselung bezeichnet werden. Die Verkapselungsschicht 24 kann als transluzente oder transparente Schicht ausgebildet sein. Die Verkapselungsschicht 24 bildet eine Barriere gegenüber chemischen Verunreinigungen bzw. atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Wasser (Feuchtigkeit) und Sauerstoff. In anderen Worten ist die Verkapselungsschicht 24 derart ausgebildet, dass sie von Stoffen, die das lichtemittierende Bauelement schädigen können, beispielsweise Wasser, Sauerstoff oder Lösemittel, nicht oder höchstens zu sehr geringen Anteilen durchdrungen werden kann. Die Verkapselungsschicht 24 kann als eine einzelne Schicht, ein Schichtstapel oder eine Schichtstruktur ausgebildet sein.The encapsulation layer 24 can also be referred to as thin-layer encapsulation. The encapsulation layer 24 can be designed as a translucent or transparent layer. The encapsulation layer 24 forms a barrier to chemical contaminants or atmospheric substances, in particular to water (moisture) and oxygen. In other words, the encapsulation layer 24 such that they can not be penetrated by substances which can damage the light-emitting component, for example water, oxygen or solvents, or at most to very small proportions. The encapsulation layer 24 may be formed as a single layer, a layer stack or a layer structure.

Die Verkapselungsschicht 24 kann aufweisen oder daraus gebildet sein: Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid Lanthaniumoxid, Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminium-dotiertes Zinkoxid, Poly(p-phenylenterephthalamid), Nylon 66, sowie Mischungen und Legierungen derselben.The encapsulation layer 24 may include or be formed from: alumina, zinc oxide, zirconia, titania, hafnia, tantalum oxide, lanthania, silica, silicon nitride, silicon oxynitride, indium tin oxide, indium zinc oxide, aluminum doped zinc oxide, poly (p-phenylene terephthalamide), nylon 66 , as well as mixtures and alloys thereof.

Die Verkapselungsschicht 24 kann eine Schichtdicke von ungefähr 0,1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 1000 nm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm, beispielsweise ungefähr 40 nm. Die Verkapselungsschicht 24 kann ein hochbrechendes Material aufweisen, beispielsweise ein oder mehrere Material(ien) mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise mit einem Brechungsindex von 1,5 bis 3, beispielsweise von 1,7 bis 2,5, beispielsweise von 1,8 bis 2.The encapsulation layer 24 may have a layer thickness of about 0.1 nm (one atomic layer) to about 1000 nm, for example, a layer thickness of about 10 nm to about 100 nm, for example about 40 nm. The encapsulation layer 24 may comprise a high refractive index material, for example one or more materials having a high refractive index, for example having a refractive index of from 1.5 to 3, for example from 1.7 to 2.5, for example from 1.8 to 2.

Gegebenenfalls kann die erste Barriereschicht auf dem Träger 12 korrespondierend zu einer Ausgestaltung der Verkapselungsschicht 24 ausgebildet sein.Optionally, the first barrier layer on the carrier 12 corresponding to a configuration of the encapsulation layer 24 be educated.

Die Verkapselungsschicht 24 kann beispielsweise mittels eines geeigneten Abscheideverfahrens gebildet werden, z. B. mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens (Atomic Layer Deposition (ALD)), z. B. eines plasmaunterstützten Atomlagenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD)) oder eines plasmalosen Atomlageabscheideverfahrens (Plasma-less Atomic Layer Deposition (PLALD)), oder mittels eines chemischen Gasphasenabscheideverfahrens (Chemical Vapor Deposition (CVD)), z. B. eines plasmaunterstützten Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)) oder eines plasmalosen Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma-less Chemical Vapor Deposition (PLCVD)), oder alternativ mittels anderer geeigneter Abscheideverfahren.The encapsulation layer 24 can be formed for example by means of a suitable deposition method, for. Example by means of a Atomschichtabscheideverfahrens (Atomic Layer Deposition (ALD)), z. A plasma-enhanced atomic layer deposition process (PEALD) or a plasma-less atomic layer deposition process (PLALD), or by means of a chemical vapor deposition (CVD) method, e.g. A plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) or plasma-less chemical vapor deposition (PLCVD) process, or alternatively by other suitable deposition techniques.

Optional kann eine Ein- oder Auskoppelschicht beispielsweise als externe Folie (nicht dargestellt) auf dem Träger 12 oder als interne Auskoppelschicht (nicht dargestellt) im Schichtenquerschnitt des lichtemittierenden Bauelements 10 ausgebildet sein. Die Ein-/Auskoppelschicht kann eine Matrix und darin verteilt Streuzentren aufweisen, wobei der mittlere Brechungsindex der Ein-/Auskoppelschicht größer ist als der mittlere Brechungsindex der Schicht, aus der die elektromagnetische Strahlung bereitgestellt wird. Ferner können zusätzlich eine oder mehrere Entspiegelungsschichten ausgebildet sein.Optionally, a coupling or decoupling layer, for example, as an external film (not shown) on the support 12 or as an internal coupling-out layer (not shown) in the layer cross-section of the light-emitting component 10 be educated. The input / outcoupling layer may have a matrix and scattering centers distributed therein, wherein the mean refractive index of the input / outcoupling layer is greater than the average refractive index of the layer from which the electromagnetic radiation is provided. Furthermore, one or more antireflection coatings may additionally be formed.

Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise Klebstoff und/oder Lack aufweisen, mittels dessen der Abdeckkörper 38 beispielsweise auf der Verkapselungsschicht 24 angeordnet, beispielsweise aufgeklebt, ist. Die Haftmittelschicht 36 kann transparent oder transluzent ausgebildet ein. Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise Partikel aufweisen, die elektromagnetische Strahlung streuen, beispielsweise lichtstreuende Partikel. Dadurch kann die Haftmittelschicht 36 als Streuschicht wirken und zu einer Verbesserung des Farbwinkelverzugs und der Auskoppeleffizienz führen. The adhesive layer 36 may for example comprise adhesive and / or paint, by means of which the cover body 38 for example, on the encapsulation layer 24 arranged, for example glued, is. The adhesive layer 36 can be transparent or translucent. The adhesive layer 36 For example, it may comprise particles which scatter electromagnetic radiation, for example light-scattering particles. As a result, the adhesive layer 36 act as a scattering layer and lead to an improvement of the color angle distortion and the Auskoppeleffizienz.

Als lichtstreuende Partikel können dielektrische Streupartikel vorgesehen sein, beispielsweise aus einem Metalloxid, beispielsweise Siliziumoxid (SiO2), Zinkoxid (ZnO), Zirkoniumoxid (ZrO2), Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO), Galliumoxid (Ga2Ox) Aluminiumoxid, oder Titanoxid. Auch andere Partikel können geeignet sein, sofern sie einen Brechungsindex haben, der von dem effektiven Brechungsindex der Matrix der Haftmittelschicht 36 verschieden ist, beispielsweise Luftblasen, Acrylat, oder Glashohlkugeln. Ferner können beispielsweise metallische Nanopartikel, Metalle wie Gold, Silber, Eisen-Nanopartikel, oder dergleichen als lichtstreuende Partikel vorgesehen sein.Dielectric scattering particles may be provided as light-scattering particles, for example of a metal oxide, for example silicon oxide (SiO 2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2), indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), gallium oxide ( Ga2Ox) alumina, or titania. Other particles may also be suitable, provided that they have a refractive index that is equal to the effective refractive index of the matrix of the adhesive layer 36 is different, for example, air bubbles, acrylate, or glass bubbles. Furthermore, for example, metallic nanoparticles, metals such as gold, silver, iron nanoparticles, or the like may be provided as light-scattering particles.

Die Haftmittelschicht 36 kann eine Schichtdicke größer 1 μm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren μm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der Klebstoff ein Laminations-Klebstoff sein.The adhesive layer 36 may have a layer thickness greater than 1 micron, for example, a layer thickness of several microns. In various embodiments, the adhesive may be a lamination adhesive.

Die Haftmittelschicht 36 kann einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als der Brechungsindex des Abdeckkörpers 38. Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise einen niedrigbrechenden Klebstoff aufweisen, wie beispielsweise ein Acrylat, der einen Brechungsindex von ungefähr 1,3 aufweist. Die Haftmittelschicht 36 kann jedoch auch einen hochbrechenden Klebstoff aufweisen, der beispielsweise hochbrechende, nichtstreuende Partikel aufweist und der einen schichtdickengemittelten Brechungsindex aufweist, der ungefähr dem mittleren Brechungsindex der organisch funktionellen Schichtenstruktur 22 entspricht, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 1,6 bis 2,5, beispielsweise von 1,7 bis ungefähr 2,0.The adhesive layer 36 may have a refractive index that is less than the refractive index of the cover body 38 , The adhesive layer 36 For example, it may have a low refractive index adhesive such as an acrylate having a refractive index of about 1.3. The adhesive layer 36 however, it may also have a high refractive index adhesive, for example comprising high refractive index non-diffusing particles and having a coating thickness average refractive index approximately equal to the average refractive index of the organically functional layered structure 22 corresponds, for example, in a range of about 1.6 to 2.5, for example, from 1.7 to about 2.0.

Auf oder über dem aktiven Bereich kann eine sogenannte Getter-Schicht oder Getter-Struktur, d. h. eine lateral strukturierte Getter-Schicht, (nicht dargestellt) angeordnet sein. Die Getter-Schicht kann transluzent, transparent oder opak ausgebildet sein. Die Getter-Schicht kann ein Material aufweisen oder daraus gebildet sein, das Stoffe, die schädlich für den aktiven Bereich sind, absorbiert und bindet. Eine Getter-Schicht kann beispielsweise ein Zeolith-Derivat aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Getter-Schicht kann eine Schichtdicke größer 1 μm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren μm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Getter-Schicht einen Laminations-Klebstoff aufweisen oder in der Haftmittelschicht 36 eingebettet sein.A so-called getter layer or getter structure, ie a laterally structured getter layer (not shown) may be arranged on or above the active region. The getter layer can be translucent, transparent or opaque. The getter layer may include or be formed of a material that absorbs and binds substances that are detrimental to the active area. For example, a getter layer may include or be formed from a zeolite derivative. The getter layer may have a layer thickness greater than 1 micron, for example, a layer thickness of several microns. In various embodiments, the getter layer may include a lamination adhesive or in the adhesive layer 36 be embedded.

Der Abdeckkörper 38 kann beispielsweise von einem Glaskörper, einer Metallfolie oder einem abgedichteten Kunststofffolien abdeckkörper gebildet sein. Der Abdeckkörper 38 kann beispielsweise mittels einer Fritten-Verbindung (engl. glass frit bonding/glass soldering/seal glass bonding) mittels eines herkömmlichen Glaslotes in den geometrischen Randbereichen des lichtemittierenden Bauelements 10 auf der Verkapselungsschicht 24 bzw. dem aktiven Bereich angeordnet sein. Der Abdeckkörper 38 kann beispielsweise einen Brechungsindex (beispielsweise bei einer Wellenlänge von 633 nm) von beispielsweise 1,3 bis 3, beispielsweise von 1,4 bis 2, beispielsweise von 1,5 bis 1,8 aufweisen.The cover body 38 For example, it may be formed by a glass body, a metal foil or a sealed plastic film cover body. The cover body 38 For example, by means of a frit bonding / glass soldering / seal glass bonding by means of a conventional glass solder in the geometric edge regions of the light emitting device 10 on the encapsulation layer 24 or the active area. The cover body 38 For example, it may have a refractive index (for example, at a wavelength of 633 nm) of, for example, 1.3 to 3, for example, 1.4 to 2, for example, 1.5 to 1.8.

3 zeigt eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer der Elektroden 20, 23, die das Trägermaterial 40 und die Streuelemente 42 aufweist. Das Trägermaterial 40 ist elektrisch leitfähig und kann auch als intrinsisch leitfähige Matrix bezeichnet werden. Das Trägermaterial 40 kann beispielsweise ein leitfähiges, transparentes Material, beispielsweise ein TCO (Transparent Conductive Oxide), beispielsweise ITO, aufweisen oder davon gebildet sein. Das Trägermaterial 40 weist einen ersten Brechungsindex auf. Der erste Brechungsindex kann beispielsweise mindestens 1,7 betragen, beispielsweise in einem Bereich liegen von 1,7 bis 2,7, beispielsweise zwischen 1,7 und 2,1, beispielsweise im Falle von ITO bei 1,7. 3 shows a side sectional view of an embodiment of one of the electrodes 20 . 23 containing the carrier material 40 and the scattering elements 42 having. The carrier material 40 is electrically conductive and may also be referred to as an intrinsically conductive matrix. The carrier material 40 For example, a conductive, transparent material, for example a TCO (Transparent Conductive Oxide), for example ITO, may be present or formed therefrom. The carrier material 40 has a first refractive index. The first refractive index may, for example, be at least 1.7, for example in a range from 1.7 to 2.7, for example between 1.7 and 2.1, for example in the case of ITO at 1.7.

Die Streuelemente 42 weisen einen zweiten Brechungsindex auf, der kleiner ist als der erste Brechungsindex. Die Streuelemente 42 können in diesem Zusammenhang auch als niedrigbrechende Streuelemente 42 bezeichnet werden. Der zweite Brechungsindex kann beispielsweise in einem Bereich liegen von 1 bis 1,7. Die Streuelemente 42 können beispielsweise Mikrostrukturen oder Nanostrukturen aufweisen oder davon gebildet sein. Mikrostrukturen sind beispielsweise Körper, die mindestens ein Außenmaß aufweisen, das in einem Bereich liegt von größer oder gleich 1 μm bis kleiner 1 mm. Die Mikrostrukturen weisen beispielsweise Mikropartikel, Mikrohohlräume und/oder Mikroporen auf. Nanostrukturen sind beispielsweise Körper, die mindestens ein Außenmaß aufweisen, das in einem Bereich liegt von größer oder gleich 1 nm bis kleiner 1 μm. Die Nanostrukturen weisen beispielsweise Nanopartikel, Nanoröhren, Nanodrähte, Nanoporen und/oder Nanodots auf. Falls die Streuelemente 42 von Hohlräumen und/oder Poren in dem Trägermaterial 42 gebildet sind, so können die Hohlräume bzw. Poren mit Luft oder Gas gefüllt sein oder je ein Vakuum enthalten. Die Streuelemente 42 können so ausgebildet sein, dass sie keine oder lediglich eine geringe Absorption bezüglich des erzeugten und zu streuenden Lichts aufweisen. Die Streuelemente 42 können beispielsweise SiO₂ aufweisen oder davon gebildet sein, und/oder einen zweiten Brechungsindex von 1,5 aufweisen. Die Streuelemente 42 können elektrisch leitfähig oder elektrisch isolierend ausgebildet sein.The scattering elements 42 have a second refractive index that is less than the first refractive index. The scattering elements 42 can in this context also as low-refractive scattering elements 42 be designated. The second refractive index may be in a range of 1 to 1.7, for example. The scattering elements 42 For example, they may include or be formed from microstructures or nanostructures. Microstructures are, for example, bodies which have at least one outer dimension that is in a range of greater than or equal to 1 μm to less than 1 mm. The microstructures have, for example, microparticles, microvoids and / or micropores. Nanostructures are, for example, bodies which have at least one outer dimension that is in a range from greater than or equal to 1 nm to less than 1 μm. The nanostructures have, for example, nanoparticles, nanotubes, nanowires, nanopores and / or nanodots. If the scattering elements 42 cavities and / or pores in the substrate 42 are formed, so the cavities or pores with Be filled with air or gas or each contain a vacuum. The scattering elements 42 may be designed so that they have no or only a slight absorption with respect to the light generated and to be scattered. The scattering elements 42 For example, they may include or be formed from SiO ₂ , and / or have a second refractive index of 1.5. The scattering elements 42 can be electrically conductive or electrically insulating.

4 zeigt eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer der Elektroden 20, 23, die das Trägermaterial 40 und die Streuelemente 42 aufweist. Die Elektrode 20, 23 weist elektrisch leitfähige Leitelemente 44 auf. Die elektrisch leitfähigen Leitelemente 44 können alternativ oder zusätzlich zu dem Trägermaterial 40 die Stromleitung in der Elektrode 20, 23 übernehmen. 4 shows a side sectional view of an embodiment of one of the electrodes 20 . 23 containing the carrier material 40 and the scattering elements 42 having. The electrode 20 . 23 has electrically conductive guide elements 44 on. The electrically conductive guide elements 44 may alternatively or in addition to the carrier material 40 the power line in the electrode 20 . 23 take.

Das Trägermaterial 40 kann optional elektrisch isolierend ausgebildet sein. Das Trägermaterial 40 kann beispielsweise ein transparentes oder transluzentes Material aufweisen. Das Trägermaterial 40 kann beispielsweise ein Polymer aufweisen oder davon gebildet sein. Das Polymer kann beispielsweise ein Hoch-Index-Polymer mit einem Brechungsindex von mindestens 1,7 haben, beispielsweise zwischen 1,7 und 2,7, beispielsweise zwischen 1,7 und 2,1.The carrier material 40 can optionally be designed electrically insulating. The carrier material 40 For example, it may have a transparent or translucent material. The carrier material 40 For example, it may comprise or be formed from a polymer. For example, the polymer may have a high index polymer having a refractive index of at least 1.7, for example between 1.7 and 2.7, for example between 1.7 and 2.1.

Die Streuelemente 42 können beispielsweise gemäß den im Vorhergehenden erläuterten Streuelementen 42 ausgebildet sein. Die Streuelemente 42 können elektrisch leitfähig oder elektrisch isolierend ausgebildet sein.The scattering elements 42 For example, according to the above-explained scattering elements 42 be educated. The scattering elements 42 can be electrically conductive or electrically insulating.

Die Leitelemente 44 können auch als elektrisch leitfähige Zusätze bezeichnet werden. Die Leitelemente 44 übernehmen zumindest zum Teil die Stromführung und damit die Funktion der Elektrode 20, 23. Die Leitelemente 44 können beispielsweise so in dem Trägermaterial 40 eingebettet sein, dass die elektrische Leitfähigkeit der Elektrode 20, 23 aufgrund von Perkolation der Leitelemente 44 gegeben ist. In anderen Worten kann der Volumenanteil der Leitelemente 44 über der Perkolationsschwelle liegen. Die Leitelemente 44 können beispielsweise Mikrostrukturen oder Nanostrukturen aufweisen oder davon gebildet sein, durch die die elektrische Leitfähigkeit gewährleistet sein kann. Die Leitelemente weisen beispielsweise Metall, beispielsweise Silber, Gold und/oder Kupfer, und/oder ein organisches Material, beispielsweise ein Polymer auf. Dass das Material organisch ist, kann beispielsweise bedeuten, dass es Kohlenstoff aufweist. Die Leitelemente 44 können beispielsweise Mikro- oder Nanodrähte, beispielsweise Silber-Nanodrähte, oder Nanoröhren, beispielsweise Carbon-Nanotubes, oder elektrisch leitfähige, beispielsweise metallische, Nanopartikel aufweisen oder davon gebildet sein.The guiding elements 44 may also be referred to as electrically conductive additives. The guiding elements 44 take over at least in part the current flow and thus the function of the electrode 20 . 23 , The guiding elements 44 For example, so in the substrate 40 be embedded that the electrical conductivity of the electrode 20 . 23 due to percolation of the guiding elements 44 given is. In other words, the volume fraction of the guide elements 44 above the percolation threshold. The guiding elements 44 For example, microstructures or nanostructures may be or may be formed by which the electrical conductivity can be ensured. The guiding elements comprise, for example, metal, for example silver, gold and / or copper, and / or an organic material, for example a polymer. For example, the fact that the material is organic may mean that it has carbon. The guiding elements 44 For example, micro- or nanowires, for example silver nanowires, or nanotubes, for example carbon nanotubes, or electrically conductive, for example metallic, nanoparticles can have or be formed from them.

5 zeigt eine seitliche Schnittdarstellung eines Ausführungsbeispiels einer der Elektroden 20, 23, die das Trägermaterial 40 und die Streuelemente 42 aufweist. Die Streuelemente 42 sind so ausgebildet und angeordnet, dass sie zumindest teilweise den Strom durch die Elektrode 20, 23 leiten können. Die Streuelemente 42 können alternativ oder zusätzlich zu dem Trägermaterial 40 den Strom leiten und die elektrische Funktion der Elektrode 20, 23 übernehmen. Optional kann das Trägermaterial elektrisch isolierend ausgebildet sein. Das elektrisch isolierende Trägermaterial 40 kann beispielsweise gemäß dem im Vorhergehenden erläuterten elektrisch isolierenden Trägermaterial 40 ausgebildet sein. 5 shows a side sectional view of an embodiment of one of the electrodes 20 . 23 containing the carrier material 40 and the scattering elements 42 having. The scattering elements 42 are designed and arranged so that they at least partially the current through the electrode 20 . 23 can guide. The scattering elements 42 may alternatively or in addition to the carrier material 40 conduct the current and the electrical function of the electrode 20 . 23 take. Optionally, the carrier material may be designed to be electrically insulating. The electrically insulating carrier material 40 For example, according to the above-explained electrically insulating substrate 40 be educated.

Die Stromleitung über die Streuelemente 42 kann beispielsweise aufgrund von Perkolation der Streuelemente 42 gegeben sein. In anderen Worten kann der Volumenanteil der Streuelemente 42 über der Perkolationsschwelle liegen. Die Streuelemente 42 sind elektrisch leitfähig und niedrigbrechend und können ansonsten gemäß den im Vorhergehenden erläuterten Streuelementen 42 ausgebildet sein. Die Streuelemente 42 können beispielsweise Silber-Mikro- oder Nano-Partikel aufweisen oder von diesen gebildet sein. Falls das Trägermaterial 40 einen besonders hohen Brechungsindex hat, beispielsweise ca. 2,1, oder sogar 2,7, so können als Streuelemente 42 beispielsweise elektrisch leitfähige transparente Mikro- oder Nano-Partikel aus einem relativ hochbrechendem Material, wie beispielsweise ITO mit einem Brechungsindex von ca. 1,7 verwendet werden.The power line over the scattering elements 42 For example, due to percolation of the scattering elements 42 be given. In other words, the volume fraction of the scattering elements 42 above the percolation threshold. The scattering elements 42 are electrically conductive and low refractive and may otherwise be in accordance with the above-explained scattering elements 42 be educated. The scattering elements 42 For example, they may comprise or be formed by silver micro or nano particles. If the carrier material 40 has a particularly high refractive index, for example about 2.1, or even 2.7, so can as scattering elements 42 For example, electrically conductive transparent micro or nano particles of a relatively high refractive index material, such as ITO with a refractive index of about 1.7 are used.

Optional können zusätzlich die Leitelemente 44 in der Elektrode 20, 23 angeordnet sein.Optionally, in addition, the guide elements 44 in the electrode 20 . 23 be arranged.

6 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Herstellen eines organischen lichtemittierenden Bauelements, beispielsweise des im Vorhergehenden erläuterten organischen lichtemittierenden Bauelements 1. 6 shows a flowchart of an embodiment of a method for producing an organic light emitting device, for example, the above-explained organic light-emitting device 1 ,

In einem Schritt S2 wird eine erste Elektrode ausgebildet, beispielsweise die im Vorhergehenden erläuterte erste Elektrode 20. Optional kann die erste Elektrode 20 direkt auf oder über dem Träger 12 ausgebildet werden.In a step S2, a first electrode is formed, for example the first electrode explained above 20 , Optionally, the first electrode 20 directly on or above the carrier 12 be formed.

In einem Schritt S4 wird eine organische funktionelle Schichtenstruktur ausgebildet. Beispielsweise wird die im Vorhergehenden erläuterte organische funktionelle Schichtenstruktur 22 ausgebildet, beispielsweise direkt auf oder über der ersten Elektrode 20.In a step S4, an organic functional layer structure is formed. For example, the above-described organic functional layer structure becomes 22 formed, for example, directly on or above the first electrode 20 ,

In einem Schritt S6 wird eine zweite Elektrode ausgebildet. Beispielsweise wird die im Vorhergehenden erläuterte zweite Elektrode 23 ausgebildet, beispielsweise direkt auf oder über der organischen funktionellen Schichtenstruktur 22. Optional können über der zweiten Elektrode 23 die Verkapselungsschicht 24, die Haftmittelschicht 36 und/oder der Abdeckkörper 38 angeordnet und/oder ausgebildet werden.In a step S6, a second electrode is formed. For example, the second electrode explained above becomes 23 formed, for example, directly on or above the organic functional layer structure 22 , Optionally over the second electrode 23 the encapsulation layer 24 , the adhesive layer 36 and / or the cover body 38 be arranged and / or trained.

Mindestens eine der beiden Elektroden 20, 23 wird so ausgebildet, dass sie das Trägermaterial 40, die Streuelemente 42 und optional die Leitelemente 44 aufweist. Beispielsweise kann die entsprechende Elektrode 20, 23 aus Lösung prozessiertes ITO aufweisen.At least one of the two electrodes 20 . 23 is designed to be the substrate 40 , the scattering elements 42 and optionally the guiding elements 44 having. For example, the corresponding electrode 20 . 23 solution-processed ITO.

Die Erfindung ist nicht auf die angegebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. Beispielsweise kann das organische lichtemittierende Bauelement 1 mehr oder weniger als die gezeigten Schichten aufweisen. Beispielsweise kann das organische lichtemittierende Bauelement 1 ohne Träger 12, ohne Verkapselungsschicht 24, ohne Haftmittelschicht 36 und/oder ohne Abdeckkörper 38 ausgebildet sein. Beispielsweise kann das organische lichtemittierende Bauelement 1 eine oder mehrere nicht gezeigte Auskoppelschichten und/oder Wellenlängenkonversionsschichten aufweisen. Das gezeigte Verfahren kann dementsprechend mehr als die gezeigten Schritte aufweisen. Ferner können für das Trägermaterial 40, die Streuelemente 42 und/oder die Leitelemente 44 andere als die genannten Materialien verwendet werden.The invention is not limited to the specified embodiments. For example, the organic light emitting device 1 more or less than the layers shown have. For example, the organic light emitting device 1 without carrier 12 , without encapsulation layer 24 , without adhesive layer 36 and / or without cover body 38 be educated. For example, the organic light emitting device 1 have one or more outcoupling layers and / or wavelength conversion layers, not shown. The method shown can accordingly have more than the steps shown. Furthermore, for the carrier material 40 , the scattering elements 42 and / or the guide elements 44 other materials than those mentioned may be used.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

US 2012080668 A1 [0004, 0004]
US 7982396 B2 [0004, 0004]
EP 2287938 A1 [0006]

Claims

Organic light-emitting component ( 1 ), with a first electrode ( 20 ), an organic functional layer structure ( 22 ) over the first electrode ( 20 ), a second electrode ( 23 ) over the organic functional layer structure ( 22 ), wherein at least one of the two electrodes ( 20 . 23 ) a carrier material ( 40 ) with a first refractive index and into the carrier material ( 40 ) embedded scattering elements ( 42 ) having a second refractive index and wherein the second refractive index is less than the first refractive index.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to claim 1, wherein the carrier material ( 40 ) is electrically conductive.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to claim 1, wherein the carrier material ( 40 ) is formed electrically insulating.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the scattering elements ( 42 ) are electrically conductive.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to claim 4, in which the scattering elements ( 42 ) in the carrier material ( 40 ) due to percolation at least in part for the electrical function of the corresponding electrode ( 20 . 23 ) are responsible.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the electrode ( 20 . 23 ), which the carrier material ( 40 ) and the scattering elements ( 42 ), electrically conductive guide elements ( 44 ) for conducting electrical power.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to claim 6, wherein the guide elements ( 44 ) in the carrier material ( 40 ) due to percolation at least in part for the electrical function of the corresponding electrode ( 20 . 23 ) are responsible.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the scattering elements ( 42 ) and / or the guiding elements ( 44 ) Have nanostructures or are formed by nanostructures.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to claim 8, wherein the nanostructures nanoparticles, nanotubes, nanowires, nanopores and / or nanodots have.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the first refractive index is at least 1.7.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to any one of the preceding claims, wherein the second refractive index is in a range of 1 to 1.7.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the scattering elements ( 42 ), Air or gas, SiO ₂ and / or ITO or are formed thereof.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, in which the carrier material ( 40 ) comprises or is formed by a transparent conductive oxide, ITO, a polymer and / or a high-index polymer.

Organic light-emitting component ( 1 ) according to one of the preceding claims, wherein the guide elements 44 Metal and / or an organic material.

Method for producing an organic light-emitting component ( 1 ), in which a first electrode ( 20 ), an organic functional layer structure ( 22 ) over the first electrode ( 20 ), a second electrode ( 23 ) over the organic functional layer structure ( 22 ) is formed, wherein at least one of the two electrodes ( 20 . 23 ) a carrier material ( 40 ) with a first refractive index and into the carrier material ( 40 ) embedded scattering elements ( 42 ) having a second refractive index and wherein the second refractive index is less than the first refractive index.