CN1410927A - 掩模交易系统及方法 - Google Patents

掩模交易系统及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1410927A
CN1410927A CN02142752A CN02142752A CN1410927A CN 1410927 A CN1410927 A CN 1410927A CN 02142752 A CN02142752 A CN 02142752A CN 02142752 A CN02142752 A CN 02142752A CN 1410927 A CN1410927 A CN 1410927A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
mentioned
information
processing mode
purchaser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN02142752A
Other languages
English (en)
Inventor
姜帥现
池永修
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Publication of CN1410927A publication Critical patent/CN1410927A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06QINFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G06Q30/00Commerce
    • G06Q30/06Buying, selling or leasing transactions
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06QINFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G06Q30/00Commerce
    • G06Q30/06Buying, selling or leasing transactions
    • G06Q30/0601Electronic shopping [e-shopping]
    • G06Q30/0633Lists, e.g. purchase orders, compilation or processing
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06QINFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G06Q50/00Systems or methods specially adapted for specific business sectors, e.g. utilities or tourism
    • G06Q50/04Manufacturing

Abstract

本发明的掩模交易系统及方法,根据掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换,可以订购制作更符合掩模购买者意愿的掩模。掩模交易系统的主机装置20,具有通过网络与购买者进行信息交换的购买代理22和与销售者进行信息交换的销售代理24。形成存储虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但掩模的缴纳期限及价格的好否相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息的流水线信息文件48。计算部28计算出分别使用多种处理方式时掩模制品的预定缴纳期限及预定价格。通过处理方式选择部30并借助购买代理22将计算出的结果提供给掩模购买者。

Description

掩模交易系统及方法
技术领域
本发明涉及一种通过网络进行制造半导体装置用的光掩模(photomask)的交易的掩模交易系统及其方法。
背景技术
交易制造半导体装置用的光掩模时,基本上按照以下顺序进行交易。首先,掩模购买者针对掩模制造厂家发行订购书,在订购书中,注明掩模的规格、数量、希望缴纳期及检查规格等信息。掩模制造厂家根据订购书在工厂中制造订购的掩模。掩模制造厂家检查制造出的掩模制品,如果制品的检查数据表明与订购书所述的式样不符时,将再次进行掩模的制造。如此,掩模制造厂家重复掩模的制造及检查工作,当生产出与订购书所述的式样符合时才向掩模购买者交纳货品。
伴随着半导体装置的高度集成化及微小化,用于曝光的光掩模也趋于高度集成化及微小化。掩模被作为在晶片上曝光半导体装置的图案(デバイスパタ一ン,器件图)的底版使用,在掩模上也印刷器件图。作为在掩模上绘制器件图的方式提出了现有的两种方式。一种为利用激光、电子束等微米级的探针依次绘制器件图的方法(以下称为依次绘制方式)。另一种为作为底板在掩模上预先准备应该实现的图案,数十毫米区域一并形成图案的方式(以下称为整体绘制方式)。
上述两种绘制方式的绘制原理完全不同,因此在绘制准备方法和绘制时间等上显示了完全不同的特征。因此,在制造掩模时分别使用这两种绘制方式的情况下,即使在掩模的功能上能得到实质相同的结果,但掩模的缴纳期限和价格会产生很大的差别。不限于绘制方式,在掩模制造时的处理方式上,即使在掩模的功能上能得到实质相同的结果,但也会存在掩模的缴纳期限及价格的好否相反,以及根据掩模的制造枚数不同制造所须时间的早晚及/或制造所须费用的高低相反的情况。但是,以往的掩模交易方法中,这种信息的详细内容在掩模购买者与掩模销售者之间互通,若考虑劳动力和时间在现实中是困难的。
本发明鉴于以往技术的问题点,其目的在于根据掩模购买者与掩模销售者之间密切的信息交换,提供一种可以更合乎掩模购买者意愿的掩模制造订购的掩模交易系统及方法。
发明内容
本发明的第1方面为用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,存储包含上述购买中介部输入的掩模的规格及数量等的掩模制造订购信息;
缴纳期限信息存储部,存储包括掩模制造状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息;
价格信息存储部,存储包括掩模制造状态与掩模价格之间关系的价格信息;
处理流水线信息存储部,存储包括在掩模制造工厂制作掩模时,用于进行存在虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但掩模的缴纳期限及价格的好否相反的情况的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息、上述价格信息及上述流水线信息,算出使用上述多个处理方式的每一个的情况下掩模制品的预定缴纳期限及预定价格;以及
处理方式选择部,通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述掩模制品的预定交纳期限及预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
本发明的第2方面为用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,存储包含上述购买中介部输入的掩模的规格及数量等的掩模制造订购信息;
缴纳期限信息存储部,存储包括掩模制造状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息;
流水线信息存储部,存储包括在掩模制造工厂中制作掩模时,用于进行存在虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须时间的早晚则相反的情况的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息及上述流水线信息,算出使用上述多种处理方式的每种的情况下每枚掩模制品的预定缴纳期限;以及
处理方式选择部,通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定交纳期限,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
本发明的第3方面为用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,存储包含上述购买中介部输入的掩模的规格及数量等的掩模制造订购信息;
价格信息存储部,存储包括掩模制造状态与掩模价格之间关系的价格信息;
流水线信息存储部,存储包括在掩模制造工厂中制作掩模时,用于进行存在虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须费用的多少则相反的多种处理方式的每个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,回应上述掩模制作订购,参照上述价格信息及上述流水线信息,算出使用上述多种处理方式的每种的情况下每枚掩模制品的预定价格;以及
处理方式选择部,通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
本发明的第4到第6方面为分别利用上述第1至第3方面的系统进行掩模交易的方法。
而且,本发明的实施方式中包括各种阶段的发明,在被公开的多个构成要件中根据适当的组合提取得到各项发明。例如,实施方式中所示的,从全构成要件中省略几个构成要件而将发明提取的情况下,在实施该被提取的发明时可以用众所周知的惯用技术适当地补充省略部分。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式相关的用于交易半导体装置制造用的光掩模的系统、掩模购买者的终端及掩模制造工厂之间关系的方块图。
图2是表示使用图1所示的系统进行的掩模交易方法的流程的流程图。
图3表示的是输入掩模制作订购信息时,向掩模购买者显示的画面。
图4表示的是进行掩模制作及选择绘制方式时,对掩模购买者显示的画面。
图5表示的是在图4所示的画面中选择「依次绘制方式」或「整体绘制方式」时,向掩模购买者显示的画面。
图6表示的是在图5所示的画面中掩模购买者输入「文件名称」,选择「OK」时,向掩模购买者显示的画面。
图7是表示本发明的其他实施方式相关的用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统、掩模购买者一端的终端及掩模制造工厂之间关系的方块图。
图8表示的是图7所示的实施方式中,进行掩模制作及选择绘制方式时,对掩模购买者显示的画面。符号说明12    网络14    使用者终端20    掩模交易系统的主机装置22    购买代理(购买中介部)24    销售代理(销售中介部)26    接受订购部28    计算部30    处理方式选择部32    制作指示部40    数据库42    制作订购文件44    缴纳期限信息文件46    价格信息文件48    流水线信息文件60    掩模制造工厂
具体实施方式
本申请的发明人在开发本发明的过程中,研究了作为在掩模制品的预定价格和预定缴纳期限上存在很大差别的处理方式的代表,上述依次绘制方式与整体绘制方式。结果本案的发明人得到了如下所述的见解。
在依次绘制方式中,直到开始绘制掩模的准备中,只需要进行从半导体装置设计数据向绘制用数据的形式变换。因此,半导体装置设计完了开始到能开始掩模的绘制的时间很短。另外,掩模的图案绘制所需时间,因为依次绘制微细的图案所以会非常长。由于绘制的生产率不佳,一枚掩模所花费的绘制装置的成本增多。
另外,在整体绘制方式中,直到开始绘制掩模的准备中,需要从半导体装置设计数据制作掩模的底版。因此,与依次绘制方式相比在绘制准备上所花费的时间较长,用于制作底版的费用也是必须的。另一方面,图案绘制所需时间,由于可以一并进行较大区域的曝光,会很短。而且,由于绘制的生产率高,一枚掩模所花费的绘制装置的成本减少。
以下总结各绘制方式的特征。「」内的为相对的缺点。
            制作底版    绘制时间    一枚掩模所需装置费用依次绘制方式    不需要      「长」          「高」整体绘制方式  「需要」        短              低
从掩模缴纳期限的角度看,上表中的制作底版与绘制时间2个项目之间有关联。依次绘制方式及整体绘制方式各自拥有一个优点和一个缺点。从掩模费用的角度看,上表中的绘制时间与装置费用2个项目之间有关联。也是各绘制装置分别具有一个优点和一个缺点。如此,无论使用哪一个绘制方式绘制掩模,都不能单一性的决定缴纳期限及费用是否有利。
而且,关于掩模的缴纳期限还受到在掩模制造工厂所具有的其他掩模制作订购的数量、掩模制造工厂的各步骤的混杂情况的影响。对于掩模的价格也一样,订购多枚同一种掩模时,利用整体绘制方式,因为使得底版费用分散,故制作底版的负担相对降低。因此,期望为何种绘制方式,不能单纯考虑绘制方式自身的性能,也要考虑其他必要因素复杂地相互纠缠的可能性。
以下参照图面对基于这种见解所构成的本发明的实施方式进行说明。而且,在以下的说明中,关于具有大致相同功能及组成的构成要素,付与相同的符号,仅在必要情况做重复说明。
图1是表示本发明的实施方式相关的用于交易半导体装置制造用的光掩模的系统、掩模购买者的终端及掩模制造工厂之间关系的方块图。
在本实施方式中,掩模交易系统的主机装置(假想工厂)20被设置在通过网络12,特别是互联网(公众通信线路网)的传送线路,利用由个人电脑等构成的使用者终端14,可以存取信息的场所。因此,主机装置20,即主机计算机(Web服务器、应用服务器、数据库服务器),设有作为针对掩模购买者(顾客用户或代理营业员)进行信息交换窗口的购买代理(购买中介部)22,其与网络12连接。另外,主机装置20还设有,作为针对掩模制造销售者的掩模制造工厂60进行信息交换的窗口构成的销售代理(销售中介部)24,将该销售代理24与到掩模制造工厂60的专用线路62连接。而且,图中符号16、18分别表示调制解调器、连接服务器。
主机装置20中附设数据库40,在数据库40中形成制造订购文件42、缴纳期限信息文件44、价格信息文件46及流水线信息文件48。在制作订购文件42中存储通过购买代理22输入的包括掩模制品名称、数量及规格等信息的掩模制作订购信息。而且,掩模购买者与掩模销售者之间预先设定掩模制品名称及制品号码的情况,可以用掩模制品的名称及号码代替掩模的规格的信息。缴纳期限信息文件44中存储包括掩模制作状态与掩模的缴纳期限之间关系的缴纳期限信息。价格信息文件46中存储包含掩模制作状态与掩模价格之间关系的价格信息。
流水线信息文件48中,存储通过销售代理24随时(例如接受掩模制作订购后)输入的与掩模制造工厂60的制造流水线相关的流水线信息。在流水线信息中包括,分别执行依次绘制方式及整体绘制方式的处理流水线(装置)的状态、混杂状况、停止预定和其他处理装置、检查装置等的状态、混杂状况、停止预定及成品率等信息。另外,流水线信息中还包括,掩模制造工厂60的绘制处理装置中过去处理的与掩模相关的绘制经历。依次绘制方式及整体绘制方式,虽然在掩模的性能上能得到实质相同的结果,但在掩模的缴纳期限及价格的好否上,或根据掩模的制作枚数不同,制造所需时间的早晚及/或制作所需费用的高低上会存在正反的情况。
利用数据库40中所存储的上述信息,为实现掩模购买者与掩模销售者之间的中介,主机装置20设有接受订购部26、计算部28、处理方式选择部30、制造指示部32。接受订购部26通过购买代理22接受掩模购买者输入的上述掩模制作订购信息。计算部28则响应掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息、价格信息及流水线信息,算出使用上述依次绘制方式与整体绘制方式的每种时,每枚掩模制品的预定缴纳期限、预定价格以及每枚掩模预定缴纳期限的准确度。将代表算出的预定缴纳期限、预定价格及预定缴纳期限的准确度的信息,通过购买代理22向购买者传送,并被用于通过处理方式选择部30选择依次绘制方式及整体绘制方式中的任意一种。制作指示部32,在处理方式选择部30中选择了处理方式,且接受订购部26中选择了进行掩模的制作的情况下,通过销售代理24向掩模制造工厂60传送掩模制作订购的信息。
在掩模制造工厂60中,掩模的制造流水线由计算机等构成的制造流水线管理部64进行管理。对于掩模交易系统的主机装置20,掩模制造工厂60仅用计算机等构成的数据管理部66连接。制造流水线管理部64数据管理部66连接到共同的工厂数据库68上。在工厂数据库68中,存储掩模交易系统的主机装置20间交换的信息,即包括上述掩模购买者输入的掩模制作订购信息、分别实施依次绘制方式及整体绘制方式的处理流水线(装置)相关的信息的流水线信息等。
图2是表示使用图1所示的系统进行的掩模交易方法的流程的流程图。以下参照图2对本发明的实施方式相关的掩模交易方法进行说明。
首先,掩模购买者通过网络12将使用者终端14与掩模交易系统的主机装置20连接。在此,若连接中必须设定ID及密码,在主机装置20中,可以只有合同关系中的特定使用者可以访问。其次,掩模购买者将包含掩模制品名称、数量及规格等信息的掩模制作订购,通过购买代理22输入到接受订购部26(步骤G1)。接受订购部26将已输入的掩模制作订购,存储于数据库40的制作订购文件42中。
图3表示的是输入掩模制作订购信息时,向掩模购买者显示的画面。在图3中,「制品名称」在掩模购买者与掩模制造工厂60之间预先设定掩模制品名称及制品号码的情况下可以使用。即根据情况,可以用掩模制品名称和制品号码代替掩模规格的信息。另外,「数据规模」与「芯片尺寸」是掩模规格的一部分。图3所示画面中若选择「回答要求」,这些信息将通过连接服务器18向主机装置20传送。
输入掩模制作订购信息,接受订购部26判断是否能够制作制作订购的掩模。不能制作掩模时,将该意思向掩模购买者传达,交易不成立。由于这一点不是本实施方式的特征点,在此省略说明。可以制作掩模时,接受订购部26向掩模制造工厂60查询掩模制造流水线相关的流水线信息。
响应来自接受订购部26的查询,通过销售代理24从掩模制造工厂60输入最新的流水线信息(步骤G2),籍此更新流水线信息文件44中的流水线信息。在流水线信息中,包括用于分别执行依次绘制方式及整体绘制方式的处理流水线(装置)的状态、混杂状况、停止预定以及其他处理装置、检查装置等的状态、混杂状况、停止预定及成品率等信息。另外,流水线信息中还包括,掩模制造工厂60的绘制处理装置中过去是否处理过与掩模制作订购相应的掩模的绘制经历。而且缴纳期限信息文件44及价格信息文件46中存储包含掩模制作状态与掩模缴纳期限及价格之间关系的缴纳期限信息及价格信息。
接着,计算部28参照上述缴纳期限信息、价格信息及最新的流水线信息,计算出在分别使用依次绘制方式及整体绘制方式时,每枚掩模制品的预定缴纳期限、预定价格及每枚掩模制品的预定缴纳期限的准确度(步骤G3)。在此,计算分别使用依次绘制方式及整体绘制方式的情况中,每枚掩模制品的预定缴纳期限及其准确度的方式如下所述。
首先,利用依次绘制方式时,制作掩模所需时间为下述时间的总和,T1:绘制等待时间(120h);T2:NG掩模的步骤平均滞留时间(80h);T3:NG掩模的再绘制平均等待时间(100h);T4:绘制以外的步骤平均时间(150h)。从这些参数预想缴纳期限,但已有的掩模制作,即使如以往技术所叙述的那样进行,因为伴随微小化的成品率恶化,进行1次绘制得到佳品的可能性很低。制作步骤中变为NG时,用于从绘制进行的缴纳期限上产生很大的区别。为了预测正确的缴纳期限,必须预测每次绘制的缴纳期限。
第1次的绘制中,得到佳品时的缴纳期限为(T1+T4)=270h=11日,另外,步骤中变为NG时为(T1+T2+T3+T4)=470h=20日,第2次的掩模也变为NG时,进行第3次绘制,缴纳期限为(T1+T2+T3+T2+T3+T4)=670h=28日。
另外,使用整体绘制方式时,已接受订购的掩模,根据必须用初版物重新制作底版还是用再版中已存在的底版,缴纳期限及价格会不同。必须用初版制作底版的情况,制作掩模所需时间为下列时间的总和,T11:底版准备时间(240h);T2:NG掩模的步骤平均滞留时间(80h);T13:NG掩模的再绘制平均等待时间(5h);T4:绘制以外的步骤平均时间(150h)。同样可以依据这些参数等计算每次绘制的缴纳期限。第1次绘制得到佳品的缴纳期限为(T11+T4)=390h=16日,第2次绘制为(T11+T2+T13+T4)=475h=20日,第3次绘制为(T11+T2+T13+T2+T13+T4)=560h=23日。
接着,计算部30紧接预定缴纳期限的计算,对预定缴纳期限的准确度进行计算。此时,计算部30参照流水线信息文件44内的流水线信息所包含的掩模制品的成品率。例如,依次绘制方式的成品率为35%,希望为3枚掩模时,3枚均一次完成的概率为35%的3次方即概率为4%。若3枚中有2枚为佳品则概率为23%。若3枚中有1枚为佳品则概率为44%。若3枚均为次品则概率为28%。实际上,在第1次的绘制中,虽然所希望的3枚掩模的其中1枚为可缴纳制品的可能性高,但可知2、3枚可用的可能性低。在使用依次绘制方式及整体绘制方式的整个过程中,每枚已接受制作订购的掩模及每次绘制都要进行这种预定缴纳期限的准确度计算。
代表用上述状态计算出的预定缴纳期限、预定价格及预定缴纳期限的准确度的信息,由处理方式选择部30,通过购买代理22向掩模购买者传送(步骤G4)。掩模购买者基于传送的计算结果,选择是否使掩模制作进行执行依次绘制方式及整体绘制方式的哪一种(步骤G5)。
图4表示的是进行掩模制作及选择绘制方式时,对掩模购买者显示的画面。如图4所示,在该画面中,一同显示了分别使用依次绘制方式及整体绘制方式时每枚掩模制品的预定缴纳期限(这里为所需日数)及绘制次数。另外,作为代表每枚掩模的预定缴纳期限的准确度的信息,准确度最高的缴纳期限用黑体字表示。并且,将1枚掩模制品的价格与2枚以后的价格(追加单价)用每枚的预定价格表示。而且,为整体绘制方式时,1枚掩模制品的价格中包括制作底版的费用,因此,底版已经存在的情况下,掩模制品的价格为从1枚开始的追加单价。还有,在图4的画面中,若选择「详细」,则显示预定缴纳期限的准确度的更详细信息及预定价格的总计额的内容。
掩模购买者对传送的计算结果不满意时,在图4所示的画面中选择「讨论其他工厂」(步骤G6),则掩模交易不成立。而且,此时主机装置20可以设定自动切换从掩模制造工厂60向其他掩模制造销售者或掩模制造工厂的连接。另外,在图4所示的画面中若选择「依次绘制方式」或「整体绘制方式」,显示在图5所示的画面。
如图5所示,在该画面中,向掩模购买者显示与掩模制作订购对应的设计数据的发送地址。如果在图5所示的画面中掩模购买者输入「文件名称」,选择「OK」(步骤G8),则显示如图6所示的画面。图6所示的画面为定货确认画面,此处再次选择「OK」(步骤G8),完成正式的定货。而且,图5及图6所示的画面中若选择「取消」,则掩模交易不成立。
主机装置20将确认后的掩模制作订购与预定缴纳期限及预定价格一起存储于制作订购文件42中。而且,制作指示部32通过销售代理24,向掩模制造工厂60的数据管理部66传送掩模制作订购。数据管理部66一接收掩模制作订购,就在所选择方式的绘制处理流水线的等待队列中追加该掩模制作订购信息(步骤G9)。
另外,图1所示的实施方式中,虽然掩模交易系统的主机装置20仅与1个掩模制造工厂60连接,但也有将多个掩模制造工厂并联或串联地主机装置20连接的可能。还有,掩模交易系统的主机装置20仅与1个掩模制造工厂60连接时,掩模制造工厂60的数据管理部66与掩模交易系统的主机装置20可以一体化。
图7为表示本发明的其他实施方式相关的用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统、掩模购买者一侧的终端与掩模制造工厂之间关系的方块图。在该实施方式中,主机装置20上连接有3个掩模制造工厂60a、60b、60c。而且,主机装置20与各掩模制造工厂60a、60b、60c之间的关系与图1所示的构成相同。
本实施方式中,在图3所示的画面中若选择「回答要求」,代替图4所示的画面而出现图8所示的画面。而且,虽然在图8所示的画面中,作为预定价格只显示了总和价格,但若在该画面中选择「详细」,也会显示图4所示的画面中显示的1枚的价格和追加单价等的详细信息。在图8所示的画面中,掩模购买者可以选择缴纳期限及价格的任意一个为优先项目。图8显示了选择缴纳期限作为优先项目的情形。掩模购买者根据这些显示的信息,可以选择与自己的条件最合适的掩模制造工厂及绘制方式。
在上述实施方式中,依次绘制方式及整体绘制方式虽然在掩模的性能上能得到实质相同的结果,但在掩模的缴纳期限及价格的好否上,或根据掩模的制作枚数不同制造所需时间的快慢及/或制作所需费用的高低上会存在正好相反的情况。但是,绘制方式以外的处理方式中,若存在与该条件适合的处理方式,本发明同样可以适用。
另外,在本发明的精神范畴中,本领域技术人员可以想到的各种变化及修改,这些变化及修改均属于本发明的范围。
如上所述,采用本发明,可以提供一种依据掩模购买者与掩模贩卖者之间密切的信息交换,实现更合乎掩模购买者意愿的掩模制作订购的掩模交易系统及方法。

Claims (16)

1、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,用于通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,用于存储包含通过上述购买中介部输入的掩模的规格及数量的掩模制造订购信息;
缴纳期限信息存储部,用于存储包括掩模制造状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息;
价格信息存储部,用于存储包括掩模制造状态与掩模价格之间关系的价格信息;
流水线信息存储部,用于存储包括在掩模制造工厂中制作掩模时,进行虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但掩模的缴纳期限及价格的好否相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,用于响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息、上述价格信息及上述流水线信息,算出使用上述多种处理方式的每个的掩模制品的预定缴纳期限及预定价格;以及
处理方式选择部,用于通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述掩模制品的预定交纳期限及预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
2、权利要求1中所述的掩模交易系统,其特征在于,上述多个处理方式包括具有根据掩模制作枚数制作所需时间的快慢相反情况的处理方式;上述计算部计算在分别使用上述多个处理方式时每枚掩模制品的预定缴纳期限;上述处理方式选择部,通过购买中介部向掩模购买者传送每枚掩模的预定缴纳期限。
3、如权利要求2中所述的掩模交易系统,其特征在于,上述计算部计算出上述每枚掩模的预定缴纳期限的准确度,上述处理方式选择部则通过购买中介部,向掩模购买者传送代表每枚掩模的预定缴纳期限准确度的信息。
4、如权利要求1中所述的掩模交易系统,其特征在于,上述多个处理方式,包括具有根据掩模制作枚数的不同制作所需费用的高低相反情况的处理方式;上述计算部计算出在分别使用上述多个处理方式情况下,每枚掩模制品的预定价格;上述处理方式选择部,通过购买中介部向上述掩模购买者传送上述每枚掩模的预定价格。
5、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,用于通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,用于存储包含通过上述购买中介部输入的掩模的规格及数量的掩模制造订购信息;
缴纳期限信息存储部,用于存储包括掩模制造状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息;
流水线信息存储部,用于存储包括在掩模制造工厂中制作掩模时,进行虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须时间的快慢相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,用于响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息及上述流水线信息,算出使用上述多种处理方式的每种时每枚掩模制品的预定缴纳期限;以及
处理方式选择部,用于通过上述购买中介部,向上述掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定交纳期限,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
6、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模的系统,其特征在于,该系统包括:
购买中介部,用于通过网络对掩模购买者交换信息;
制造订购存储部,用于存储包含通过上述购买中介部输入的掩模的规格及数量的掩模制造订购信息;
价格信息存储部,用于存储包括掩模制造状态与掩模价格之间关系的价格信息;
流水线信息存储部,用于存储包括在掩模制造工厂中制作掩模时,进行虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须费用的高低相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息;
计算部,响应上述掩模制作订购,参照上述价格信息及上述流水线信息,算出使用上述多种处理方式的每种时每枚掩模制品的预定价格;以及
处理方式选择部,通过上述购买中介部,向上述掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种。
7、如权利要求1~6中任意一项所述的掩模交易系统,其特征在于,进一步设有与掩模销售者进行信息交换的销售中介部,输入上述掩模制作订购后,通过上述销售中介部根据输入的上述处理流水线相关的信息更新上述流水线信息。
8、如权利要求1~6中任意一项所述的掩模交易系统,其特征在于,上述多个处理方式包括,依次绘制掩模图案的第1处理方式和用底版整体绘制掩模图案的第2处理方式。
9、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模,利用具有通过网络与掩模购买者进行信息交换的购买中介部的系统的掩模交易方法,其特征在于,该方法包括:
存储通过上述购买中介部输入的包含掩模规格及数量的掩模制作订购信息的步骤;
存储包含掩模的制作状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息的步骤;
存储包含掩模的制作状态与掩模价格之间关系的价格信息的步骤;
存储包含在掩模制造工厂中制作掩模时,进行虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但掩模的缴纳期限及价格的好否相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息的步骤;
响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息、价格信息及上述流水线信息,计算出分别使用上述多个处理方式时掩模制品的预定缴纳期限以及预定价格的步骤;以及
通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述掩模制品的预定缴纳期限及预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种的步骤。
10、如权利要求9中所述的掩模交易方法,其特征在于,上述多个处理方式包括具有根据掩模制作枚数的不同制作所需时间的早晚相反情况的处理方式;上述掩模交易方法还包括:计算出分别使用上述多个处理方式时每枚掩模制品的预定缴纳期限的步骤;以及通过上述购买中介部向上述掩模购买者传送每枚掩模制品的预定缴纳期限的步骤。
11、如权利要求10中所述的掩模交易方法,其特征在于,还包括:计算出上述每枚掩模制品的预定缴纳期限准确度的步骤;以及通过上述购买中介部向上述掩模购买者传送代表每枚掩模制品的预定缴纳期限准确度的信息的步骤。
12、如权利要求9中所述的掩模交易方法,其特征在于,上述多个处理方式包括具有根据掩模制作枚数的不同制作所需费用的高低相反情况的处理方式;上述掩模交易方法还包括:计算出分别使用上述多个处理方式时每枚掩模制品的预定价格的步骤;以及通过上述购买中介部向上述掩模购买者传送每枚掩模制品的预定价格的步骤。
13、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模,利用设置有通过网络与掩模购买者进行信息交换的购买中介部的系统进行的掩模交易方法,其特征在于,该方法包括:
通过网络与掩模购买者进行信息交换的步骤;
存储通过上述购买中介部输入的包含掩模规格及数量的掩模制作订购信息的步骤;
存储包含掩模的制作状态与掩模缴纳期限之间关系的缴纳期限信息的步骤;
存储包含在掩模制造工厂中制作掩模时,进行存在虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须时间的快慢相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息的步骤;
响应上述掩模制作订购,参照上述缴纳期限信息及上述流水线信息,计算出分别使用上述多个处理方式时每枚掩模制品的预定缴纳期限的步骤;
通过上述购买中介部,向上述掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定缴纳期限,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种的步骤。
14、一种用于交易制造半导体装置用的光掩模,利用设置有通过网络与掩模购买者进行信息交换的购买中介部的系统进行的掩模交易方法,其特征在于,该方法包括:
通过网络与掩模购买者进行信息交换的步骤;
存储通过上述购买中介部输入的包含掩模规格及数量的掩模制作订购信息的步骤;
存储包含掩模的制作状态与掩模价格之间关系的价格信息的步骤;
存储包含在掩模制造工厂中制作掩模时,进行存在虽然在掩模的功能上得到实质相同的结果,但因为制造枚数不同制造所须费用的高低相反的多种处理方式的各个处理流水线相关的信息的流水线信息的步骤;
响应上述掩模制作订购,参照上述价格信息及流水线信息,计算出分别使用上述多个处理方式时每枚掩模制品的预定价格的步骤;以及
通过上述购买中介部,向掩模购买者传送上述每枚掩模制品的预定价格,使其选择执行上述多种处理方式的任意一种的步骤。
15、如权利要求9至14中任意一项所述的掩模交易方法,其特征在于,上述系统还设置有与掩模销售者进行信息交换的销售中介部;上述掩模交易方法还包括,输入上述掩模制作订购信息后,通过上述销售中介部根据输入的上述处理流水线相关的信息更新上述流水线信息的步骤。
16、如权利要求9至14中任意一项所述的掩模交易方法,其特征在于,上述多个处理方式包括:依次绘制掩模图案的第1处理方式和用底版整体绘制掩模图案的第2处理方式。
CN02142752A 2001-09-21 2002-09-20 掩模交易系统及方法 Pending CN1410927A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP290120/2001 2001-09-21
JP2001290120A JP2003099634A (ja) 2001-09-21 2001-09-21 マスク取引システム及び方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1410927A true CN1410927A (zh) 2003-04-16

Family

ID=19112503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN02142752A Pending CN1410927A (zh) 2001-09-21 2002-09-20 掩模交易系统及方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20030074274A1 (zh)
JP (1) JP2003099634A (zh)
KR (1) KR100490568B1 (zh)
CN (1) CN1410927A (zh)
TW (1) TWI223175B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100530006C (zh) * 2006-05-29 2009-08-19 台湾积体电路制造股份有限公司 改变晶圆在制品制程流的方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002287329A (ja) * 2001-03-28 2002-10-03 Mitsubishi Electric Corp フォトマスクの製造者を選定する選定装置、フォトマスクの製造者を選定する選定方法、およびフォトマスクの製造者を選定するためのプログラム

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4131472A (en) * 1976-09-15 1978-12-26 Align-Rite Corporation Method for increasing the yield of batch processed microcircuit semiconductor devices
US5442561A (en) * 1992-05-12 1995-08-15 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Production management system and its application method
US6240400B1 (en) * 1998-02-17 2001-05-29 International Business Machines Corporation Method and system for accommodating electronic commerce in the semiconductor manufacturing industry
US6221538B1 (en) * 1998-03-02 2001-04-24 Motorola, Inc. Method for automating manufacture of photomask
JP3547990B2 (ja) * 1998-04-10 2004-07-28 株式会社クラステクノロジー 生産管理システム、生産管理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
KR20010086665A (ko) * 2000-03-02 2001-09-15 홍미희 반도체 전자상거래 시스템 및 운영방법
JP2001350970A (ja) * 2000-06-08 2001-12-21 Dainippon Printing Co Ltd 生産状況提示システム
US6622295B1 (en) * 2000-07-05 2003-09-16 Dupont Photomasks, Inc. Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks
KR20010025447A (ko) * 2000-12-28 2001-04-06 홍석신 중장비 부품분류 방법 및 이를 이용한 전자 상거래 서비스방법
US6999949B2 (en) * 2000-12-29 2006-02-14 International Business Machines Corporation Method, system and program product for providing an electronic order confirmation in an electronic transaction
US7218980B1 (en) * 2001-07-23 2007-05-15 Esilicon Corporation Prediction based optimization of a semiconductor supply chain using an adaptive real time work-in-progress tracking system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100530006C (zh) * 2006-05-29 2009-08-19 台湾积体电路制造股份有限公司 改变晶圆在制品制程流的方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030025830A (ko) 2003-03-29
TWI223175B (en) 2004-11-01
US20030074274A1 (en) 2003-04-17
JP2003099634A (ja) 2003-04-04
KR100490568B1 (ko) 2005-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7146331B1 (en) Method and system for supplier prioritization
US8036905B2 (en) Method and system for processing the local return of remotely purchased products
US7865406B2 (en) Methods and systems for electronic commerce facility client-based presentation offer management
US7295989B2 (en) Method and system for providing direct and indirect sales channels for goods or services from a single point of purchase
US20030110047A1 (en) Automatic auction bid cancellation method and system
KR102011376B1 (ko) 쇼핑몰 운영 관리 시스템
US20080235147A1 (en) System and method for facilitation of shipping from multiple merchandise vendors
CN102024234B (zh) 电子交易服务平台
CN1363067A (zh) 具有价格改进机制的拍卖市场
US7536362B2 (en) Method for selecting an optimal balance between direct cost and a number of suppliers
US7596543B2 (en) Systems and methods for processing electronic documents in a computer network
Kong et al. An e‐commerce system for construction material procurement
US20040006530A1 (en) Automated lotting
US20060041517A1 (en) System, method and apparatus for exchanging currency, goods and services using a public network
CN1383520A (zh) 接收定单的设备和方法,存储介质和用于累积分服务的方法
CN1410927A (zh) 掩模交易系统及方法
US20050177468A1 (en) Request for quote system and method
JP2005500586A (ja) 商品等受注システム及び商品等受注方法を含む、商品生産・企画・販売・受注を統合する装置と方法、およびシステム
CN1383519A (zh) 接收定单的设备和方法,存储介质和用于累积分服务的方法
CN1570931A (zh) 物料统一采购管理方法及系统
US7499879B2 (en) Cooperative e-business complex
KR20010104792A (ko) 인터넷상으로 산업분야별 부품의 판매/구매 정보 공유를이용한 전자 상거래 방법
Mori et al. Proposal of application architecture in electronic commerce service between companies
KR20000050100A (ko) 인터넷을 이용한 중소기업의 경쟁력 강화와 지원 시스템및 방법
JP7193190B1 (ja) 製造委託支援システム、製造委託支援プログラム、製造委託支援方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication