CN1247447A - X射线装置 - Google Patents

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    • G01N2223/40—Imaging
    • G01N2223/419—Imaging computed tomograph

Abstract

本发明涉及一种X射线装置,它具有一个装配体(1);一个安装在该装置配体(1)上的X射线源支架(6),其内安装一个X射线源(10);以及一个X射线探测器支架(8),其内安装一个X射线探测器(11),其中,为了使该X射线装置能正常运行,必须在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源(10)与X射线探测器(11)的相对位置。按照本发明设定了一个射线源公差、一个探测器公差、一个射线源支架公差和一个探测器支架公差;其中这样来选择它们,即,使所有结构组件公差之和最大才与总公差一样大。

Description

X射线装置
本发明涉及一种X射线装置，它具有一个装配体，一个安装在该装配体上的X射线源以及一个安装在装配体上的X射线探测器，其中，为了使该X射线装置能正常运行，必须在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源与X射线探测器的相对位置。
这类X射线装置例如已由US 5 020 089、US 5 473 657、US 4 187 429和1991年日本专利JP 3-46 797A专利摘要所公知。在此，在装配好各部件之后，有必要校正X射线源和X射线探测器的相对位置，即相对移动各部件。这种校正既可以手动也可以自动进行。
这种校正费时费钱又麻烦。此外，这种校正只能由专业人员来操作。X射线也可能照射到操作人员。
本发明的目的在于创制一种X射线装置，使之避免现有技术的缺点。
本发明的目的是通过这样一种X射线装置来实现的，该装置具有一个装配体；一个安装在该装配体上的X射线源支架，其内安装一个X射线源；以及一个X射线探测器支架，其内安装一个X射线探测器，其中，为了使该X射线装置能正常运行，必须在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源与X射线探测器的相对位置，
-其中，所述X射线源和X射线源支架具有共同起作用的射线源校正工具，它们在组装所述X射线源支架时强制性地在一个射线源公差范围内精确地校正所述X射线源与X射线源支架的相对位置；
-其中，所述X射线探测器和X射线探测器支架具有共同起作用的探测器校正工具，它们在组装所述X射线探测器支架时强制性地在一个探测器公差范围内精确地校正所述X射线探测器与X射线探测器支架的相对位置；
-其中，所述X射线源支架和装配体具有共同起作用的射线源支架校正工具，它们在将所述X射线源支架装配在该装配体上时强制性地在一个射线源支架公差范围内精确地校正所述X射线源支架与装配体的相对位置；
-其中，所述X射线探测器支架和装配体具有共同起作用的探测器支架校正工具，它们在将所述X射线探测器支架装配在该装配体上时强制性地在一个探测器支架公差范围内精确地校正所述X射线探测器支架与装配体的相对位置；
-其中，射线源公差、探测器公差、射线源支架公差和探测器支架公差之和最大才与总公差一样大。
十分明显，在本发明中必须强制性地确保总公差，从而无需相对移动各部件来进行校正。
为了检测所述校正必需进行试样测量。在此，测量试样必须安装在射线行程中的确定位置。所述X射线装置优选这样来构造：
-所述装配体和一个安装在该装配体上的试样支架具有共同起作用的试样支架校正工具，它们在将所述试样支架装配在该装配体上时强制性地在一个试样支架公差范围内精确地校正所述试样支架与装配体的相对位置；
-所述试样支架和一个安装在该试样支架上的测量试样具有共同起作用的试样校正工具，它们在将所述测量试样装配在该试样支架上时强制性地在一个试样公差范围内精确地校正所述测量试样与试样支架的相对位置；
所述共同起作用的校正工具可被构造成例如止动元件、校正孔和校正销或校正平面。当采用校正孔和校正销结构时，校正销优选至少在一个局部段被构造成锥形。
下面借助附图所示实施例对本发明的其他优点和细节作进一步详细说明，附图均为示意图，附图中：
图1示出一计算机层析X射线摄影机的横断面；
图2示出一装配体侧剖面；
图3示出一X射线源支架；
图4示出一X射线探测器支架；
图5示出另一计算机层析X射线摄影机的横断面；
图6示出另一装配体侧剖面；
图7示出一安装了各X射线部件的装配体。
如图1所示，作为一X射线装置的一计算机层析X射线摄影机具有一装配体1，它例如可借助于一部电动机2和一传动皮带3而转动。该装配体1也可例如由一环形电动机或一摩擦轮驱动。该装配体具有射线源支架校正工具4和探测器支架校正工具5。
如图2所示，所述装配体1的射线源支架校正工具4和探测器支架校正工具5被构造成圆柱形校正销4、5。所述校正销4、5(至少在前部段)也可以被构造成锥形。也可以选择将所述装配体1的射线源支架校正工具4和/或探测器支架校正工具5构造成止动元件或校正平面。
图3所示的X射线源支架6同样具有射线源支架校正工具7，它们在图示实施例情况下被构造成校正孔7。所述X射线源支架6的射线源支架校正工具7与所述装配体1的射线源支架校正工具4共同起作用。通过射线源支架校正工具4、7的共同作用，在将所述X射线源支架6装配在该装配体1上时强制性地在一个射线源支架公差范围内精确地校正所述X射线源支架6与装配体1的相对位置。
图4所示的X射线探测器支架8同样具有探测器支架校正工具9，它们在本实施例中同样被构造成校正孔9。所述X射线探测器支架8的探测器支架校正工具9与所述装配体1的探测器支架校正工具5共同起作用。由此，在将所述X射线探测器支架8装配在该装配体1上时强制性地在一个射线探测器支架公差范围内精确地校正所述X射线探测器支架8与装配体1的相对位置。
在所述X射线源支架6内安装一X射线源10。不仅该X射线源10而且该X射线源支架6具有共同起作用的射线源校正工具，这些工具被构造成和射线源支架校正工具4、7或探测器支架校正工具5、9相类似。通过射线源校正工具的共同作用，在组装所述X射线源支架6时强制性地在一个射线源公差范围内精确地校正所述X射线源10与X射线源支架6的相对位置。为图示清晰起见而未示出的光阑等部件可有选择性地与所述X射线源支架6或X射线源10配置。当然，在组装所述X射线源支架6时强制性地同步校正它们。
同样在所述X射线探测器支架8内安装一X射线探测器11。该X射线探测器11和X射线探测器支架8具有共同起作用的探测器校正工具。通过探测器校正工具的共同作用，在组装所述X射线探测器支架8时强制性地在一个探测器公差范围内精确地校正所述X射线探测器11与X射线探测器支架8的相对位置。在此，X射线源支架6的光阑的总体情形同样适合于为清晰起见而未示出的光阑等部件。
为了使该计算机层析X射线摄影机能正常运行，必须在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源10与X射线探测器11的相对位置。通过适当选择射线源公差、探测器公差、射线源支架公差和探测器支架公差，可以达到这些公差之和最大才与总公差一样大。从而通过X射线源支架6和X射线探测器支架8的简单组装以及随后将X射线源支架6和X射线探测器支架8装配在装配体1上，即可达到强制性地在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源10与X射线探测器11的相对位置。不再需要精密校正。
图5示出另一计算机层析X射线摄影机，其中，所述X射线源支架6与X射线探测器支架8已被固定在所述装配体1上。该装配体另有一试样支架校正工具12。该试样支架校正工具12如图6所示被构造成止动元件。因为在该种条件下一种单向校正就已足够，因此该试样支架校正工具12也可被构造成校正平面。
由图7清晰示出的安装在装配体1上的试样支架13具有与所述试样支架校正工具12共同起作用的试样支架校正工具。通过这些工具，在将该试样支架装配在装配体1时可强制性地在一个试样支架公差范围内精确地校正所述试样支架13与装配体1的相对位置。
同样所述试样支架13和一安装在该试样支架13上的测量试样14具有共同起作用的试样校正工具。通过这些校正工具，在将该测量试样14装配在试样支架13时可强制性地在一个试样公差范围内精确地校正所述测量试样与试样支架13的相对位置。在此，射线源公差、探测器公差、射线源支架公差、探测器支架公差、试样支架公差和试样公差之和同样优选小于总公差。
附图标记清单：
1装配体
2电动机
3传动皮带
4、7射线源支架校正工具
5、9探测器支架校正工具
6 X射线源支架
8 X射线探测器支架
10 X射线源
11 X射线探测器
12 试样支架校正工具13 试样支架14 测量试样

Claims (6)

1.一种X射线装置，它具有一个装配体(1)；一个安装在该装配体(1)上的X射线源支架(6)，其内安装一个X射线源(10)；以及一个X射线探测器支架(8)，其内安装一个X射线探测器(11)，其中，为了使该X射线装置能正常运行，必须在一个总公差范围内精确地校正所述X射线源(10)与X.射线探测器(11)的相对位置，
-其中，所述X射线源(10)和X射线源支架(6)具有共同起作用的射线源校正工具，该工具在组装所述X射线源支架(6)时强制性地在一个射线源公差范围内精确地校正所述X射线源(10)与X射线源支架(6)的相对位置，
-其中，所述X射线探测器(11)和X射线探测器支架(8)具有共同起作用的探测器校正工具，该工具在组装所述X射线探测器支架(8)时强制性地在一个探测器公差范围内精确地校正所述X射线探测器(11)与X射线探测器支架(8)的相对位置，
-其中，所述X射线源支架(6)和装配体(1)具有共同起作用的射线源支架校正工具(4、7)，它们在将所述X射线源支架(6)装配在该装配体(1)上时强制性地在一个射线源支架公差范围内精确地校正所述X射线源支架(6)与装配体(1)的相对位置，
-其中，所述X射线探测器支架(8)和装配体(1)具有共同起作用的探测器支架校正工具(5、9)，它们在将所述X射线探测器支架(8)安装在该装配体(1)上时强制性地在一个探测器支架公差范围内精确地校正所述X射线探测器支架(6)与装配体(1)的相对位置，
-其中，射线源公差、探测器公差、射线源支架公差和探测器支架公差之和最大才与总公差一样大。
2.按照权利要求1所述的X射线装置，
-其中，所述装配体(1)和一个安装在该装配体(1)上的试样支架(13)具有共同起作用的试样支架校正工具(12)，它们在将所述试样支架(13)装配在该装配体(1)上时强制性地在一个试样支架公差范围内精确地校正所述试样支架(13)与装配体(1)的相对位置，
-其中，所述试样支架(13)和一个安装在该试样支架(13)上的测量试样(14)具有共同起作用的试样校正工具，它们在将所述测量试样(14)装配在该试样支架(13)上时强制性地在一个试样公差范围内精确地校正所述测量试样(14)与试样支架(13)的相对位置。
3.按权利要求1或2所述的X射线装置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被构造成止动元件(12)。
4.按权利要求1或2所述的X射线装置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被构造成校正平面(12)。
5.按权利要求1或2所述的X射线装置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被构造成校正孔(7、9)和校正销(4、5)。
6.按权利要求5所述的X射线装置，其中，所述校正销(4、5)至少在一个局部段被构造成锥形。
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